[發明專利]圖案描繪裝置

有效

• 申請號: 201680074442.8
• 申請日: 2016-12-14
• 公開（公告）號: CN109478018B
• 公開（公告）日: 2020-11-24
• 發明（設計）人: 倉重貴廣;渡辺智行;加藤正紀
• 申請（專利權）人: 株式會社尼康
• 主分類號: G03F7/20
• 分類號: G03F7/20;G03F7/24
• 代理公司: 北京三友知識產權代理有限公司 11127
• 代理人: 王天堯;許曼

曝光裝置EX，其具有將根據描繪資料調變的光束(LB)投射至基板(P)上的曝光頭部(14)，藉由使基板(P)移動于副掃描方向，于基板(P)上描繪對應描繪資料的圖案。曝光裝置(EX)具備描繪控制部(100)，其將待描繪于基板(P)的圖案在副掃描方向的描繪倍率的變更位置，與以測量機構測量基板(P)的移動量變化的測量機構所測量的移動量對應地設定，在描繪倍率的變更位置設定在排列于副掃描方向的復數個像素中的特定像素的副掃描方向途中的情形，將在副掃描方向中特定像素的一個前的像素的描繪完畢的位置作為新變更位置，修正以測量機構測量的移動量與像素的尺寸的對應關系，而設定至描繪倍率的次一變更位置為止從描繪資料儲存部(108)讀出的像素資料的位址。

技術領域

本發明關于將根據描繪資料的光束照射于基板等被照射體上以描繪圖案的圖案描繪裝置。

背景技術

近年，是有嘗試一種稱作可印刷電子(printable electronics)，于以樹脂或極薄玻璃構成可撓性(flexible)的基板上，藉由凹版方式、凸版方式、絲印(silk print)方式、或噴墨方式等印刷法、或者于涂布于可撓性基板上的感光層投射紫外線的光圖案的光圖案法，來形成顯示器等電子元件。為了形成包含作為電子元件的薄膜電晶體(TFT)、IC晶片、感測器元件、電阻元件、電容元件等電路圖案(單一配線層或多層配線層)，由于被要求圖案的描繪解析能力高且高精度的定位精度，因此正在研究非使用印刷法而是使用光圖案化法。

于日本特開2004－272167號公報中揭示了一種圖案形成裝置，是依據與以既定像素間節距(像素尺寸)規定的描繪資料，將雷射射束照射于基材上，且使射束與基材相對地二維移動，而于基材上TFT或彩色濾光器等圖案。此特開2004－272167號公報的圖案形成裝置，是檢測形成于基材(可撓性基材)上的前步驟圖案周圍的復數處上所形成的對準標記的各位置，根據其結果求出基材的伸縮(及變形)，依據所求出的伸縮(變形)修正描繪資料，藉此來進行已防止與前步驟圖案的位置偏離的圖案曝光。在進行該描繪資料的修正時，是依據基材的伸縮，修正細分化成在基材上使射束移動的方向(主掃描方向)與支承基材的移動載臺的移動方向(副掃描方向)的像素的尺寸(像素節距)。

然而，例如在以輥對輥(Roll To Roll)方式于長邊基材上連續形成圖案的場合，基材的長邊方向的伸縮非為一定，而有在各處變動的情形。亦即，即使在與長邊基材上所形成的一個電子元件對應的圖案形成區域(曝光區域)中，亦有在副掃描方向的伸縮非為一定的情形，即使在基材上的一個圖案形成區域描繪圖案的途中，為了避免與基底圖案(前步驟圖案)的疊合精度或總節距精度(圖案形成區域全長的尺寸精度) 劣化，必須將在副掃描方向的倍率修正細微地改變。

發明內容

本發明的第1態樣是一種圖案描繪裝置，其具有將根據描繪資料調變的光束投射至基板上的曝光頭部，藉由使所述基板移動于副掃描方向，于所述基板上描繪對應所述描繪資料的圖案，其具備：移動機構，支承所述基板并使之移動于所述副掃描方向；測量機構，藉由較以所述描繪資料規定的像素在所述基板上的尺寸小的解析能力，測量所述基板的移動量變化；資料儲存部，將排列于所述副掃描方向的復數個所述像素的各個像素的像素資料儲存為所述描繪資料，且與以所述測量機構測量的所述基板的移動量相應地更新像素資料的讀出位址；倍率設定部，將待描繪于所述基板的所述圖案在所述副掃描方向的描繪倍率的變更位置，與以所述測量機構測量的所述移動量對應地設定；以及控制部，在所述描繪倍率的變更位置設定在排列于所述副掃描方向的復數個所述像素中的特定像素的所述副掃描方向途中的情形，將在所述副掃描方向中所述特定像素的一個前的像素的描繪完畢的位置作為新變更位置，修正以所述測量機構測量的所述移動量與所述像素的尺寸的對應關系，而設定至所述描繪倍率的次一變更位置為止從所述資料儲存部讀出的所述像素資料的位址。