[發明專利]感光性元件、抗蝕圖案的形成方法及印刷布線板的制造方法

在審

• 申請號: 201680091251.2
• 申請日: 2016-12-02
• 公開（公告）號: CN110023837A
• 公開（公告）日: 2019-07-16
• 發明（設計）人: 粂壯和;松村遼
• 申請（專利權）人: 日立化成株式會社
• 主分類號: G03F7/004
• 分類號: G03F7/004
• 代理公司: 永新專利商標代理有限公司 72002
• 代理人: 白麗

本發明提供一種感光性元件(1)，其為具備支撐膜(10)和配置在支撐膜(10)上的感光層(20)的感光性元件(1)，其中，感光層(20)含有粘合劑聚合物、具有烯鍵式不飽和鍵的光聚合性化合物和光聚合引發劑，支撐膜(10)的靠感光層(20)側的主面(12)上的直徑為2μm以上的缺陷的數目是每2mm²為30個以下。

技術領域

本發明涉及感光性元件、以及使用了該感光性元件的抗蝕圖案的形成方法及印刷布線板的制造方法。

背景技術

以往在印刷布線板的制造領域及金屬的精密加工領域中，作為刻蝕、鍍覆等中使用的抗蝕劑材料，廣泛使用由支撐膜、感光性樹脂組合物所形成的層(以下稱作“感光層”)及保護膜構成的感光性元件。

印刷布線板例如如下制造。首先，將感光性元件的保護膜從感光層上剝離后，在基板的導電膜上層壓感光層。接著，對感光層實施圖案曝光之后，利用顯影液將未曝光部分除去，形成抗蝕圖案。然后，基于該抗蝕圖案，通過對導電膜進行布圖，形成印刷布線板。

作為上述感光性元件中使用的支撐膜，有時使用規定了霧度值的支撐膜、限定了潤滑劑粒子尺寸的支撐膜等(例如參照下述專利文獻1及2)。

現有技術文獻

專利文獻

專利文獻1：日本特開2001-13681號公報

專利文獻2：日本特開2014-74764號公報

發明內容

發明要解決的技術問題

隨著近年來的電路形成的高分辨率化，其中使用的感光性元件及曝光裝置所要求的分辨率增高、感光性元件的支撐膜的潤滑劑或其凝聚物來源的抗蝕劑的缺損(例如抗蝕劑的破損等缺陷)增加成為問題。

例如，在使用充分減小了霧度值或潤滑劑粒子尺寸的高透明性的現有支撐膜時，如果使用高分辨率用感光性樹脂組合物或高分辨率曝光機(例如投影曝光機及直接描繪曝光機)，則有抗蝕劑的缺損大幅增加的情況。

本發明鑒于上述事實而作出，其目的在于提供能夠抑制抗蝕劑的缺損發生的感光性元件。另外，本發明的目的在于提供使用了上述感光性元件的抗蝕圖案的形成方法及印刷布線板的制造方法。

用于解決技術問題的手段

對于現有感光性元件中的抗蝕劑的缺損，通過本發明人的研究獲知，支撐膜中與感光層相接觸的面上的缺陷(例如潤滑劑等粒子及因其導致的凹凸)是產生抗蝕劑缺損的主要原因。但是，為了減少支撐膜來源的抗蝕劑缺損而減少潤滑劑等粒子對于制造來說是非常困難的，減小潤滑劑等粒子的尺寸及個數的現有的改良方法是有限的。

對此，本發明人對支撐膜的缺陷對抗蝕劑造成的影響及原因進行了詳細研究。首先，為了研究與感光層接觸的粒子所帶來的影響，使用在兩面上涂布有潤滑劑的支撐膜，調查支撐膜中與感光層相接觸的面對圖案缺損的發生所造成的影響。其結果是，本發明人獲得了下述見解。即，明確了支撐膜中未與感光層接觸的面(支撐膜中與感光層相接觸的面相反的一面)的缺陷對抗蝕劑的缺損所造成的影響是較小的。另一方面還獲知了，通過減少支撐膜中與感光層相接觸的面的缺陷數而使其變得平滑，從而可以大幅改善抗蝕劑的缺損。

本發明的感光性元件是具備支撐膜和配置在該支撐膜上的感光層的感光性元件，其中，感光層含有粘合劑聚合物、具有烯鍵式不飽和鍵的光聚合性化合物和光聚合引發劑，支撐膜的靠感光層側的表面上的直徑為2μm以上的缺陷的數目是每2mm²為30個以下。

根據本發明的感光性元件，減少了支撐膜的靠感光層側的表面上的缺陷數。由此，支撐膜的靠感光層側的表面的平滑性提高，因此可以抑制抗蝕劑的缺損的發生。另外，根據本發明的感光性元件，即便是使用高分辨率曝光機時也可抑制抗蝕劑的缺損的發生，可獲得良好的抗蝕劑形成性。