[發明專利]一種新型的顯影單元在審
| 申請號: | 201710007086.4 | 申請日: | 2017-01-05 |
| 公開(公告)號: | CN106597817A | 公開(公告)日: | 2017-04-26 |
| 發明(設計)人: | 張鵬飛;施杰;龔冰 | 申請(專利權)人: | 武漢華星光電技術有限公司 |
| 主分類號: | G03F7/30 | 分類號: | G03F7/30 |
| 代理公司: | 北京聿宏知識產權代理有限公司11372 | 代理人: | 吳大建 |
| 地址: | 430070 湖北省武漢市*** | 國省代碼: | 湖北;42 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 一種 新型 顯影 單元 | ||
技術領域
本發明涉及彩色濾光片(CF,colour filter)生產領域,尤其涉及一種新型的顯影單元。
背景技術
本領域中RGB通常分別代表R(Red)紅色、G(Green)綠色、B(Blue)藍色三種不同的顏色。RGB色彩模式是工業界的一種顏色標準,是通過對紅(R)、綠(G)、藍(B)三個顏色通道的變化以及它們相互之間的疊加來得到各式各樣的顏色的,RGB即是代表紅、綠、藍三個通道的顏色,這個標準幾乎包括了人類視力所能感知的所有顏色,是目前運用最廣的顏色系統之一。在彩色濾光片制作工藝過程中包括了RGB三色制程,即R制程(紅色制程)、G制程(綠色制程)及B制程(藍色制程),RGB三色制程分別對R光阻(紅色光阻)、G光阻(綠色光阻)及B光阻(藍色光阻)進行涂布、曝光、顯影。在RGB三色制程中的最后一道制程B制程完成后將進入OC制程(也稱為保護層制程,OC即overcoat),進行OC光阻(OC即overcoat,也稱為保護層光阻)涂布,OC光阻是一種無色透明的負性光阻,主要用于保護紅、綠、藍三色光阻,涂布OC光阻后使紅、綠、藍色層的平坦度較好。防止紅光阻、綠光阻、藍光阻內的離子析出到液晶內導致影像殘留。OC制程(也稱為保護層制程,OC,overcoat)只進行OC光阻的涂布,而沒有曝光和顯影的步驟。現有技術中采用B制程與OC制程共用一條流水線的方案,稱為B line Backup OC(藍色制程與保護層制程通用流水線)制程。當OC制程彩色濾光片玻璃基板正常通過顯影單元時,由于未曝光,顯影液會將OC光阻全部洗掉。現有技術中有如下兩種方案進行應對:(1)將顯影段的顯影液供給閥門關閉,但顯影室里會殘留很多顯影液對彩色濾光片玻璃基板上的OC光阻有影響,一般會進行人為擦干的動作,這個辦法會消耗大量的人力與物力。(2)如圖1、圖2所示在B制程的顯影機的上方增設高空輸送機(CV,conveyor)2來傳送OC制程的彩色濾光片玻璃基板,彩色濾光片玻璃基板通過升降機構3送入和送出高空輸送機2。現有生產線一般都是使用第二種方案,此方案中雖然OC制程的彩色濾光片玻璃基板經由高空輸送機傳送而沒有進入顯影單元的顯影段,避免了OC光阻被顯影液沖掉的問題,但同時也未經過顯影單元的水洗段的清洗,故OC制程的輪印會較其他流水線多很多。現有產線在OC制程出現輪印后會消耗大量的人力和時間來清潔高空輸送機在輸送彩色濾光片玻璃基板過程中所帶來的輪印。
發明內容
為解決現有技術中輪印多,清洗費時費力,OC光阻經過顯影段易被沖洗掉的技術問題,本發明提供一種新型的顯影單元,具體方案如下:
一種新型的顯影單元,包括顯影段和水洗段,
顯影段含有顯影室,水箱、顯影液儲液箱、泵及顯影噴淋裝置均位于顯影室中,
無論是處于RGB三色制程中的藍色制程還是保護層制程,彩色濾光片玻璃基板均經由搬入輸送機進入顯影室并通過水洗段的清洗室,最終經過搬出輸送機傳出,
當處于RGB三色制程中的藍色制程時,水箱關閉,顯影液儲液箱開啟,顯影液通過泵提供動力,對彩色濾光片玻璃基板上的藍色光阻進行顯影處理,
當處于保護層制程時,顯影液儲液箱關閉,水箱開啟,水通過泵提供動力,對顯影室內的殘留顯影液進行清洗。
進一步的,水箱與顯影液儲液箱的啟閉通過電磁閥控制。
進一步的,所述電磁閥為兩個,其中一個位于水箱管路上,另一個位于顯影液儲液箱管路上。
進一步的,所述電磁閥的啟閉通過觸摸屏控制。
進一步的,水箱與顯影噴淋裝置連接。
進一步的,對顯影室內殘留顯影液進行清洗的時間為15分鐘。
進一步的,所述泵的數量為兩個,其中一個位于水箱管路上,另一個位于顯影液儲液箱管路上。
進一步的,所述顯影段和水洗段均沒有設置高空輸送機及進出輸送機的升降機構。
與現有技術相比,本發明提供的一種新型的顯影單元,無論是B制程還是OC制程,彩色濾光片玻璃基板均會通過水洗段的清洗室及后續的工藝室,通過水洗段清洗室及后續的工藝室的清理大大降低了輪印,避免了大量人力和時間的消耗,同時顯影段中的水箱在OC制程時會開啟,以對顯影室中的殘留顯影液進行清洗,避免了OC制程的彩色濾光片玻璃基板上的OC光阻在通過顯影室時被顯影液清洗掉。
附圖說明
在下文中將基于實施例并參考附圖來對本發明進行更詳細的描述。其中:
圖1為現有技術顯影段的結構示意圖;
圖2為現有技術水洗段的結構示意圖;
圖3為本發明顯影段的結構示意圖;
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