[發(fā)明專利]一種改變GaAs/AlGaAs二維電子氣中線偏振光致電流隨溫度變化趨勢的方法有效
| 申請?zhí)枺?/td> | 201710016991.6 | 申請日: | 2017-01-11 |
| 公開(公告)號: | CN106611707B | 公開(公告)日: | 2019-08-09 |
| 發(fā)明(設(shè)計)人: | 俞金玲;曾曉琳;程樹英;陳涌海;賴云鋒;鄭巧 | 申請(專利權(quán))人: | 福州大學(xué) |
| 主分類號: | H01L21/335 | 分類號: | H01L21/335;H01L29/06;H01L21/66;B82Y30/00 |
| 代理公司: | 福州元創(chuàng)專利商標(biāo)代理有限公司 35100 | 代理人: | 蔡學(xué)俊 |
| 地址: | 350108 福建省福州市*** | 國省代碼: | 福建;35 |
| 權(quán)利要求書: | 查看更多 | 說明書: | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 一種 改變 gaas algaas 二維 電子 中線 偏振光 致電 溫度 變化 趨勢 方法 | ||
本發(fā)明涉及一種改變GaAs/AlGaAs二維電子氣中線偏振光致電流隨溫度變化趨勢的方法,過改變?nèi)肷浼す獠ㄩL有效調(diào)控GaAs/AlGaAs二維電子氣中線偏振光致電流隨溫度變化趨勢。本發(fā)明的方法調(diào)控效果顯著,實施簡便。
技術(shù)領(lǐng)域
本發(fā)明涉及半導(dǎo)體及固體電子學(xué)領(lǐng)域,特別是一種改變GaAs/AlGaAs二維電子氣中線偏振光致電流隨溫度變化趨勢的方法。
背景技術(shù)
線偏振光致電流與光致激發(fā)過程、聲子散射、靜態(tài)缺陷散射、載流子在非對稱中心散射及光子搖曳效應(yīng)等相關(guān)。研究線偏振光致電流有利于制備實用的線偏振相關(guān)光電器件,例如偏振探測器、線偏振光伏器件、及光開關(guān)等。研究線偏振光電流隨溫度變化趨勢的調(diào)控有利于提高線偏振相關(guān)器件的溫度穩(wěn)定性。
發(fā)明內(nèi)容
有鑒于此,本發(fā)明的目的是提出一種改變GaAs/AlGaAs二維電子氣中線偏振光致電流隨溫度變化趨勢的方法,實現(xiàn)起來較為便捷,成本低,調(diào)控效果好。
本發(fā)明采用以下方案實現(xiàn):一種改變GaAs/AlGaAs二維電子氣中線偏振光致電流隨溫度變化趨勢的方法,包括以下步驟:
步驟S1:用分子束外延設(shè)備生長GaAs/AlGaAs半導(dǎo)體二維電子氣樣品;
步驟S2:使入射激光波長為1064nm,將樣品置于杜瓦瓶中,使樣品溫度由77K至室溫300K變化,測量樣品隨溫度變化的線偏振光致電流;
步驟S3:使入射激光波長為532nm,將樣品置于杜瓦瓶中,使樣品溫度由77K至室溫300K變化,測量樣品隨溫度變化的線偏振光致電流。
進一步地,步驟S1具體為:用分子束外延法在GaAs襯底上生長半導(dǎo)體量子阱樣品;樣品的生長過程為:首先在樣品上生長10個周期GaAs/Al0.3Ga0.7As超晶格作為緩沖層,再生長大于1μm的GaAs緩沖層,然后生長30nm厚的Al0.3Ga0.7As,進行Si-δ摻雜后再生長50nm厚的Al0.3Ga0.7As,最后生長10nm厚的GaAs;所述半導(dǎo)體量子阱樣品材料為單晶的GaAs/AlGaAs,且在二者的接觸面上形成二維電子氣。
進一步地,所述步驟S2與步驟S3中樣品溫度的控制通過杜瓦瓶和溫控箱組成的控溫系統(tǒng)。
與現(xiàn)有技術(shù)相比,本發(fā)明有以下有益效果:本發(fā)明提供了一種改變GaAs/AlGaAs二維電子氣中線偏振光致電流隨溫度變化趨勢的方法,實現(xiàn)較為便捷,成本低,調(diào)控效果好。
附圖說明
圖1為本發(fā)明實施例中GaAs/AlGaAs二維電子氣樣品示意圖。
圖2為本發(fā)明實施例中所用的光路示意圖。
圖3為本發(fā)明實施例中激光的入射平面示意圖。
圖4為本發(fā)明實施例中入射激光波長為1064nm時的測試結(jié)果圖。
圖5為本發(fā)明實施例中入射激光波長為532nm時的測試結(jié)果圖。
圖中:1為(001)面的GaAs襯底,2為10個周期GaAs/Al0.3Ga0.7As超晶格,3為大于1μm的GaAs,4為30nm厚的Al0.3Ga0.7As,5為50nm厚的Al0.3Ga0.7As,6為10nm厚的GaAs,7為Si-δ摻雜,8為GaAs/AlGaAs界面上生成的二維電子氣,9為1064nm波長激光器,10為532nm波長激光器,11和12為反射鏡,13為漸變衰減片,14為斬波器,15和18為小孔光闌,16為起偏器,17為四分之一波長波片,19為樣品,20和21為沉積的銦電極。
該專利技術(shù)資料僅供研究查看技術(shù)是否侵權(quán)等信息,商用須獲得專利權(quán)人授權(quán)。該專利全部權(quán)利屬于福州大學(xué),未經(jīng)福州大學(xué)許可,擅自商用是侵權(quán)行為。如果您想購買此專利、獲得商業(yè)授權(quán)和技術(shù)合作,請聯(lián)系【客服】
本文鏈接:http://www.szxzyx.cn/pat/books/201710016991.6/2.html,轉(zhuǎn)載請聲明來源鉆瓜專利網(wǎng)。
- 同類專利
- 專利分類
H01L 半導(dǎo)體器件;其他類目中不包括的電固體器件
H01L21-00 專門適用于制造或處理半導(dǎo)體或固體器件或其部件的方法或設(shè)備
H01L21-02 .半導(dǎo)體器件或其部件的制造或處理
H01L21-64 .非專門適用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各組的單個器件所使用的除半導(dǎo)體器件之外的固體器件或其部件的制造或處理
H01L21-66 .在制造或處理過程中的測試或測量
H01L21-67 .專門適用于在制造或處理過程中處理半導(dǎo)體或電固體器件的裝置;專門適合于在半導(dǎo)體或電固體器件或部件的制造或處理過程中處理晶片的裝置
H01L21-70 .由在一共用基片內(nèi)或其上形成的多個固態(tài)組件或集成電路組成的器件或其部件的制造或處理;集成電路器件或其特殊部件的制造





