[發明專利]一種彩膜基板、其制作方法、液晶顯示器及顯示裝置在審
| 申請號： | 201710011412.9 | 申請日： | 2017-01-06 |
| 公開（公告）號： | CN106773215A | 公開（公告）日： | 2017-05-31 |
| 發明（設計）人： | 方群;陸相晚;朱濤;袁慧芳;唐文浩;尹海斌;董安鑫;陳建;鐘國強;殷瑞;余婭 | 申請（專利權）人： | 京東方科技集團股份有限公司;合肥鑫晟光電科技有限公司 |
| 主分類號： | G02F1/1333 | 分類號： | G02F1/1333 |
| 代理公司： | 北京同達信恒知識產權代理有限公司11291 | 代理人： | 黃志華 |
| 地址： | 100015 *** | 國省代碼： | 北京;11 |
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| 摘要： | |||
| 搜索關鍵詞： | 一種 彩膜基板 制作方法 液晶顯示器 顯示裝置 | ||
1.一種彩膜基板的制作方法，其特征在于，包括：
在襯底基板上形成黑矩陣的圖形；
在形成有所述黑矩陣圖形的所述襯底基板上形成多種顏色的光阻層的圖形，以及在位于所述襯底基板邊緣區域的所述黑矩陣的上方形成阻擋墻的圖形；其中，所述阻擋墻的上表面距離所述襯底基板的上表面的距離大于所述光阻層的上表面距離所述襯底基板的上表面的距離；
采用滴注法在所述阻擋墻限定的區域內形成覆蓋所述黑矩陣層和所述光阻層的平坦化層。
2.如權利要求1所述的彩膜基板的制作方法，其特征在于，采用滴注法在所述阻擋墻限定的區域內形成覆蓋所述黑矩陣層和所述光阻層的平坦化層，具體包括：
采用滴注法將粘度為1.9－2.9毫帕·秒的平坦化層材料滴在所述阻擋墻限定的區域內。
3.如權利要求1所述的彩膜基板的制作方法，其特征在于，所述阻擋墻的材料與多種顏色的所述光阻層中的其中一種所述光阻層的材料相同。
4.如權利要求3所述的彩膜基板的制作方法，其特征在于，所述阻擋墻的材料與靠近所述阻擋墻的所述光阻層的材料相同。
5.如權利要求3或4所述的彩膜基板的制作方法，其特征在于，通過一次構圖工藝形成所述阻擋墻的圖形與其中一種所述光阻層的圖形。
6.如權利要求1-4任一項所述的彩膜基板的制作方法，其特征在于，在形成覆蓋所述黑矩陣層和所述光阻層的平坦化層之后，還包括：對所述襯底基板進行高頻低幅振動處理。
7.如權利要求6所述的彩膜基板的制作方法，其特征在于，對所述襯底基板進行高頻低幅振動處理之后，還包括：對所述平坦化層進行高溫固化處理。
8.一種彩膜基板，包括襯底基板，位于所述襯底基板上的黑矩陣和多種顏色的光阻層，其特征在于，還包括：
位于所述襯底基板的邊緣區域且位于所述黑矩陣上方的阻擋墻，以及位于所述阻擋墻限定的區域內、且覆蓋所述黑矩陣和所述光阻層、且采用滴注法形成的平坦化層；其中，
所述阻擋墻的上表面距離所述襯底基板的上表面的距離大于所述光阻層的上表面距離所述襯底基板的上表面的距離。
9.如權利要求8所述的彩膜基板，其特征在于，所述阻擋墻的材料與多種顏色的所述光阻層中的其中一種所述光阻層的材料相同。
10.如權利要求9所述的彩膜基板，其特征在于，所述阻擋墻的材料與靠近所述阻擋墻的所述光阻層的材料相同。
11.一種液晶顯示器，其特征在于，包括如權利要求8-10任一項所述的彩膜基板。
12.一種顯示裝置，其特征在于，包括如權利要求11所述的液晶顯示器。
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