[發(fā)明專利]一種改變GaAs/AlGaAs二維電子氣中線偏振光致電流隨溫度變化趨勢(shì)的方法有效
| 申請(qǐng)?zhí)枺?/td> | 201710016991.6 | 申請(qǐng)日: | 2017-01-11 |
| 公開(kāi)(公告)號(hào): | CN106611707B | 公開(kāi)(公告)日: | 2019-08-09 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | 俞金玲;曾曉琳;程樹(shù)英;陳涌海;賴云鋒;鄭巧 | 申請(qǐng)(專利權(quán))人: | 福州大學(xué) |
| 主分類號(hào): | H01L21/335 | 分類號(hào): | H01L21/335;H01L29/06;H01L21/66;B82Y30/00 |
| 代理公司: | 福州元?jiǎng)?chuàng)專利商標(biāo)代理有限公司 35100 | 代理人: | 蔡學(xué)俊 |
| 地址: | 350108 福建省福州市*** | 國(guó)省代碼: | 福建;35 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 一種 改變 gaas algaas 二維 電子 中線 偏振光 致電 溫度 變化 趨勢(shì) 方法 | ||
1.一種改變GaAs/AlGaAs二維電子氣中線偏振光致電流隨溫度變化趨勢(shì)的方法,其特征在于:包括以下步驟:
步驟S1:用分子束外延設(shè)備生長(zhǎng)GaAs/AlGaAs半導(dǎo)體二維電子氣樣品;
步驟S2:使入射激光波長(zhǎng)為1064nm,將樣品置于杜瓦瓶中,使樣品溫度由77K至室溫300K變化,測(cè)量樣品隨溫度變化的線偏振光致電流;
步驟S3:使入射激光波長(zhǎng)為532nm,將樣品置于杜瓦瓶中,使樣品溫度由77K至室溫300K變化,測(cè)量樣品隨溫度變化的線偏振光致電流;
步驟S2包括以下兩個(gè)步驟:
步驟S21:通過(guò)改變?nèi)肷浼す獾牟ㄩL(zhǎng)來(lái)調(diào)控GaAs/AlGaAs二維電子氣的線偏振光致電流;
步驟S22:改變?nèi)肷涞綐悠飞?064nm激光的偏振狀態(tài),使樣品產(chǎn)生線偏振光電流;之后經(jīng)過(guò)公式擬合提取出1064nm波長(zhǎng)激光照射下的線偏振光致電流信號(hào),再測(cè)試樣品在激光照射下且加1V電壓時(shí)的普通光電流I,將線偏振光用普通光電流I歸一化,即將測(cè)得的線偏振光致電流LPGE信號(hào)除以普通光電流I,以去除載流子變化帶來(lái)的影響,得到線偏振光LPGE用普通光電流I歸一化后的LPGE/I隨溫度的變化趨勢(shì);
步驟S3包括以下兩個(gè)步驟:
步驟S31:通過(guò)改變?nèi)肷浼す獾牟ㄩL(zhǎng)來(lái)調(diào)控半導(dǎo)體二維電子氣的線偏振光致電流;
步驟S32:改變?nèi)肷涞綐悠飞?32nm波長(zhǎng)激光的偏振狀態(tài),使樣品產(chǎn)生線偏振光電流;之后經(jīng)過(guò)公式擬合提取出532nm激光波長(zhǎng)照射下的線偏振光致電流信號(hào);
再測(cè)試樣品在激光照射下且加1V電壓時(shí)的普通光電流I,將線偏振光用普通光電流I歸一化,即將測(cè)得的線偏振光致電流LPGE信號(hào)除以普通光電流I,以去除載流子變化帶來(lái)的影響,得到線偏振光LPGE用普通光電流I歸一化后的LPGE/I隨溫度的變化趨勢(shì)。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種改變GaAs/AlGaAs二維電子氣中線偏振光致電流隨溫度變化趨勢(shì)的方法,其特征在于:步驟S1具體為:用分子束外延法在GaAs襯底上生長(zhǎng)半導(dǎo)體量子阱樣品;樣品的生長(zhǎng)過(guò)程為:首先在樣品上生長(zhǎng)10個(gè)周期GaAs/Al0.3Ga0.7As超晶格作為緩沖層,再生長(zhǎng)大于1μm的GaAs緩沖層,然后生長(zhǎng)30nm厚的Al0.3Ga0.7As,進(jìn)行Si-δ摻雜后再生長(zhǎng)50nm厚的Al0.3Ga0.7As,最后生長(zhǎng)10nm厚的GaAs;所述半導(dǎo)體量子阱樣品材料為單晶的GaAs/AlGaAs,且在二者的接觸面上形成二維電子氣。
3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種改變GaAs/AlGaAs二維電子氣中線偏振光致電流隨溫度變化趨勢(shì)的方法,其特征在于:所述步驟S2與步驟S3中樣品溫度的控制通過(guò)杜瓦瓶和溫控箱組成的控溫系統(tǒng)進(jìn)行控制。
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H01L 半導(dǎo)體器件;其他類目中不包括的電固體器件
H01L21-00 專門(mén)適用于制造或處理半導(dǎo)體或固體器件或其部件的方法或設(shè)備
H01L21-02 .半導(dǎo)體器件或其部件的制造或處理
H01L21-64 .非專門(mén)適用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各組的單個(gè)器件所使用的除半導(dǎo)體器件之外的固體器件或其部件的制造或處理
H01L21-66 .在制造或處理過(guò)程中的測(cè)試或測(cè)量
H01L21-67 .專門(mén)適用于在制造或處理過(guò)程中處理半導(dǎo)體或電固體器件的裝置;專門(mén)適合于在半導(dǎo)體或電固體器件或部件的制造或處理過(guò)程中處理晶片的裝置
H01L21-70 .由在一共用基片內(nèi)或其上形成的多個(gè)固態(tài)組件或集成電路組成的器件或其部件的制造或處理;集成電路器件或其特殊部件的制造
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