[發明專利]傳送墊以及使用該傳送墊的傳送裝置和傳送方法

在審

• 申請號: 201680082024.3
• 申請日: 2016-03-08
• 公開（公告）號: CN108883536A
• 公開（公告）日: 2018-11-23
• 發明（設計）人: 高田篤;高津雅一;大橋恭介;石崎幸三;小野寺德朗
• 申請（專利權）人: 納騰股份有限公司
• 主分類號: B25J15/06
• 分類號: B25J15/06;B65G49/07;H01L21/677
• 代理公司: 北京銀龍知識產權代理有限公司 11243
• 代理人: 張敬強;李平

本發明提供一種傳送墊，其借助傳送墊的吸附力或懸浮力，吸附和固定載置在一部分傳送面上的傳送物，或者懸浮該傳送物從而對此進行非接觸傳送。本發明還提供一種使用該傳送墊的傳送裝置和傳送方法。本發明的傳送墊(2)由連通著多個氣孔的多孔性基板構成。通過對傳送墊(2)的背面進行減壓或加壓處理，來吸附或懸浮載置在傳送墊(2)表面的傳送物(W)，且滿足覆蓋傳送墊(2)表面的傳送物的面積率α與導通率β之間的關系式。

技術領域

本發明涉及一種傳送墊，其通過吸附和固定諸如晶片或聚合物膜這樣的物品來對此進行傳送，或者通過懸浮這類物品從而對此進行非接觸傳送。本發明還涉及使用了該傳送墊的傳送裝置和傳送方法。具體地說，本發明涉及一種傳送墊，其通過真空泵或壓縮機對傳送墊的背面進行減壓或加壓，即使傳送面的一部分未被傳送物覆蓋，也能通過多個氣孔來吸附和固定被放置在基板表面上的傳送物從而對其實行傳送，或通過懸浮來非接觸傳送該物品。本發明還涉及使用了所述傳送墊的傳送裝置和傳送方法。此外，本發明還涉及一種防止靜電(剝離帶電)的方法，其使用一種機構從而當被吸附和傳送的傳送物需要從傳送墊上分離時，可通過操作壓縮機使傳送物懸浮，于是可防止此時發生的靜電(剝離帶電)。

背景技術

在使用真空吸盤的情況下，通過真空泵來對傳送墊(吸附如晶片和聚合物膜等)的背面進行減壓，通過連通其表面與背面的的氣孔來吸附和保持作為作業對象的傳送物。此時，針對傳送墊表面側的大氣壓，需要將傳送墊背面側的內壓保持在接近真空的壓力上。對于這樣的真空吸盤，當傳送物沒有覆蓋作為傳送表面的整個面時，一部分氣孔開口至傳送墊表面，外部空氣通過氣孔流入，故不能充分獲得傳送墊表面和背面之間的壓差，因而無法獲得所需的吸附力。

在現有技術中，已知有這樣一種真空吸盤，其與表面和背面連通的多個氣孔為小直徑以減少氣孔整體的導通性(例如，參見專利文獻1和專利文獻2)。

根據上述現有的真空吸盤，即使一部分氣孔未被傳送物覆蓋而開口至傳送墊表面，通過氣孔從表面流到背面的流量會受到限制，并且表面和背面之間的壓差也可被保持一定。所以，即使是被載置于傳送墊表面一部分的傳送物，也能借助規定的吸附力被保持在傳送墊表面的一定位置。

現有技術文獻

專利文獻

[專利文獻1]日本實用新型公報No.43-16175

[專利文獻2]日本專利公報No.2693720

但是，在上述真空吸盤中，人們往往僅著眼于減小多個氣孔的直徑從而降低真空吸盤的導通性，其目的在于將內壓保持恒定。然而，僅降低導通性卻不能獲得為吸附傳送物的吸附力。也就是說，傳送物在與覆蓋氣孔開口的底面相垂直的方向上，借助于向傳送物下方(從表面至背面)作用的大氣壓與向上方(從背面至表面)作用的內壓之間的壓差，被吸附于多孔性基板的表面。此吸附力可通過被傳送物覆蓋的氣孔開口的總面積乘以上述壓差來得到。

因此，僅僅減小氣孔的直徑以降低整個真空吸盤的導通性或僅僅降低氣孔的密度，會減少被傳送物所覆蓋的氣孔開口的總面積，其結果是無法獲得真空吸盤所需的吸附力。

如上所述，真空吸盤通過外部壓力和內部壓力之間的壓差來吸附傳送物。然而，本發明的發明人已經注意到：過逆轉外部壓力和內部壓力可以使傳送物懸浮起來。但是，現有的傳送墊不能同時實現吸附和懸浮。

此外，現有技術還需要防止在使用真空吸盤固定和釋放傳送物時產生的靜電。

本發明是鑒于上述現有技術的問題而完成的，其目的在于提供一種改進了的傳送墊，其借助傳送墊的吸附力或懸浮力，來切實地吸附載置在傳送面的一部分上的傳送物，或使得傳送物懸浮從而以非接觸方式對此進行傳送。本發明還要提供一種采用了上述傳送墊的傳送裝置和傳送方法。再者，本發明的目的又在于消除在吸附和傳送物體時產生的靜電帶電現象。

發明內容