[發明專利]用于過程窗口表征的設備和方法

有效

• 申請號: 201680082380.5
• 申請日: 2016-12-08
• 公開（公告）號: CN108700818B
• 公開（公告）日: 2020-10-16
• 發明（設計）人: 王德勝;萬翔
• 申請（專利權）人: ASML荷蘭有限公司
• 主分類號: G03F7/20
• 分類號: G03F7/20
• 代理公司: 中科專利商標代理有限責任公司 11021
• 代理人: 王靜

1.一種對圖案化過程的過程窗口進行表征的方法，所述方法包括：

獲得用于圖案的檢查部位的集合，所述圖案限定待利用圖案化過程施加到襯底上的特征，所述檢查部位的集合對應于所述特征的子集，所述特征的子集是根據相應的特征對所述圖案化過程的一個或更多個過程特性的變化的靈敏度而從所述特征之中選擇的；

依據所述圖案化過程的變化的過程特性對一個或更多個襯底進行圖案化；和

針對所述過程特性的變化中的每一個變化，在對應的檢查部位處確定所述特征的子集中的至少一些是否在所述一個或更多個襯底上產生了不可接受的圖案化結構。

2.如權利要求1所述的方法，其中，獲得檢查部位的集合包括：

由一臺或更多臺計算機，利用多種不同的模擬來模擬所述圖案化過程，每一個模擬依據不同的過程特性；

針對不同的模擬中的每一個模擬，檢測在相應的模擬結果中相應的模擬指示是不可接受的特征；和

基于檢測到的特征來選擇所述特征的子集。

3.如權利要求2所述的方法，其中，基于檢測到的特征來選擇所述特征的子集包括：

基于所述模擬結果中相應的特征對所述圖案化過程的過程特性的變化的靈敏度來選擇特征，或

基于針對相應的特征產生了不可接受的模擬結果的所述模擬中的過程特性的變化量來選擇檢測到的特征中的至少一些。

4.如權利要求2所述的方法，其中，模擬包括：

獲得與所述圖案對應的掩模版的設計布局；

獲得光刻設備的參數；

選擇用于模擬的所述圖案化過程的過程特性的集合；和

由一臺或更多臺計算機，利用具有所獲得的參數的光刻設備依據所選擇的過程特性的集合來估計襯底上的圖案化結構的尺寸。

5.如權利要求1所述的方法，包括：

基于所述特征的子集中的至少一些是否在所述一個或更多個襯底上產生了不可接受的圖案化結構的確定情況，確定用于已變化的過程特性中的至少一些的過程窗口。

6.如權利要求1所述的方法，其中，確定所述特征的子集中的至少一些是否產生了不可接受的圖案化結構包括：

利用電子束檢查工具測量在相應的部位處特征的子集中的至少一些。

7.如權利要求1所述的方法，其中，針對不同的曝光場，基于與相應的曝光場對應的過程條件來指定不同的檢查部位。

8.如權利要求1所述的方法，包括：

基于對一個或更多個過程特性的變化的靈敏度來對所述特征進行排序；和

基于所述排序來選擇所述特征的子集。

9.如權利要求1所述的方法，包括：

基于所述特征中的至少一些對過程特性的變化的靈敏度來指定檢查量度。

10.如權利要求1所述的方法，包括：

確定產生可接受的結果的過程特性的范圍；和

通過感測圖案化過程是否保持在所述過程特性的范圍內來監測所述圖案化過程。

11.一種對圖案化過程的過程窗口進行表征的方法，包括：

獲得用于圖案的檢查部位，所述圖案限定待利用圖案化過程施加到襯底上的特征，所述檢查部位對應于所述圖案的特征，所述特征是根據相應的特征對所述圖案化過程的一個或更多個過程特性的變化的靈敏度而從所述特征之中選擇的；

依據所述圖案化過程的變化的過程特性對一個或更多個襯底進行圖案化；和

針對所述過程特性的變化中的至少一些，在對應的檢查部位處確定所述特征是否在所述一個或更多個襯底上產生了不可接受的圖案化結構。