[發明專利]用于形成自動傳輸的感光聚合物波導的自下而上設備設計

有效

• 申請號: 201680090291.5
• 申請日: 2016-10-26
• 公開（公告）號: CN109996758B
• 公開（公告）日: 2020-08-21
• 發明（設計）人: 索菲亞·S·楊;艾倫·J·雅各布森;喬安娜·A·柯洛德載伊斯基;羅伯特·E·多提;威廉·卡特;雅各·M·亨德利
• 申請（專利權）人: HRL實驗室有限責任公司
• 主分類號: B82B3/00
• 分類號: B82B3/00;B82Y40/00;G03B27/28;G03B27/30;G03F1/76
• 代理公司: 北京泰吉知識產權代理有限公司 11355
• 代理人: 張雅軍;謝瓊慧

1.一種用于形成微桁架結構的系統，所述系統包含：

具有壁和平坦底部的儲集器，其被配置成裝納一定量的液體感光單體，所述感光單體被配置成在暴露于光時形成感光聚合物；

固定至或作為所述儲集器的所述底部的部分透明掩模；

所述掩模上的釋放層，所述釋放層被配置成抵抗被所述感光聚合物粘著；

在所述掩模下方的第一距離安置的阻斷器，其中所述阻斷器為非反射的；

在所述阻斷器下方安置的光源，其被配置成產生準直光

所述準直光適合于致使所述感光單體轉化為所述感光聚合物，且

所述阻斷器對于所述準直光不透明；和

相對于所述阻斷器傾斜的第一鏡，其被配置成反射來自所述阻斷器周圍的所述光源且穿過所述掩模且進入所述儲集器的光，

所述阻斷器被安置成阻斷光從所述光源至所述掩模的直線路徑。

2.根據權利要求1所述的系統，其中所述釋放層包含選自由以下組成的組的化合物作為主要組分：可噴涂脫模劑化合物、聚氯乙烯、聚偏二氯乙烯以及其組合。

3.根據權利要求1或2所述的系統，其中所述掩模為所述儲集器的所述底部。

4.根據權利要求1或2所述的系統，其中所述儲集器的所述底部由與所述儲集器的所述壁相同的材料構成，且所述儲集器的所述底部與所述儲集器的所述壁成一體。

5.根據權利要求4所述的系統，其中所述釋放層包含選自由聚氯乙烯、聚偏二氯乙烯以及其組合組成的組的化合物作為主要組分，且其中所述釋放層為所述儲集器的所述底部。

6.根據權利要求1所述的系統，其進一步包含所述釋放層上的襯底，所述襯底為被配置成變為所述微桁架結構的一部分的平板，所述襯底包含選自由亞克力、聚對苯二甲酸乙二酯以及其組合組成的組的化合物作為主要組分。

7.根據權利要求6所述的系統，其中所述釋放層包含選自由以下組成的組的化合物作為主要組分：可噴涂脫模劑化合物、聚氯乙烯、聚偏二氯乙烯以及其組合。

8.根據權利要求1、2或6所述的系統，其中所述掩模為所述儲集器的所述底部。

9.根據權利要求1或2所述的系統，其中所述掩模包含：

包含選自由以下組成的組的材料作為主要組分的平板：聚氯乙烯、聚偏二氯乙烯、多聚甲醛、氟化乙烯丙烯、聚偏二氟乙烯、聚四氟乙烯、聚(甲基丙烯酸甲酯)、聚對苯二甲酸乙二酯、UV透明玻璃以及其組合；和

所述平板上的不透明涂層，所述不透明涂層具有多個孔。

10.根據權利要求1或2所述的系統，其中所述掩模包含：

包含選自由以下組成的組的材料作為主要組分的平板：聚氯乙烯、聚偏二氯乙烯、多聚甲醛、氟化乙烯丙烯、聚偏二氟乙烯、聚四氟乙烯、聚酯、聚(甲基丙烯酸甲酯)、UV透明玻璃以及其組合；和

所述平板上的不透明涂層，所述不透明涂層具有多個孔。

11.根據權利要求9所述的系統，其中所述不透明涂層包含金屬或合金作為主要組分。

12.根據權利要求10所述的系統，其中所述不透明涂層包含金屬或合金作為主要組分。

13.根據權利要求1或2所述的系統，其進一步包含在所述儲集器的所述底部下方的殼體，所述殼體被配置成裝納所述掩模，且被配置成準許在不干擾所述儲集器或其內含物的情況下移除和/或插入所述掩模。

14.根據權利要求1或2所述的系統，其中所述阻斷器被安置成阻斷光從所述光源至所述掩模的每一直線路徑。