[發明專利]除了用于圖像形成裝置的滑動構件以外的滑動構件、部件以及機械裝置的噪音降低方法

在審

• 申請號: 201680072180.1
• 申請日: 2016-12-09
• 公開（公告）號: CN108368448A
• 公開（公告）日: 2018-08-03
• 發明（設計）人: 佐佐木貴彥;山口哲司
• 申請（專利權）人: 道康寧東麗株式會社;株式會社理光
• 主分類號: C10M171/00
• 分類號: C10M171/00;C10M103/00;C10M103/02;C10M103/06;C10M107/04;C10M107/06;C10M107/38;C10M107/44;C10M107/50;C10N50/08
• 代理公司: 上海專利商標事務所有限公司 31100
• 代理人: 高宏偉;胡燁

1.一種滑動構件，其為具備與其它構件接觸的潤滑被膜的除用于圖像形成裝置的滑動構件以外的滑動構件，該潤滑被膜表面基于JIS B0601-2001的算數平均粗糙度Ra為0.01～1.0μm，該潤滑被膜至少包含：

(A)被膜形成性樹脂粘合劑100質量份、

(B)固體潤滑劑5～200質量份。

2.如權利要求1所述的滑動構件，其特征在于，所述算數平均粗糙度Ra為0.01～0.40μm。

3.如權利要求1或2所述的滑動構件，其特征在于，其它構件為紙、金屬板或樹脂板，所述算數平均粗糙度Ra為0.01～0.30μm。

4.如權利要求1～3中任一項所述的滑動構件，其特征在于，所述成分(A)為選自聚酰胺酰亞胺樹脂、環氧樹脂、有機硅樹脂、酚醛樹脂、聚丙烯酸樹脂、聚氨酯樹脂、聚烯烴樹脂或它們的改性物中的一種以上的被膜形成性樹脂粘合劑。

5.如權利要求1～4中任一項所述的滑動構件，其特征在于，所述成分(B)為選自氟樹脂、聚乙烯樹脂、聚酰胺樹脂、聚丙烯樹脂、聚酰亞胺樹脂、有機硅樹脂、二硫化鉬、石墨、氧化硅、氧化鋁、氮化硼、氧化鋅、氧化鈦、氧化鋯中的一種以上的固體潤滑劑。

6.如權利要求1～5中任一項所述的滑動構件，其特征在于，相對于使不具有潤滑被膜的構件與其它構件滑動時所發出的摩擦聲，使具有潤滑被膜的滑動構件與其它構件滑動時所發出的摩擦聲降低了至少5％以上。

7.一種除用于圖像形成裝置的部件以外的部件，其為具有權利要求1～6中任一項所述的滑動構件的驅動部件、滑動部件或搬運部件。

8.一種除圖像形成裝置以外的機械裝置，其具有權利要求1～6中任一項所述的滑動構件。

9.一種機械裝置的噪音降低方法，其特征在于，在具備與其它構件接觸的潤滑被膜的除用于圖像形成裝置的滑動構件以外的滑動構件中，該潤滑被膜至少包含：

(A)被膜形成性樹脂粘合劑100質量份、

(B)固體潤滑劑5～200質量份，

并且使該潤滑被膜表面基于JIS B0601-2001的算數平均粗糙度Ra為0.01～1.0μm。

10.如權利要求9所述的機械裝置的噪音降低方法，其特征在于，其它構件是紙、金屬板或樹脂板。

11.一種滑動構件用涂覆劑組合物，其含有：

(A)被膜形成樹脂粘合劑100質量份、

(B)固體潤滑劑5～200質量份、

(C)任意溶劑，

并且固化而形成基于JIS B0601-2001的算數平均粗糙度Ra為0.01～0.30μm的潤滑被膜。

12.如權利要求11所述的滑動構件用涂覆劑組合物，其特征在于，所述涂覆劑組合物是水性乳液型、溶劑型或者水溶型的形態，并且形成所述算數平均粗糙度Ra為0.01～0.25μm的潤滑被膜。

13.一種噪音降低了的除圖像形成裝置以外的機械裝置的制造方法，其特征在于，使用權利要求11或12所述的滑動構件用涂覆劑組合物。