[發明專利]用于壓印微結構或者納米結構的壓印方法

有效

• 申請號: 201680079437.6
• 申請日: 2016-11-18
• 公開（公告）號: CN108472981B
• 公開（公告）日: 2020-05-19
• 發明（設計）人: A.勞赫;F.西弗斯;G.基弗索爾;B.塞斯;C.富瑟;A.普雷奇;M.拉姆;M.海姆;W.霍夫米勒;H.扎什卡
• 申請（專利權）人: 捷德貨幣技術有限責任公司
• 主分類號: B42D25/328
• 分類號: B42D25/328;B42D25/324;B42D25/425;B42D25/355;B44C1/17;B44C1/24;B44B5/02
• 代理公司: 北京市柳沈律師事務所 11105
• 代理人: 任麗榮

本發明涉及一種用于將具有在微米或者納米范圍內尺寸的結構壓印到由漆構成的漆層(6)中的方法，其中，該漆層(6)被設置在薄膜幅面(5)的一側上并且能借助紫外輻射硬化。首先，將薄膜幅面(5)以其上存在還未被硬化的漆層的那側沿輸送方向通過加壓輥子(2)壓在壓印筒(1)上，待壓印的、微米或者納米范圍內的結構處于壓印筒的表面上。在此，微米或者納米范圍內的結構在漆層中成形。接著，漆層(6)通過用于紫外輻射的源的紫外輻射硬化。按照本發明，薄膜幅面(5)從上方或者至少從斜上方導引至壓印筒(1)。

技術領域

本發明涉及一種用于向由漆構成的漆層中壓印具有在微米或者納米范圍內尺寸的結構的方法，其中，該漆層被設置在薄膜幅面的一側上并且能借助紫外輻射硬化。首先，將薄膜幅面以其上存在還未被硬化的漆層的那側沿輸送方向通過加壓輥子壓在壓印筒上，待壓印的、微米或者納米范圍內的結構處于壓印筒的表面上。在此，微米或者納米范圍內的結構在漆層中成形。接著，通過用于紫外輻射的源的紫外輻射使漆層硬化。

背景技術

這種方法已經已知多年，其中，薄膜幅面從下方或者至少從斜下方導引至壓印筒。還未被硬化的漆層的一部分漆沿輸送方向堵在漆層接觸壓印筒的位置近前，并且構成所謂的“漆楔塊”。然而這種漆楔塊在由現有技術已知的方法中是不均勻分布的，其中，不僅該楔塊的厚度而且其沿壓印筒的轉動軸線的方向的分布都是持續和不可預見地變化的。漆楔塊的幾何形狀和分布因而是隨機的，以此特別不利地形成漆層在薄膜幅面不均勻的分布。在微米或納米范圍內的結構因而被壓印在不均勻分布的漆層中，其中，在壓印和接著的借助UV輻射對漆層的硬化之后也形成了不一樣厚的和沿分別基于薄膜幅面的水平方向不均勻分布的、具有被壓入的微米或納米范圍內的結構的漆層。

發明內容

因此本發明要解決的技術問題是，改進這種方法，以克服現有技術的缺點。

該技術問題通過獨立權利要求的特征解決。本發明的改進設計方案是從屬權利要求的內容。

按照本發明，薄膜幅面從上方或者至少從斜上方導引至壓印筒。令人意料不到的是，還未硬化的漆層的漆的沿輸送方向積聚在漆層接觸壓印筒的位置近前的部分導致在壓印筒的表面上更大的被潤濕的面。此外，與現有技術的方法的漆楔塊相反，按照本發明的方法的漆楔塊不是不均勻分布的并且其幾何形狀和分布不是隨機形成的。因而在薄膜幅面上，不僅在用微米或納米范圍內的結構壓印前，而且在期間和之后，都得到具有可預知和均勻的厚度和更大寬度，以及具有在薄膜幅面上可預知的和不變的位置的漆層。這特別有利地導致具有穩定和可預知的特性的最終產品和導致更低的廢品率，就是說導致更少瑕疵或者說與規定不符的壓印的最終產品，例如在鈔票中或者說在鈔票上的具有衍射的或者鏡狀結構的防偽線或者防偽帶。

在按照本發明的方法中在壓印筒的表面上更大的被潤濕的面的原因是，重力把漆層除了薄膜幅面的運動方向以外還附加地導引至薄膜幅面接觸壓印筒的位置。與此相反的是在現有技術的方法中，漆層被重力從壓印筒拉走。

本發明另外的優點是，通過在壓印筒的表面上的更大的被潤濕的面，空氣從壓印筒的表面上的壓印結構逸出的時間增加，使得漆層能在薄膜幅面速度更高并且在被壓印的漆層中的氣泡數量不變的情況下被壓印，或者相對于此備選地在薄膜幅面速度不變但是在壓印的漆層中的氣泡數量減少的情況下被壓印。

在按照本發明的壓印方法中，加壓輥子以高機械壓力壓在壓印筒上，使得漆層的漆的可明顯辨別的量被擠壓。這意味著，漆層在壓印后的寬度不再與在壓印筒之前的漆層的寬度一樣，而是更寬。例如，在壓印之前漆的寬度為620mm，壓印后為720mm。

本發明要解決的另一個技術問題是，實現在被壓印漆層中氣泡數量保持不變情況下薄膜幅面更高的速度，或者在在被壓印漆層中氣泡數量減小情況下薄膜幅面的速度相同或者還更高，即所謂的“無氣泡”壓印。