[發(fā)明專利]蒸鍍遮罩、蒸鍍遮罩的制造方法及有機(jī)半導(dǎo)體元件的制造方法

有效

• 申請(qǐng)?zhí)枺?/td>: 201680083684.3
• 申請(qǐng)日: 2016-07-22
• 公開（公告）號(hào): CN108779549B
• 公開（公告）日: 2021-04-06
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: 西田光志;岸本克彥;矢野耕三
• 申請(qǐng)（專利權(quán)）人: 鴻海精密工業(yè)股份有限公司
• 主分類號(hào): C23C14/04
• 分類號(hào): C23C14/04;C23C14/24;H01L51/50;H05B33/10
• 代理公司: 深圳市賽恩倍吉知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理有限公司 44334
• 代理人: 汪飛亞;薛曉偉

蒸鍍遮罩(100A)具有：基底膜(10A)，其具有多個(gè)第一開口部(13A)且包含高分子；復(fù)合磁體層(20A)，其形成于基底膜(10A)上，且具有實(shí)心部(22A)及非實(shí)心部(23A)；及框架(40A)，其接合于基底膜(10A)的周緣部；多個(gè)第一開口部(13A)形成于對(duì)應(yīng)非實(shí)心部(23A)的區(qū)域，復(fù)合磁體層(20A)包含平均粒徑小于500nm的軟鐵素體粉末及樹脂。

技術(shù)領(lǐng)域

本發(fā)明關(guān)于一種蒸鍍遮罩、蒸鍍遮罩的制造方法，尤其關(guān)于一種具有積層有樹脂層及金屬層的結(jié)構(gòu)的蒸鍍遮罩、蒸鍍遮罩的制造方法、及使用了蒸鍍遮罩的有機(jī)半導(dǎo)體元件的制造方法。

背景技術(shù)

近年來，作為下一代顯示器，有機(jī)電致發(fā)光(EL，Electro Luminescence)顯示設(shè)備受到關(guān)注。目前量產(chǎn)的有機(jī)EL顯示設(shè)備中，主要使用真空蒸鍍法形成有機(jī)EL層。

作為蒸鍍遮罩，一般而言為金屬制的遮罩(金屬遮罩)。然而，隨著有機(jī)EL顯示設(shè)備的高清晰化發(fā)展，更加難以使用金屬遮罩精度良好地形成蒸鍍圖案。其原因在于：在目前的金屬加工技術(shù)中，在成為金屬遮罩的金屬板(例如厚度100μm左右)上，難以以較高精度形成對(duì)應(yīng)于短像素間距(例如10～20μm左右)的較小開口部。

因此，作為用以形成清晰度較高的蒸鍍圖案的蒸鍍遮罩，提出有具有積層有樹脂層及金屬層的結(jié)構(gòu)的蒸鍍遮罩(以下，也稱為“積層型遮罩”)。

例如，專利文獻(xiàn)1揭示了具有積層有樹脂膜和作為金屬磁體的保持構(gòu)件(厚度：30μm～50μm)的結(jié)構(gòu)的蒸鍍遮罩。在樹脂膜，形成有對(duì)應(yīng)于所需蒸鍍圖案的多個(gè)開口部。在保持構(gòu)件，以使樹脂膜的開口部露出的方式形成有多個(gè)尺寸大于樹脂膜開口部的開口部。因此，在使用專利文獻(xiàn)1的蒸鍍遮罩的情況下，蒸鍍圖案為對(duì)應(yīng)于樹脂膜的多個(gè)開口部形成。在比一般金屬遮罩用的金屬制的保持構(gòu)件薄的樹脂膜中，即便為較小的開口部也能夠以高精度形成。根據(jù)專利文獻(xiàn)1，蒸鍍遮罩的保持構(gòu)件是以熱膨脹系數(shù)小于6ppm/℃的金屬磁體，例如以鎳鋼形成。

使用以鎳鋼等金屬磁體形成的保持構(gòu)件的遮罩難以大型化。例如，難以制造一邊超過1m的遮罩。其原因在于用以制作金屬磁體片材的輥軋加工的成本增多。

因此，專利文獻(xiàn)2揭示了具備包含磁性粉末的磁性層代替金屬磁體片材的蒸鍍遮罩。磁性層是通過將包含軟磁體的粉末、黏合劑、溶劑及分散劑等添加劑的磁性分散涂布材涂布于基底膜，并進(jìn)行干燥而形成。作為軟磁體粉末，可列舉：Fe、Ni、Fe-Ni合金、Fe-Co合金或Fe-Ni-Co合金。記載有軟磁體粉末的粒徑為3μm以下，優(yōu)選為1μm以下。作為黏合劑，可例示硅氧烷聚合物及聚酰亞胺。未記載軟磁體粉末與黏合劑的調(diào)配比率。此外，蒸鍍遮罩的開口部是在基底膜上形成磁性層之后形成。

現(xiàn)有技術(shù)文獻(xiàn)

專利文獻(xiàn)

專利文獻(xiàn)1：日本專利特開2013-124372號(hào)公報(bào)

專利文獻(xiàn)2：日本專利特開2014-201819號(hào)公報(bào)

發(fā)明內(nèi)容

發(fā)明要解決的問題

然而，根據(jù)專利文獻(xiàn)2所記載的技術(shù)，難以穩(wěn)定地制造用于制造例如250ppi以上的高清晰度的有機(jī)EL顯示設(shè)備的高清晰度的蒸鍍遮罩。

本發(fā)明鑒于上述情況而完成，其目的在于提供一種可較佳地用于形成高清晰度的蒸鍍圖案的大型積層型蒸鍍遮罩、及其制造方法。此外，本發(fā)明的另一目的在于提供一種使用此種蒸鍍遮罩的有機(jī)半導(dǎo)體元件的制造方法。

解決問題的方法

本發(fā)明的實(shí)施形態(tài)的蒸鍍遮罩具有：基底膜，其具有多個(gè)第一開口部且包含高分子；復(fù)合磁體層，其形成于上述基底膜上，且具有實(shí)心部及非實(shí)心部；及框架，其接合于上述基底膜的周緣部；上述多個(gè)第一開口部形成于對(duì)應(yīng)上述非實(shí)心部的區(qū)域，上述復(fù)合磁體層包含平均粒徑小于500nm的軟鐵素體粉末及樹脂。