[發明專利]一種彩膜基板、其制作方法、液晶顯示器及顯示裝置

在審

• 申請號: 201710011412.9
• 申請日: 2017-01-06
• 公開（公告）號: CN106773215A
• 公開（公告）日: 2017-05-31
• 發明（設計）人: 方群;陸相晚;朱濤;袁慧芳;唐文浩;尹海斌;董安鑫;陳建;鐘國強;殷瑞;余婭
• 申請（專利權）人: 京東方科技集團股份有限公司;合肥鑫晟光電科技有限公司
• 主分類號: G02F1/1333
• 分類號: G02F1/1333
• 代理公司: 北京同達信恒知識產權代理有限公司11291
• 代理人: 黃志華

技術領域

本發明涉及顯示技術領域，特別涉及一種彩膜基板、其制作方法、液晶顯示器及顯示裝置。

背景技術

液晶顯示器一般包括相對設置的彩膜基板和陣列基板，以及位于彩膜基板和陣列基板之間的液晶層。目前彩膜基板在制備時，如圖1所示，一般先在襯底基板01上形成黑矩陣02的圖形；接著在形成有黑矩陣02的圖形的襯底基板01上形成包括藍色B、綠色G和紅色R的光阻層03；然后在形成有黑矩陣02和光阻層03的襯底基板01上形成平坦化層05。

但是，由于目前平坦化層是通過狹縫式涂布的方法形成的，制備時平坦化層的粘度較高，因此在黑矩陣層和光阻層的交疊處會出現凹凸不平的現象，從而導致平坦化層的表面凹凸不平，不利于后續PI定向夜的擴散及液晶取向，進而影響液晶顯示器的品質。

發明內容

本發明實施例提供一種彩膜基板、其制作方法、液晶顯示器及顯示裝置，用以提高顯示區域的平坦化層的表面的平坦性。

因此，本發明實施例提供了一種彩膜基板的制作方法，包括：

在襯底基板上形成黑矩陣的圖形；

在形成有所述黑矩陣圖形的所述襯底基板上形成多種顏色的光阻層的圖形，以及在位于所述襯底基板邊緣區域的所述黑矩陣的上方形成阻擋墻的圖形；其中，所述阻擋墻的上表面距離所述襯底基板的上表面的距離大于所述光阻層的上表面距離所述襯底基板的上表面的距離；

采用滴注法在所述阻擋墻限定的區域內形成覆蓋所述黑矩陣層和所述光阻層的平坦化層。

較佳地，在本發明實施例提供的上述彩膜基板的制作方法中，采用滴注法在所述阻擋墻限定的區域內形成覆蓋所述黑矩陣層和所述光阻層的平坦化層，具體包括：

采用滴注法將粘度為1.9－2.9毫帕·秒的平坦化層材料滴在所述阻擋墻限定的區域內。

較佳地，在本發明實施例提供的上述彩膜基板的制作方法中，所述阻擋墻的材料與多種顏色的所述光阻層中的其中一種所述光阻層的材料相同。

較佳地，在本發明實施例提供的上述彩膜基板的制作方法中，所述阻擋墻的材料與靠近所述阻擋墻的所述光阻層的材料相同。

較佳地，在本發明實施例提供的上述彩膜基板的制作方法中，通過一次構圖工藝形成所述阻擋墻的圖形與其中一種所述光阻層的圖形。

較佳地，在本發明實施例提供的上述彩膜基板的制作方法中，在形成覆蓋所述黑矩陣層和所述光阻層的平坦化層之后，還包括：對所述襯底基板進行高頻低幅振動處理。

較佳地，在本發明實施例提供的上述彩膜基板的制作方法中，對所述襯底基板進行高頻低幅振動處理之后，還包括：對所述平坦化層進行高溫固化處理。

相應地，本發明實施例還提供了一種彩膜基板，包括襯底基板，位于所述襯底基板上的黑矩陣和多種顏色的光阻層，還包括：位于所述襯底基板的邊緣區域且位于所述黑矩陣上方的阻擋墻，以及位于所述阻擋墻限定的區域內、且覆蓋所述黑矩陣和所述光阻層、且采用滴注法形成的平坦化層；其中，所述阻擋墻的上表面距離所述襯底基板的上表面的距離大于所述光阻層的上表面距離所述襯底基板的上表面的距離。

較佳地，在本發明實施例提供的上述彩膜基板中，所述阻擋墻的材料與多種顏色的所述光阻層中的其中一種所述光阻層的材料相同。

較佳地，在本發明實施例提供的上述彩膜基板中，所述阻擋墻的材料與靠近所述阻擋墻的所述光阻層的材料相同。

相應地，本發明實施例還提供了一種液晶顯示器，包括本發明實施例提供的上述任一種彩膜基板。

相應地，本發明實施例還提供了一種顯示裝置，包括本發明實施例提供的上述液晶顯示器。

本發明實施例提供的彩膜基板、其制作方法、液晶顯示器及顯示裝置，通過在位于襯底基板邊緣區域的黑矩陣的上方形成上表面距離襯底基板的上表面的距離大于光阻層的上表面距離襯底基板的上表面的距離的阻擋墻的圖形，并且采用滴注法在阻擋墻限定的區域內形成覆蓋黑矩陣層和光阻層的平坦化層，由于采用滴注法形成平坦化層時材料的粘度較低，因此可以保證該材料在阻擋墻限定的區域內充分流動，從而可以使顯示區域中的平坦化層的表面分布均勻，進而可以提高彩膜基板的顯示區域中的平坦化層表面的平坦性。因此將該彩膜基板應用于液晶顯示器時，可以提高液晶顯示器的顯示均一性，進而提高液晶顯示器的品質。

附圖說明

圖1為現有的彩膜基板的結構示意圖；

圖2為本發明實施例提供的彩膜基板的制作方法的流程圖；

圖3a至圖3e分別為本發明實施例提供的制作方法在執行各步驟后的剖面結構示意圖。