[發(fā)明專利]一種磁控濺射臺以及磁控濺射裝置

有效

• 申請?zhí)枺?/td>: 201710002814.2
• 申請日: 2017-01-03
• 公開（公告）號: CN106756779B
• 公開（公告）日: 2019-09-06
• 發(fā)明（設(shè)計）人: 薛金祥;孫中元;周翔
• 申請（專利權(quán)）人: 京東方科技集團(tuán)股份有限公司
• 主分類號: C23C14/04
• 分類號: C23C14/04;C23C14/35;C23C14/50
• 代理公司: 北京中博世達(dá)專利商標(biāo)代理有限公司 11274
• 代理人: 申健

1.一種磁控濺射臺，其特征在于，包括掩膜板、升降機(jī)構(gòu)以及待成膜基片；

所述待成膜基片位于所述升降機(jī)構(gòu)的承載面上，且所述掩膜板位于所述待成膜基片背離所述升降機(jī)構(gòu)的一側(cè)；所述升降機(jī)構(gòu)用于根據(jù)升降指令上升或下降，以對所述待成膜基片和所述掩膜板之間的距離進(jìn)行調(diào)整；

所述升降機(jī)構(gòu)包括多個均勻分布的升降組件；

所述升降組件包括升降桿，以及與所述升降桿相連接的驅(qū)動器，所述驅(qū)動器用于驅(qū)動所述升降桿運(yùn)動；

所述升降組件還包括設(shè)置于所述升降桿靠近所述待成膜基片一側(cè)的壓力感應(yīng)部；

所述壓力感應(yīng)部與所述升降桿相連接，用于對升降桿的支撐力進(jìn)行采集；

所述壓力感應(yīng)部包括封裝蓋、滾珠、杠桿支架以及安裝于所述杠桿支架上的多個傾斜設(shè)置的杠桿；

所述多個杠桿設(shè)置于所述滾珠周邊，每一個所述杠桿的一端與所述滾珠相接觸；所述封裝蓋上設(shè)置有用于露出所述滾珠的開孔，以使得所述滾珠與所述待成膜基片相接觸；

所述壓力感應(yīng)部還包括安裝于所述封裝蓋背離所述待成膜基片一側(cè)的多個壓電感應(yīng)器，所述壓電感應(yīng)器與所述杠桿一一對應(yīng)，且所述壓電感應(yīng)器設(shè)置于所述杠桿的另一端。

2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的磁控濺射臺，其特征在于，所述驅(qū)動器還與所述壓力感應(yīng)部相連接，所述驅(qū)動器包括處理單元、驅(qū)動控制單元以及執(zhí)行單元；

所述處理單元與所述壓力感應(yīng)部相連接，用于根據(jù)所述壓力感應(yīng)部的采集結(jié)果計算出所述升降桿的位移補(bǔ)償值；

所述驅(qū)動控制單元與所述處理單元相連接，用于根據(jù)所述位移補(bǔ)償值生成所述升降指令；其中所述升降指令與所述位移補(bǔ)償值相匹配；

所述執(zhí)行單元與所述驅(qū)動控制單元和所述升降桿相連接，用于根據(jù)所述升降指令控制所述升降桿的位移。

3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的磁控濺射臺，其特征在于，所述升降組件還包括連接所述升降桿和所述壓力感應(yīng)部的緩沖部；所述緩沖部用于在所述升降桿上升或下降的過程中，對所述升降桿施加至所述壓力感應(yīng)部件的作用力進(jìn)行緩沖。

4.根據(jù)權(quán)利要求2所述的磁控濺射臺，其特征在于，所述執(zhí)行單元為旋轉(zhuǎn)電機(jī)，所述升降桿為絲杠；

所述升降機(jī)構(gòu)還包括固定安裝的固定板；所述固定板與所述待成膜基片平行；每一個所述絲杠穿過所述固定板，并與所述固定板相配合以構(gòu)成絲杠螺母副；

所述升降組件還包括安裝于所述固定板上的導(dǎo)軌，所述導(dǎo)軌的延伸方向與所述絲杠的延伸方向一致，所述旋轉(zhuǎn)電機(jī)的機(jī)殼安裝于所述導(dǎo)軌上，所述絲杠在上升或下降的過程中帶動所述旋轉(zhuǎn)電機(jī)沿所述導(dǎo)軌運(yùn)動。

5.根據(jù)權(quán)利要求2所述的磁控濺射臺，其特征在于，所述執(zhí)行單元為液壓缸，所述升降桿與所述液壓缸的活塞桿相連接。

6.根據(jù)權(quán)利要求3所述的磁控濺射臺，其特征在于，所述緩沖部包括套筒以及彈簧；

所述彈簧的一端與所述套筒相連接，另一端與所述升降桿相連接；所述套筒扣合與所述升降桿上，且所述套筒背離所述升降桿的一端與所述壓力感應(yīng)部相連接。

7.一種磁控濺射裝置，其特征在于，包括如權(quán)利要求1-6任一項所述的磁控濺射臺；

所述磁控濺射裝置還包括磁控濺射腔室，所述磁控濺射臺位于所述磁控濺射腔室內(nèi)。