[發(fā)明專利]超聲波清洗設(shè)備以及利用其的超聲波清洗方法

在審

• 申請(qǐng)?zhí)枺?/td>: 201680081755.6
• 申請(qǐng)日: 2016-09-01
• 公開（公告）號(hào): CN109070151A
• 公開（公告）日: 2018-12-21
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: 池佑鎭;徐己弘
• 申請(qǐng)（專利權(quán)）人: EO科技股份有限公司
• 主分類號(hào): B08B7/02
• 分類號(hào): B08B7/02;B23K26/60;B23K26/70
• 代理公司: 南京瑞弘專利商標(biāo)事務(wù)所(普通合伙) 32249
• 代理人: 梁天彥

本發(fā)明公開一種利用超聲波對(duì)加工材料的表面進(jìn)行清洗的超聲波清洗設(shè)備及利用其的超聲波清洗方法。所述超聲波清洗設(shè)備包括：第一清洗單元，以能夠沿上下方向及水平方向移動(dòng)的方式設(shè)置，包括向所述加工材料的上表面?zhèn)壬涑龀暡ǖ纳喜砍暡òl(fā)生器；以及第二清洗單元，在進(jìn)行清洗工藝時(shí)，在其內(nèi)部設(shè)置所述加工材料，包括向所述加工材料的下表面?zhèn)壬涑龀暡ǖ南虏砍暡òl(fā)生器。

技術(shù)領(lǐng)域

本發(fā)明涉及一種利用超聲波對(duì)加工材料的表面進(jìn)行清洗的超聲波清洗設(shè)備及利用其的超聲波清洗方法。

背景技術(shù)

激光加工設(shè)備利用特定的光學(xué)系統(tǒng)向加工材料照射自激光光源出射的激光束，由此執(zhí)行如標(biāo)記(marking)、蝕刻(etching)、沖孔(punching)、刻劃(scribing)、切割(dicing)等的激光加工工藝。另一方面，在執(zhí)行此種激光加工工藝后，會(huì)在加工材料的表面附著有因激光加工產(chǎn)生的污染物質(zhì)。為了去除此種污染物質(zhì)，使用利用包括超聲波發(fā)生器的超聲波清洗設(shè)備對(duì)加工材料的表面進(jìn)行清洗的方法。然而，在現(xiàn)有的超聲波清洗設(shè)備中，在加工材料受到污染的表面位于超聲波發(fā)生器的相對(duì)側(cè)的情形時(shí)，需旋轉(zhuǎn)加工材料而較為煩雜，存在清洗設(shè)備的尺寸變大，因此而產(chǎn)生的清洗設(shè)備的制作費(fèi)用也增加的問(wèn)題。

發(fā)明內(nèi)容

[發(fā)明所要解決的問(wèn)題]

本發(fā)明的實(shí)施例提供一種利用超聲波對(duì)加工材料的表面進(jìn)行清洗的超聲波清洗設(shè)備及利用其的超聲波清洗方法。

[解決問(wèn)題的技術(shù)手段]

在本發(fā)明的一一方案中，

提供一種超聲波清洗設(shè)備，其是利用超聲波對(duì)加工材料的表面進(jìn)行清洗的清洗設(shè)備，上述超聲波清洗設(shè)備包括：

第一清洗單元，以可沿上下方向及水平方向移動(dòng)的方式設(shè)置，包括向上述加工材料的上表面?zhèn)壬涑龀暡ǖ纳喜砍暡òl(fā)生器；以及

第二清洗單元，在進(jìn)行清洗工藝時(shí)，在其內(nèi)部設(shè)置上述加工對(duì)象物，包括向上述加工材料的下表面?zhèn)壬涑龀暡ǖ南虏砍暡òl(fā)生器。

上述第一清洗單元可還包括向上述加工材料的彼此相對(duì)的兩側(cè)面?zhèn)壬涑龀暡ǖ膫?cè)面超聲波發(fā)生器。

上述第一清洗單元可還包括：第一側(cè)面超聲波發(fā)生器，向上述加工材料的彼此相對(duì)的第一兩側(cè)面?zhèn)壬涑龀暡ǎ灰约暗诙?cè)面超聲波發(fā)生器，向上述加工材料的彼此相對(duì)的第二兩側(cè)面?zhèn)壬涑龀暡ā?/p>

上述第二清洗單元可還包括：容器；以及清洗液，填充至上述容器的內(nèi)部，以便浸泡上述加工材料。例如，上述清洗液可包括去離子水(DI water)。

上述下部超聲波發(fā)生器可設(shè)置至上述容器的底部，上述加工材料設(shè)置至上述下部超聲波發(fā)生器上。此處，上述加工材料能夠以通過(guò)支持臺(tái)而遠(yuǎn)離上述下部超聲波發(fā)生器的上表面的方式設(shè)置。上述加工材料可安裝至治具(jig)而設(shè)置至上述容器的內(nèi)部。

在進(jìn)行清洗工藝時(shí)，上述上部超聲波發(fā)生器能夠以與上述清洗液接觸的方式設(shè)置。

在本發(fā)明的另一方案中，

提供一種超聲波清洗方法，其是利用超聲波清洗設(shè)備對(duì)加工材料的表面進(jìn)行清洗，上述超聲波清洗設(shè)備包括：第一清洗單元，以可沿上下方向及水平方向移動(dòng)的方式設(shè)置，包括上部超聲波發(fā)生器；以及第二清洗單元，包括下部超聲波發(fā)生器；上述超聲波清洗方法包括如下步驟：

上述上部超聲波發(fā)生器向上述加工材料的上表面?zhèn)壬涑龀暡ǘ鴮?duì)上述加工材料的上表面進(jìn)行清洗的步驟；以及

上述下部超聲波發(fā)生器向上述加工材料的下表面?zhèn)壬涑龀暡ǘ鴮?duì)上述加工材料的下表面進(jìn)行清洗的步驟。

可同時(shí)或依次清洗上述加工材料的上表面及下表面。

上述第二清洗單元可還包括容器及填充至上述容器的內(nèi)部的清洗液。