[發明專利]用于壓印微結構或者納米結構的壓印方法有效
| 申請號： | 201680079437.6 | 申請日： | 2016-11-18 |
| 公開（公告）號： | CN108472981B | 公開（公告）日： | 2020-05-19 |
| 發明（設計）人： | A.勞赫;F.西弗斯;G.基弗索爾;B.塞斯;C.富瑟;A.普雷奇;M.拉姆;M.海姆;W.霍夫米勒;H.扎什卡 | 申請（專利權）人： | 捷德貨幣技術有限責任公司 |
| 主分類號： | B42D25/328 | 分類號： | B42D25/328;B42D25/324;B42D25/425;B42D25/355;B44C1/17;B44C1/24;B44B5/02 |
| 代理公司： | 北京市柳沈律師事務所 11105 | 代理人： | 任麗榮 |
| 地址： | 德國*** | 國省代碼： | 暫無信息 |
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| 摘要： | |||
| 搜索關鍵詞： | 用于 壓印 微結構 或者 納米 結構 方法 | ||
【權利要求書】：
1.一種用于將具有在微米或者納米范圍內的尺寸的結構壓印到漆層中的方法，其中，該漆層被設置在薄膜幅面的一側上并且能借助紫外輻射硬化，其中，首先將薄膜幅面以其上存在還未被硬化的漆層的那側沿輸送方向通過加壓輥子壓在其表面上有待壓印的、微米或者納米范圍內的結構的壓印筒上，使得微米或者納米范圍內的結構在漆層中成形，接著，漆層通過用于紫外輻射的源的紫外輻射硬化，其特征在于，為了無氣泡的壓印，在壓印筒的區域中和/或在沿輸送方向漆層接觸壓印筒并且還未硬化的漆層的一部分漆積聚的位置上，漆層的漆具有低粘度。
2.按照權利要求1所述的方法，其特征在于，漆粘度的減小通過漆的加熱實現。
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