[發(fā)明專利]圖案描繪裝置

有效

• 申請?zhí)枺?/td>: 201680074442.8
• 申請日: 2016-12-14
• 公開（公告）號: CN109478018B
• 公開（公告）日: 2020-11-24
• 發(fā)明（設計）人: 倉重貴廣;渡辺智行;加藤正紀
• 申請（專利權(quán)）人: 株式會社尼康
• 主分類號: G03F7/20
• 分類號: G03F7/20;G03F7/24
• 代理公司: 北京三友知識產(chǎn)權(quán)代理有限公司 11127
• 代理人: 王天堯;許曼

1.一種圖案描繪裝置，其具有將根據(jù)描繪資料調(diào)變的光束投射至基板上的曝光頭部，藉由使所述基板移動于副掃描方向，于所述基板上描繪對應所述描繪資料的圖案，其具備：

移動機構(gòu)，支承所述基板并使之移動于所述副掃描方向；

測量機構(gòu)，藉由較以所述描繪資料規(guī)定的像素在所述基板上的尺寸小的解析能力，測量所述基板的移動量變化；

資料儲存部，將排列于所述副掃描方向的復數(shù)個所述像素的各個像素的像素資料儲存為所述描繪資料，且與以所述測量機構(gòu)測量的所述基板的移動量相應地更新像素資料的讀出位址；

倍率設定部，將待描繪于所述基板的所述圖案在所述副掃描方向的描繪倍率的變更位置，與以所述測量機構(gòu)測量的所述移動量對應地設定；以及

控制部，在所述描繪倍率的變更位置設定在排列于所述副掃描方向的復數(shù)個所述像素中的特定像素的所述副掃描方向途中的情形，將在所述副掃描方向中所述特定像素的一個前的像素的描繪完畢的位置作為新變更位置，修正以所述測量機構(gòu)測量的所述移動量與所述像素的尺寸的對應關系，而設定至所述描繪倍率的次一變更位置為止從所述資料儲存部讀出所述像素資料的位址。

2.如權(quán)利要求1所述的圖案描繪裝置，其中，

所述資料儲存部，將待描繪于設定在所述基板上的曝光區(qū)域內(nèi)的圖案分割成二維的所述像素，并將在與所述副掃描方向交叉的主掃描方向排列的一行量的像素的各個所對應的所述像素資料儲存為像素資料行，且將該像素資料行的復數(shù)行對應于排列在所述副掃描方向的像素予以儲存。

3.如權(quán)利要求2所述的圖案描繪裝置，其中，

所述測量機構(gòu)具備數(shù)位計數(shù)器，該數(shù)位計數(shù)器是以設定于所述基板上的所述像素在所述副掃描方向的尺寸的1/k(其中k≧2)的解析能力測量所述基板的移動量；

所述控制部，是在以所述倍率設定部設定的所述描繪倍率的變更位置，變更以所述數(shù)位計數(shù)器測量的所述移動量與所述像素的尺寸的對應關系。

4.如權(quán)利要求3所述的圖案描繪裝置，其中，

在將根據(jù)以所述數(shù)位計數(shù)器測量的所述移動量設定的所述變更位置設為Xmn，將在變更位置Xmn描繪的所述像素資料行在所述副掃描方向的位址設為XA2(n)，將至所述變更位置Xmn為止的所述描繪倍率的修正系數(shù)設為ΔMx(n－1)，將設定于所述變更位置Xmn的前一個的新變更位置設為Xm(n－1)’，將在所述新變更位置Xm(n－1)’描繪的所述像素資料行在所述副掃描方向的位址設為XA2(n－1)、將使所述變更位置Xmn錯開于排列在所述副掃描方向的所述像素間的位置的新變更位置設為Xmn’時，所述控制部，

是從以Xmn’＝Xm(n－1)’+{XA2(n)－XA2(n－1)}·ΔMx(n－1)的運算求出的新的變更位置Xmn’將所述描繪倍率的修正系數(shù)變更為ΔMx(n)。

5.如權(quán)利要求4所述的圖案描繪裝置，其中，

所述控制部，在未修正所述描繪倍率的情形時將所述修正系數(shù)ΔMx設定為ΔMx＝k，在縮小所述描繪倍率的情形時設定為ΔMx＜k，在放大所述描繪倍率的情形時則設定為ΔMx＞k。