[發明專利]密封裝置

有效

• 申請號: 201680074417.X
• 申請日: 2016-10-20
• 公開（公告）號: CN108474262B
• 公開（公告）日: 2020-07-31
• 發明（設計）人: 西川豐治;濱田雄久;桑村祥弘
• 申請（專利權）人: 三菱日立電力系統株式會社
• 主分類號: F01D11/04
• 分類號: F01D11/04;F01D11/10;F02C7/28;F16J15/447
• 代理公司: 中科專利商標代理有限責任公司 11021
• 代理人: 趙子翔

1.一種密封裝置，其特征在于，

所述密封裝置具備：

翅片，其在靜止體與旋轉體之間的間隙中從所述靜止體朝向所述旋轉體延伸，且以與所述旋轉體非接觸的方式設置；

貫通孔，其相對于能夠在所述靜止體與所述旋轉體之間的所述間隙中流動的流體的流動方向而在所述翅片的上游側且在所述靜止體與所述旋轉體中的至少一方開口形成，該開口朝向能夠在所述靜止體與所述旋轉體之間的所述間隙中流動的流體的上游側設置；以及

高壓流體供給部，其將壓力比能夠在所述靜止體與所述旋轉體之間的所述間隙中流動的流體高的高壓流體從所述貫通孔向所述間隙供給，

利用從所述貫通孔供給至所述間隙的所述高壓流體，在所述流體的流動方向的上游側協助增強流體與所述翅片發生碰撞而產生的渦流。

2.根據權利要求1所述的密封裝置，其特征在于，

所述翅片在流體的流動方向上設置有多個，所述貫通孔設置在各所述翅片中的流體的流動方向的上游側。

3.根據權利要求1或2所述的密封裝置，其特征在于，

相對于包括作為所述旋轉體的轉子、機室、流體通路、以及作為所述靜止體的流體噴嘴部在內的旋轉機械進行設置，

其中，

所述轉子沿著自身的旋轉的軸心延伸，

所述機室收納所述轉子，

所述流體通路沿著所述轉子的延伸方向而設置在所述轉子與所述機室之間，

所述流體噴嘴部形成為包圍所述轉子的外周的環狀且以在所述流體噴嘴部的外表面與所述轉子的外周面之間具有與所述流體通路連通的間隙的方式安裝于所述機室，并且，所述流體噴嘴部具有沿著環狀而形成在所述流體噴嘴部的內部的流體噴嘴室、以及從所述流體噴嘴室朝向所述轉子的延伸方向而與所述流體通路連通的開口，向所述流體噴嘴室供給過熱后的流體，

相對于所述旋轉機械進行的設置為，以從所述流體噴嘴部朝向所述轉子延伸的方式在所述流體噴嘴部的外表面與所述轉子的外周面之間的所述間隙設置有所述翅片，在所述流體噴嘴部以朝向所述轉子開口的方式設置有所述貫通孔，所述高壓流體供給部供給相比于向所述旋轉機械供給且能夠在所述流體噴嘴部的外表面與所述轉子的外周面之間的所述間隙中流動的流體而言為高壓且低溫的高壓流體。

4.根據權利要求1或2所述的密封裝置，其特征在于，

相對于包括作為所述旋轉體的轉子、機室、流體通路、以及作為所述靜止體的流體噴嘴部在內的旋轉機械進行設置，

其中，

所述轉子沿著自身的旋轉的軸心延伸，

所述機室收納所述轉子，

所述流體通路沿著所述轉子的延伸方向而設置在所述轉子與所述機室之間，

所述流體噴嘴部形成為包圍所述轉子的外周的環狀且以在所述流體噴嘴部的外表面與所述轉子的外周面之間具有與所述流體通路連通的間隙的方式安裝于所述機室，并且，所述流體噴嘴部具有沿著環狀而形成在所述流體噴嘴部的內部的流體噴嘴室、以及從所述流體噴嘴室朝向所述轉子的延伸方向而與所述流體通路連通的開口，向所述流體噴嘴室供給過熱后的流體，

相對于所述旋轉機械進行的設置為，以從所述流體噴嘴部朝向所述轉子延伸的方式在所述流體噴嘴部的外表面與所述轉子的外周面之間的所述間隙設置有所述翅片，在所述轉子以朝向所述流體噴嘴部開口的方式設置有所述貫通孔，所述高壓流體供給部供給相比于向所述旋轉機械供給且能夠在所述流體噴嘴部的外表面與所述轉子的外周面之間的所述間隙中流動的流體為高壓且低溫的高壓流體。