[發明專利]一種制備非蒸散型薄膜吸氣劑的方法有效
| 申請號: | 201710009732.0 | 申請日: | 2017-01-06 |
| 公開(公告)號: | CN106835024B | 公開(公告)日: | 2019-07-12 |
| 發明(設計)人: | 周東平 | 申請(專利權)人: | 蘇州晶鼎鑫光電科技有限公司 |
| 主分類號: | C23C14/24 | 分類號: | C23C14/24;C23C14/14;C23C14/54;B01J20/02 |
| 代理公司: | 北京勁創知識產權代理事務所(普通合伙) 11589 | 代理人: | 王志敏 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 一種 制備 蒸散 薄膜 吸氣 方法 | ||
本發明揭示了一種制備非蒸散型薄膜吸氣劑的方法,將若干吸氣金屬一一對應放置于鍍膜機的若干蒸發舟內作為靶材,吸氣金屬至少為兩種,各蒸發舟的工作參數單獨可控,各蒸發舟處一一對應設有膜厚監測儀,以監測對應蒸發舟內吸氣金屬的蒸發速率;將基片和蒸發舟放入鍍膜機的真空腔內;對真空腔內抽真空;對吸氣金屬進行預熔,并控制各蒸發舟的工作參數使各吸氣金屬同時蒸發;根據膜厚監測儀的反饋值調整蒸發舟的工作參數,以將各吸氣金屬的蒸發速率調整為預設比值。本發明可以同時蒸發多種吸氣金屬,無需額外制作合金,有益于節約吸氣劑的制備成本和時間,同時,通過控制各吸氣金屬的蒸發速率,可以精確控制吸氣劑的成分。
技術領域
本發明涉及一種薄膜吸氣劑的制備方法,具體涉及一種制備非蒸散型薄膜吸氣劑的方法。
背景技術
吸氣劑,也稱為消氣劑,是指能利用自身的物理或化學特性有效吸除某些氣體分子的制劑或裝置的通稱,用來獲得、維持真空和純化氣體。吸氣劑廣泛應用于需要真空環境的光電器件中,為器件創造了良好的工作環境,穩定了器件的特性參量,對器件的性能及使用壽命有重要的影響。
吸氣劑一般分為蒸散型和非蒸散型兩大類,其中,蒸散型吸氣劑主要通過化學反應吸收真空器件中殘余活性氣體,需要對吸氣金屬加熱,蒸散出來形成吸氣薄膜;非蒸散型吸氣劑不需要把吸氣金屬蒸散出來,而是通過對吸氣金屬表面激活使其具有吸氣能力。常用作非蒸散型吸氣劑的材料主要是由鈦、鋯、鉿、釩、鋁、過渡金屬、稀土元素等吸氣金屬構成的兩元或者多元合金。
目前,非蒸散型薄膜吸氣劑的主要制備方法為:首先把各吸氣金屬按比例熔煉為合金,或者是把各吸氣金屬壓制成合金再進行退火,再通過濺射或蒸發的方式將合金沉積在基片表面來制備薄膜型吸氣劑。這些方法額外增加了工作量和成本,另外在制作合金時需要控制好其均勻性和粒度。
也有制備方法是把多種吸氣金屬絲繞在一起,進行濺射,由于各吸氣金屬的物理特性不同,濺射或蒸發時逸出比例不同,最終吸氣劑的成分會與理論值有較明顯的差別。
發明內容
本發明的目的在于提供一種制備非蒸散型薄膜吸氣劑的方法。
為實現上述發明目的,本發明采用如下技術方案:
一種制備非蒸散型薄膜吸氣劑的方法,包括以下步驟:
S1、將若干吸氣金屬一一對應放置于鍍膜機的若干蒸發舟內作為靶材,吸氣金屬至少為兩種,各蒸發舟的工作參數單獨可控,各蒸發舟處一一對應設有膜厚監測儀,以監測對應蒸發舟內吸氣金屬的蒸發速率;
S2、將基片和蒸發舟放入鍍膜機的真空腔內;
S3、對真空腔內抽真空;
S4、對吸氣金屬進行預熔,并控制各蒸發舟的工作參數使各吸氣金屬同時蒸發;
S5、根據膜厚監測儀的反饋值調整蒸發舟的工作參數,以將各吸氣金屬的蒸發速率調整為預設比值。
作為本發明進一步改進的技術方案,所述膜厚監測儀為晶振。
作為本發明進一步改進的技術方案,步驟S1中所述吸氣金屬為鈦、鋯、釩、鉭、鈮、鐵、鋁、銅、鉬中任意兩種或兩種以上。
作為本發明進一步改進的技術方案,步驟S1中吸氣金屬為三種,分別是鈦、鋯、釩,蒸發舟和膜厚監測儀的數量都為三個;
步驟S5中鈦、鋯、釩的蒸發速率比為3.874:3.845:2.281。
作為本發明進一步改進的技術方案,步驟S1中吸氣金屬為三種,分別是鋯、釩、鐵,蒸發舟和膜厚監測儀的數量都為三個;
步驟S5中鋯、釩、鐵的蒸發速率比為6.960:2.608:0.432。
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