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[發(fā)明專利]具有高抗短路能力的IGBT器件在審

專利信息
申請?zhí)枺?/td> 201710007163.6 申請日: 2017-01-05
公開(公告)號: CN106783988A 公開(公告)日: 2017-05-31
發(fā)明(設(shè)計(jì))人: 程煒濤;姚陽;王海軍;葉甜春 申請(專利權(quán))人: 江蘇中科君芯科技有限公司
主分類號: H01L29/739 分類號: H01L29/739;H01L29/423
代理公司: 無錫市大為專利商標(biāo)事務(wù)所(普通合伙)32104 代理人: 曹祖良,涂三民
地址: 214135 江蘇省無錫市新吳區(qū)*** 國省代碼: 江蘇;32
權(quán)利要求書: 查看更多 說明書: 查看更多
摘要:
搜索關(guān)鍵詞: 具有 短路 能力 igbt 器件
【說明書】:

技術(shù)領(lǐng)域

發(fā)明涉及一種IGBT器件,本發(fā)明尤其是涉及一種具有高抗短路能力的IGBT器件,本發(fā)明屬于半導(dǎo)體功率器件領(lǐng)域。

背景技術(shù)

現(xiàn)有技術(shù)的結(jié)構(gòu),為了追求更低的飽和壓降,可以將原胞密度增大(溝槽密度增大,溝槽間距降低),這樣會(huì)帶來飽和電流較大的負(fù)面影響,進(jìn)而降低器件的抗短路能力。

如圖2所示,現(xiàn)有的器件結(jié)構(gòu)中柵極2的寬度一致,這樣會(huì)導(dǎo)致在原胞密度較高的情況下,器件的短路電流較高。當(dāng)器件發(fā)生短路時(shí),較高短路電流會(huì)引起較高的發(fā)熱量,更容易導(dǎo)致器件失效,抗短路能力較差。

發(fā)明內(nèi)容

本發(fā)明的目的是克服現(xiàn)有技術(shù)中存在的不足,提供一種可以在極小改變器件飽和壓降的前提下有效降低短路電流,提高器件抗短路能力的具有高抗短路能力的IGBT器件。

按照本發(fā)明提供的技術(shù)方案,所述包括P阱、第一柵極、發(fā)射極、第一絕緣氧化層、P+區(qū)域、金屬層、FS層、集電極、第二柵極、基區(qū)與第二絕緣氧化層;在集電極上設(shè)有FS層,在FS層上設(shè)有基區(qū),在基區(qū)上設(shè)有P阱,在P阱上設(shè)有金屬層,在金屬層內(nèi)設(shè)有左右兩個(gè)第一絕緣氧化層,在左右兩個(gè)第一絕緣氧化層之間的金屬層內(nèi)設(shè)有第二絕緣氧化層,在第一絕緣氧化層的下端部連接有第一柵極,在第二絕緣氧化層的下端部連接有第二柵極,第一柵極與第二柵極的下端部均位于基區(qū)內(nèi),在第一柵極的上端部的左右兩側(cè)以及在第二柵極的上端部的左右兩側(cè)均設(shè)有發(fā)射極,位于第二柵極與第一柵極之間的兩個(gè)發(fā)射極之間以及位于第一柵極外側(cè)的發(fā)射極上連接有P+區(qū)域。

所述第二柵極的寬度大于第一柵極的寬度。

所述第二絕緣氧化層的寬度大于第一絕緣氧化層的寬度。

本發(fā)明通過改變部分柵極的寬度,進(jìn)而降低了器件發(fā)生短路時(shí)對空穴載流子的收集能力,從而實(shí)現(xiàn)降低短路電流的目的,可以在極小改變器件飽和壓降的前提下,明顯提高器件抗短路能力。

附圖說明

圖1是本發(fā)明的結(jié)構(gòu)示意圖。

圖2是背景技術(shù)的結(jié)構(gòu)示意圖。

具體實(shí)施方式

下面結(jié)合具體實(shí)施例對本發(fā)明作進(jìn)一步說明。

該包括P阱1、第一柵極2、發(fā)射極3、第一絕緣氧化層4、P+區(qū)域5、金屬層6、FS層7、集電極8、第二柵極9、基區(qū)10與第二絕緣氧化層11;在集電極8上設(shè)有FS層7,在FS層7上設(shè)有基區(qū)10,在基區(qū)10上設(shè)有P阱1,在P阱1上設(shè)有金屬層6,在金屬層6內(nèi)設(shè)有左右兩個(gè)第一絕緣氧化層4,在左右兩個(gè)第一絕緣氧化層4之間的金屬層6內(nèi)設(shè)有第二絕緣氧化層11,在第一絕緣氧化層4的下端部連接有第一柵極2,在第二絕緣氧化層11的下端部連接有第二柵極9,第一柵極2與第二柵極9的下端部均位于基區(qū)10內(nèi),在第一柵極2的上端部的左右兩側(cè)以及在第二柵極9的上端部的左右兩側(cè)均設(shè)有發(fā)射極3,位于第二柵極9與第一柵極2之間的兩個(gè)發(fā)射極3之間以及位于第一柵極2外側(cè)的發(fā)射極3上連接有P+區(qū)域5。

所述第二柵極9的寬度大于第一柵極2的寬度。

所述第二絕緣氧化層11的寬度大于第一絕緣氧化層4的寬度。

本發(fā)明中,集電極8為P+型,F(xiàn)S層7為N+型,基區(qū)10為N型。

本發(fā)明通過增大原胞區(qū)部分第二柵極9的寬度,可以有效降低器件發(fā)生短路時(shí)對空穴的收集能力,從而降低器件短路電流,減輕器件發(fā)生短路時(shí)的發(fā)熱量,實(shí)現(xiàn)提高器件抗短路能力的目的,同時(shí)由于部分溝槽寬度的增寬,器件的飽和壓降不會(huì)有特別明顯的變化。

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