[發(fā)明專利]曝光裝置有效
| 申請(qǐng)?zhí)枺?/td> | 201710020518.5 | 申請(qǐng)日: | 2017-01-12 |
| 公開(公告)號(hào): | CN107039226B | 公開(公告)日: | 2018-09-14 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | 濱口新一;田中仁;得能敦;小島信一;山田章夫 | 申請(qǐng)(專利權(quán))人: | 株式會(huì)社愛德萬(wàn)測(cè)試 |
| 主分類號(hào): | H01J37/06 | 分類號(hào): | H01J37/06;H01J37/12;H01J37/147;H01J37/22;G03F7/20 |
| 代理公司: | 北京三友知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理有限公司 11127 | 代理人: | 李輝;黃綸偉 |
| 地址: | 日本*** | 國(guó)省代碼: | 日本;JP |
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| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 曝光 裝置 | ||
1.一種曝光裝置,其具有形成試樣上的照射位置不同的多個(gè)帶電粒子束的形成部,其特征在于,
所述形成部具有:
粒子源,其從在長(zhǎng)邊方向和與該長(zhǎng)邊方向垂直的短邊方向上具有不同寬度的放射區(qū)域放射帶電粒子束;
孔徑陣列元件,其在長(zhǎng)邊方向和與該長(zhǎng)邊方向垂直的短邊方向上具有不同寬度的被照明區(qū)域上配置有多個(gè)開口;
照明透鏡,其設(shè)置于所述粒子源與所述孔徑陣列元件之間;以及
束截面變形元件,其設(shè)置于所述粒子源與所述孔徑陣列元件之間,通過磁場(chǎng)或電場(chǎng)的作用,增大帶電粒子束截面的長(zhǎng)邊方向的寬度,縮小其短邊方向的寬度,使所述帶電粒子束的截面形狀變形為與所述放射區(qū)域的形狀相比更細(xì)長(zhǎng)地拉伸后的形狀;
所述照明透鏡由作為配置位置不同的至少兩個(gè)照明透鏡的粒子源側(cè)照明透鏡和孔徑陣列側(cè)照明透鏡構(gòu)成;
所述束截面變形元件配置于所述粒子源側(cè)照明透鏡與所述孔徑陣列側(cè)照明透鏡之間的、由所述粒子源側(cè)照明透鏡形成所述放射區(qū)域的像的位置處。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的曝光裝置,其特征在于,
所述粒子源具有:
陰極部,其在末端具有在長(zhǎng)邊方向和與該長(zhǎng)邊方向垂直的短邊方向上具有不同寬度的帶電粒子的產(chǎn)生部;以及
控制電極,其具有在長(zhǎng)邊方向和與該長(zhǎng)邊方向垂直的短邊方向上的寬度不同的開口。
3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的曝光裝置,其特征在于,
所述控制電極的開口的長(zhǎng)邊方向與所述產(chǎn)生部的長(zhǎng)邊方向平行,從所述粒子源的束放射方向觀察時(shí),將所述控制電極的開口的短邊方向的寬度二等分的線與將所述產(chǎn)生部的短邊方向的寬度二等分的線一致。
4.根據(jù)權(quán)利要求1至3中任意一項(xiàng)所述的曝光裝置,其特征在于,
所述照明透鏡是關(guān)于帶電粒子束通過的光軸軸對(duì)稱的帶電粒子束透鏡。
5.根據(jù)權(quán)利要求1至3中任意一項(xiàng)所述的曝光裝置,其特征在于,
所述照明透鏡是無旋轉(zhuǎn)組合透鏡。
6.根據(jù)權(quán)利要求1至3中任意一項(xiàng)所述的曝光裝置,其特征在于,
所述孔徑陣列元件的所述被照明區(qū)域設(shè)置于與所述照明透鏡形成所述放射區(qū)域的像的位置不同的位置處。
7.根據(jù)權(quán)利要求2或3所述的曝光裝置,其特征在于,
所述產(chǎn)生部為矩形,該產(chǎn)生部的長(zhǎng)邊寬度與短邊寬度的比是5以上且50以下。
8.根據(jù)權(quán)利要求1至3中任意一項(xiàng)所述的曝光裝置,其特征在于,
所述孔徑陣列元件的所述被照明區(qū)域的長(zhǎng)邊方向?qū)挾扰c短邊方向?qū)挾鹊谋仁?00以上且1000以下。
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