[發(fā)明專利]用于過程窗口表征的設(shè)備和方法

有效

• 申請?zhí)枺?/td>: 201680082380.5
• 申請日: 2016-12-08
• 公開（公告）號: CN108700818B
• 公開（公告）日: 2020-10-16
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: 王德勝;萬翔
• 申請（專利權(quán)）人: ASML荷蘭有限公司
• 主分類號: G03F7/20
• 分類號: G03F7/20
• 代理公司: 中科專利商標(biāo)代理有限責(zé)任公司 11021
• 代理人: 王靜

提供一種對圖案化過程的過程窗口進(jìn)行表征的方法，該方法包括：獲得用于圖案的檢查部位的集合，所述圖案限定待利用圖案化過程施加到襯底上的特征，所述檢查部位的集合對應(yīng)于所述特征的集合，所述特征的集合是根據(jù)相應(yīng)的特征對所述圖案化過程的一個(gè)或更多個(gè)過程特性的變化的靈敏度而從所述特征之中選擇的；依據(jù)所述圖案化過程的變化的過程特性對一個(gè)或更多個(gè)襯底進(jìn)行圖案化；以及針對所述過程特性的變化中的每一個(gè)變化，在對應(yīng)的檢查部位處確定所述特征的集合中的至少一些是否在所述一個(gè)或更多個(gè)襯底上產(chǎn)生了不可接受的圖案化結(jié)構(gòu)。

相關(guān)申請的交叉引用

本申請要求于2015年12月22日遞交的美國申請62/270,953的優(yōu)先權(quán)，該美國申請的全部內(nèi)容以引用的方式并入本文中。

技術(shù)領(lǐng)域

本發(fā)明整體上涉及圖案化過程，更具體地涉及圖案化過程的過程窗口表征。

背景技術(shù)

圖案化過程采取許多形式。示例包括光學(xué)光刻術(shù)、電子束光刻術(shù)、壓印光刻術(shù)、噴墨打印、定向自組裝等。這些過程經(jīng)常用于制造相對小的非常精細(xì)的部件，諸如電學(xué)部件(比如集成電路或光伏電池)、光學(xué)部件(比如數(shù)字反射鏡裝置或波導(dǎo))以及機(jī)械部件(比如加速度計(jì)或微流裝置)。

圖案化過程經(jīng)常被表征，用于改善品質(zhì)或提高良率。經(jīng)常，來自圖案化過程的缺陷可能相對昂貴，這是因?yàn)槿毕菰谝褕D案化部件的生產(chǎn)運(yùn)作期間易于被重復(fù)或相對頻繁地出現(xiàn)。為了減輕這種缺陷，當(dāng)引入新的圖案化過程(或圖案化過程的新變形)(諸如新掩模版、圖案化工具(或最近服務(wù)的工具)、過程選配方案、消耗品或產(chǎn)品)時(shí)，制造商經(jīng)常憑經(jīng)驗(yàn)對新過程的過程窗口進(jìn)行表征。過程窗口通常指示：針對圖案化過程的一個(gè)或更多個(gè)特性，所述特性在不引入不可接受的量的缺陷的情況下能夠變化多少，例如，在針對空間、電學(xué)、光學(xué)或其他尺寸的容許度內(nèi)產(chǎn)生圖案化結(jié)構(gòu)的用于光學(xué)光刻過程的可接受的聚焦和曝光的范圍。

發(fā)明內(nèi)容

以下是本技術(shù)的一些方面的非窮舉性列舉。在以下披露內(nèi)容中描述了這些和其他方面。

一些方面包括一種對圖案化過程的過程窗口進(jìn)行表征的過程，所述過程包括：獲得用于圖案的檢查部位的集合，所述圖案限定利用圖案化過程被施加至襯底的特征，所述檢查部位的集合對應(yīng)于所述特征的子集，所述特征的子集是根據(jù)相應(yīng)的特征對所述圖案化過程的一個(gè)或更多個(gè)過程特性的變化的靈敏度而從所述特征之中選擇的；依據(jù)變化的過程特性對一個(gè)或更多個(gè)襯底進(jìn)行圖案化；和針對所述過程特性的變化中的每一個(gè)變化，在對應(yīng)的檢查部位處確定所述特征的子集中的至少一些是否在所述一個(gè)或更多個(gè)襯底上產(chǎn)生了不可接受的圖案化結(jié)構(gòu)。

一些方面包括一種獲得檢查部位以使圖案化過程合格的過程，該過程包括：由一臺或更多臺計(jì)算機(jī)，利用多種不同的模擬來模擬所述圖案化過程，每一個(gè)模擬依據(jù)不同的過程特性，并且每一個(gè)模擬利用圖案中的相同特征中的至少一些；針對不同的模擬中的每一個(gè)，檢測相應(yīng)的模擬指示的在相應(yīng)的模擬結(jié)果中是不可接受的特征；和基于檢測到的特征來選擇所述特征的子集。

一些方面包括一種用于存儲指令的、有形的、非暫時(shí)性機(jī)器可讀介質(zhì)，所述指令在由數(shù)據(jù)處理設(shè)備執(zhí)行時(shí)使得所述數(shù)據(jù)處理裝置執(zhí)行包括上文所提及的過程的操作。

一些方面包括一種系統(tǒng)，所述系統(tǒng)包括：一個(gè)或更多個(gè)處理器；和用于存儲指令的存儲器，所述指令在由所述處理器執(zhí)行時(shí)使得所述處理器實(shí)現(xiàn)上文所提及的過程的操作。

附圖說明

當(dāng)參考以下附圖來閱讀本申請時(shí)，將更好地理解本技術(shù)的上文所提及的方面和其他方面，在附圖中，相同的附圖標(biāo)記表示相似或相同的元件：

圖1是光刻系統(tǒng)的框圖；

圖2是圖案化過程的模擬模型的框圖；

圖3是用于識別檢查部位的過程的流程圖；

圖4是用于將圖案化過程表征的過程的流程圖；