[發(fā)明專利]同質(zhì)雙層SiO2與聚四氟乙烯復(fù)合的自清潔減反膜及制備方法有效
| 申請?zhí)枺?/td> | 201710013416.0 | 申請日： | 2017-01-09 |
| 公開（公告）號： | CN106526719B | 公開（公告）日： | 2018-06-15 |
| 發(fā)明（設(shè)計）人： | 張政軍;樂雅;淮曉晨 | 申請（專利權(quán)）人： | 清華大學(xué) |
| 主分類號： | G02B1/18 | 分類號： | G02B1/18;G02B1/115 |
| 代理公司： | 北京鴻元知識產(chǎn)權(quán)代理有限公司 11327 | 代理人： | 邸更巖 |
| 地址： | 100084 北京市海淀區(qū)1*** | 國省代碼： | 北京;11 |
| 權(quán)利要求書： | 查看更多 | 說明書： | 查看更多 |
| 摘要： | |||
| 搜索關(guān)鍵詞： | 聚四氟乙烯 納米棒 復(fù)合薄膜 自清潔 制備 多孔二氧化硅 致密二氧化硅 增透作用 復(fù)合 同質(zhì) 復(fù)合聚四氟乙烯 電子束蒸鍍 氧化硅薄膜 可見光 太陽能電池 光記錄器 光學(xué)器件 光子器件 熱穩(wěn)定性 應(yīng)用要求 半透明 濾色器 入射光 疏水性 折射率 基底 三層 增透 粘附 沉積 遞減 透明 | ||
【說明書】：
下載完整專利技術(shù)內(nèi)容需要扣除積分，VIP會員可以免費(fèi)下載。
該專利技術(shù)資料僅供研究查看技術(shù)是否侵權(quán)等信息，商用須獲得專利權(quán)人授權(quán)。該專利全部權(quán)利屬于清華大學(xué)，未經(jīng)清華大學(xué)許可，擅自商用是侵權(quán)行為。如果您想購買此專利、獲得商業(yè)授權(quán)和技術(shù)合作，請聯(lián)系【客服】
本文鏈接：http://www.szxzyx.cn/pat/books/201710013416.0/2.html，轉(zhuǎn)載請聲明來源鉆瓜專利網(wǎng)。
