[發明專利]超聲波清洗設備以及利用其的超聲波清洗方法

在審

• 申請號: 201680081755.6
• 申請日: 2016-09-01
• 公開（公告）號: CN109070151A
• 公開（公告）日: 2018-12-21
• 發明（設計）人: 池佑鎭;徐己弘
• 申請（專利權）人: EO科技股份有限公司
• 主分類號: B08B7/02
• 分類號: B08B7/02;B23K26/60;B23K26/70
• 代理公司: 南京瑞弘專利商標事務所(普通合伙) 32249
• 代理人: 梁天彥

1.一種超聲波清洗設備，其特征在于，利用超聲波對加工材料的表面進行清洗，所述超聲波清洗設備包括：

第一清洗單元，以能夠沿上下方向及水平方向移動的方式設置，所述第一清洗單元包括向所述加工材料的上表面側射出超聲波的上部超聲波發生器；以及

第二清洗單元，在進行清洗工藝時，在所述第二清洗單元內部設置所述加工對象物，所述第二清洗單元包括向所述加工材料的下表面側射出超聲波的下部超聲波發生器。

2.根據權利要求1所述的超聲波清洗設備，其特征在于，所述第一清洗單元還包括向所述加工材料的彼此相對的兩側面側射出超聲波的側面超聲波發生器。

3.根據權利要求1所述的超聲波清洗設備，其特征在于，所述第一清洗單元還包括：第一側面超聲波發生器，向所述加工材料的彼此相對的第一兩側面側射出超聲波；以及第二側面超聲波發生器，向所述加工材料的彼此相對的第二兩側面側射出超聲波。

4.根據權利要求1至3中任一項所述的超聲波清洗設備，其特征在于，所述第二清洗單元還包括：容器；及清洗液，所述清洗液填充至所述容器的內部，以便浸泡所述加工材料。

5.根據權利要求4所述的超聲波清洗設備，其特征在于，所述清洗液包括去離子水(DIwater)。

6.根據權利要求4所述的超聲波清洗設備，其特征在于，所述下部超聲波發生器設置至所述容器的底部，所述加工材料設置至所述下部超聲波發生器上。

7.根據權利要求6所述的超聲波清洗設備，其特征在于，所述加工材料以通過支持臺而遠離所述下部超聲波發生器的上表面的方式設置。

8.根據權利要求6所述的超聲波清洗設備，其特征在于，所述加工材料安裝至治具(jig)而設置至所述容器的內部。

9.根據權利要求4所述的超聲波清洗設備，其特征在于，在進行清洗工藝時，所述上部超聲波發生器以與所述清洗液接觸的方式設置。

10.一種超聲波清洗方法，其特征在于，利用超聲波清洗設備對加工材料的表面進行清洗，所述超聲波清洗設備包括：第一清洗單元，以能夠沿上下方向及水平方向移動的方式設置，所述第一清洗單元包括上部超聲波發生器；以及第二清洗單元，包括下部超聲波發生器，所述超聲波清洗方法包括：

所述上部超聲波發生器向所述加工材料的上表面側射出超聲波而對所述加工材料的所述上表面進行清洗；以及

所述下部超聲波發生器向所述加工材料的下表面側射出超聲波而對所述加工材料的所述下表面進行清洗。

11.根據權利要求10所述的超聲波清洗方法，其特征在于，同時或依次清洗所述加工材料的所述上表面及所述加工材料的所述下表面。

12.根據權利要求10所述的超聲波清洗方法，其特征在于，所述第二清洗單元還包括容器以及填充至所述容器的內部的清洗液。

13.根據權利要求12所述的超聲波清洗方法，其特征在于，還包括：

以遠離所述第二清洗單元的方式移動所述第一清洗單元；

將所述加工材料設置至所述容器的所述清洗液的內部；以及

向所述第二清洗單元側移動所述第一清洗單元。

14.根據權利要求13所述的超聲波清洗方法，其特征在于，所述加工材料以遠離所述下部超聲波發生器的上表面的方式設置。

15.根據權利要求13所述的超聲波清洗方法，其特征在于，所述加工材料安裝至治具(jig)而設置至所述容器的內部。