[發(fā)明專利]發(fā)電系統(tǒng)、管理裝置以及基板處理裝置

有效

• 申請?zhí)枺?/td>: 201680082743.5
• 申請日: 2016-09-21
• 公開（公告）號: CN108702107B
• 公開（公告）日: 2020-06-23
• 發(fā)明（設計）人: 山峰直利;石津秀雄
• 申請（專利權）人: 株式會社國際電氣
• 主分類號: H02N11/00
• 分類號: H02N11/00;F01K25/10;F01K27/02;H01L21/31;H01L35/30
• 代理公司: 北京銀龍知識產(chǎn)權代理有限公司 11243
• 代理人: 曾賢偉;郝慶芬

本發(fā)明利用廢熱來高效發(fā)電。本發(fā)明向分別設置于多個熱源并連接于冷卻熱源的冷卻介質(zhì)所流過的多個冷卻介質(zhì)通路的發(fā)電部流入將多個熱源冷卻之后的冷卻介質(zhì)來進行發(fā)電，根據(jù)將多個熱源冷卻之后的各個冷卻介質(zhì)的溫度分別控制設置在多個冷卻介質(zhì)通路中的每一個冷卻介質(zhì)通路中的開閉部，并控制冷卻介質(zhì)從多個冷卻介質(zhì)通路向發(fā)電部的流入，以使流入發(fā)電部的冷卻介質(zhì)的溫度成為預定的溫度以上。

技術領域

本發(fā)明涉及發(fā)電系統(tǒng)、管理裝置以及基板處理裝置。

背景技術

近年，由于環(huán)境變動、氣候變動等問題，半導體制造工廠也需要減少環(huán)境負擔，并正在進行節(jié)能措施。因此，例如，考慮通過在半導體制造裝置的反應容器的周圍設置蒸汽產(chǎn)生單元，而利用來自反應容器的廢熱進行發(fā)電等，實現(xiàn)節(jié)能(例如參照專利文獻1)。

現(xiàn)有技術文獻

專利文獻

專利文獻1:日本特開2004-055558號公報

發(fā)明內(nèi)容

發(fā)明要解決的課題

然而，在現(xiàn)有技術中，有時無法獲得充分的發(fā)電輸出，從而發(fā)電效率變差。

本發(fā)明的目的在于利用廢熱來高效發(fā)電。

用于解決課題的手段

根據(jù)本發(fā)明的一方式，提供一種技術，其向分別設置于多個熱源并連接有冷卻所述熱源的冷卻介質(zhì)所流過的多個冷卻介質(zhì)通路的發(fā)電部，流入將所述多個熱源冷卻之后的冷卻介質(zhì)來進行發(fā)電，其中，

該技術根據(jù)將所述多個熱源冷卻之后的各個冷卻介質(zhì)的溫度來分別控制設置在所述多個冷卻介質(zhì)通路中的每一個冷卻介質(zhì)通路中的開閉部，并控制所述冷卻介質(zhì)從所述多個冷卻介質(zhì)通路向所述發(fā)電部的流入，以使流入所述發(fā)電部的所述冷卻介質(zhì)的溫度成為預定的溫度以上。

發(fā)明效果

根據(jù)本發(fā)明，能夠利用廢熱來高效發(fā)電。

附圖說明

圖1是本發(fā)明的一實施方式所涉及的發(fā)電系統(tǒng)的示意性結構圖。

圖2是表示本發(fā)明的一實施方式所涉及的發(fā)電系統(tǒng)的控制系統(tǒng)的結構框圖。

圖3是二進制發(fā)電方式的示意性結構圖。

圖4是珀爾帖發(fā)電方式的示意性結構圖。

圖5是表示珀爾帖元件的發(fā)電概念的示意圖。

圖6是基板處理裝置的縱向剖面圖。

圖7是基板處理裝置的處理爐的縱向剖面圖。

具體實施方式

一邊參照附圖，一邊針對本發(fā)明的一實施方式進行說明。

(發(fā)電系統(tǒng)的結構)

本實施方式所涉及的發(fā)電系統(tǒng)90連結具備熱源的裝置與設施，能夠在一個建筑物中設置全部系統(tǒng)、以與該設施整體協(xié)作的工廠單位來使用。特別是在使用作為熱處理裝置的半導體制造裝置等作為具備熱源的裝置時，由于切實地進行每一個裝置的運轉狀況管理，因此通過使用本系統(tǒng)，能夠高效地利用廢熱。以下，針對使用熱處理裝置作為具備熱源的裝置的例子來進行說明。