[發明專利]流體噴射裝置

有效

• 申請號: 201680087652.0
• 申請日: 2016-10-14
• 公開（公告）號: CN109641454B
• 公開（公告）日: 2021-12-28
• 發明（設計）人: H·J·勒布朗;M·M·瓦倫西亞
• 申請（專利權）人: 惠普發展公司;有限責任合伙企業
• 主分類號: B41J2/04
• 分類號: B41J2/04;B41J2/045
• 代理公司: 中國專利代理(香港)有限公司 72001
• 代理人: 殷超;傅永霄

1.一種流體噴射裝置，包括：

流體噴射室；

與所述流體噴射室連通的液滴噴射元件；

孔層，其具有穿過其形成的與所述流體噴射室連通的孔；以及

襯層，其具有穿過其形成的與所述流體噴射室和所述孔連通的開口，

其中，所述襯層被直接地布置在所述流體噴射室和所述孔層之間，以及其中，所述開口的穿過面積小于所述孔的穿過面積，其中，所述襯層包括障礙以阻礙構建材料的微粒通過所述孔進入所述流體噴射室，以使所述開口形成為具有小于所述孔的穿過面積的穿過面積，并且所述障礙包括一個或多個桿，所述桿在所述開口之間的相對側之間跨所述開口延伸。

2.根據權利要求1所述的流體噴射裝置，其中，所述孔層具有第一側和與所述第一側相反的第二側，以及其中，所述襯層被布置在所述孔層的所述第二側上。

3.一種流體噴射裝置，包括：

流體噴射室；

與所述流體噴射室流體連通的噴嘴；

噴射器元件，其從所述流體噴射室通過所述噴嘴噴射流體劑的液滴；以及

在所述噴嘴的上游的微粒過濾結構，其阻礙構建材料的微粒通過所述噴嘴進入所述流體噴射室，其中所述微粒過濾結構包括跨流體通路延伸的障礙，所述流體通路直接地在所述流體噴射室和所述噴嘴之間，并且所述障礙包括一個或多個桿，所述桿在所述流體通路之間的相對側之間跨所述流體通路延伸。

4.根據權利要求3所述的流體噴射裝置，其中，所述微粒過濾結構相對于所述噴嘴凹入。

5.根據權利要求3所述的流體噴射裝置，其中，所述噴嘴在噴嘴板中形成，且所述微粒過濾結構在布置在所述噴嘴板和所述流體噴射室之間的層中形成。