[發明專利]同質雙層SiO2與聚四氟乙烯復合的自清潔減反膜及制備方法有效
| 申請號： | 201710013416.0 | 申請日： | 2017-01-09 |
| 公開（公告）號： | CN106526719B | 公開（公告）日： | 2018-06-15 |
| 發明（設計）人： | 張政軍;樂雅;淮曉晨 | 申請（專利權）人： | 清華大學 |
| 主分類號： | G02B1/18 | 分類號： | G02B1/18;G02B1/115 |
| 代理公司： | 北京鴻元知識產權代理有限公司 11327 | 代理人： | 邸更巖 |
| 地址： | 100084 北京市海淀區1*** | 國省代碼： | 北京;11 |
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| 摘要： | |||
| 搜索關鍵詞： | 聚四氟乙烯 納米棒 復合薄膜 自清潔 制備 多孔二氧化硅 致密二氧化硅 增透作用 復合 同質 復合聚四氟乙烯 電子束蒸鍍 氧化硅薄膜 可見光 太陽能電池 光記錄器 光學器件 光子器件 熱穩定性 應用要求 半透明 濾色器 入射光 疏水性 折射率 基底 三層 增透 粘附 沉積 遞減 透明 | ||
【權利要求書】：
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