[發明專利]除了用于圖像形成裝置的滑動構件以外的滑動構件、部件以及機械裝置的噪音降低方法在審
| 申請號: | 201680072180.1 | 申請日: | 2016-12-09 |
| 公開(公告)號: | CN108368448A | 公開(公告)日: | 2018-08-03 |
| 發明(設計)人: | 佐佐木貴彥;山口哲司 | 申請(專利權)人: | 道康寧東麗株式會社;株式會社理光 |
| 主分類號: | C10M171/00 | 分類號: | C10M171/00;C10M103/00;C10M103/02;C10M103/06;C10M107/04;C10M107/06;C10M107/38;C10M107/44;C10M107/50;C10N50/08 |
| 代理公司: | 上海專利商標事務所有限公司 31100 | 代理人: | 高宏偉;胡燁 |
| 地址: | 日本*** | 國省代碼: | 日本;JP |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 滑動構件 圖像形成裝置 機械裝置 潤滑被膜 滑動部件 驅動部件 質量份 噪音 被膜形成性樹脂 固體潤滑劑 平均粗糙度 粘合劑 構件接觸 摩擦系數 噪音降低 摩擦聲 涂覆劑 滑動 算數 | ||
本發明提供一種能夠維持良好的摩擦系數、且降低了頻繁滑動的構件所發出的摩擦聲(噪音)的滑動構件(但用于圖像形成裝置的滑動部件構件除外)。此外,本發明的目的還在于提供一種使用所述滑動構件的部件、機械裝置以及從機械裝置發出的噪音的降低方法。本發明的目的還在于提供用于這種滑動構件的涂覆劑組合物。一種滑動構件,其為具備與其它構件接觸的潤滑被膜的滑動構件(但用于圖像形成裝置的滑動部件構件除外),該潤滑被膜表面基于JIS B0601(2001)的算數平均粗糙度Ra為0.01~1.0μm,該潤滑被膜至少包含100質量份的(A)被膜形成性樹脂粘合劑、以及5~200質量份的(B)固體潤滑劑。具有該滑動構件的驅動部件等(但用于圖像形成裝置的驅動部件除外)。
技術領域
本發明涉及降低了除圖像形成裝置以外的機械裝置所發出的噪音(特別是摩擦聲)的滑動構件。本發明進一步涉及具有除用于圖像形成裝置的構件以外的該構件的部件、機械裝置。本發明還涉及使用該滑動構件的除圖像形成裝置以外的機械裝置的噪音降低方法。本申請要求享受2015年12月11日在日本提交的日本專利特愿2015-242309號的優先權,其中除了用于圖像形成裝置者以外的內容援引于此。
本發明中,所謂“除圖像形成裝置以外”或者“除用于圖像形成裝置者以外”,在本發明中是指本申請人明確且主動地從滑動構件、部件、機械裝置以及機械裝置的噪音降低方法中排除了用于圖像形成裝置的那些對象。這里所謂的“圖像形成裝置”,是指打印機、復印機、傳真機、掃描儀以及這些裝置與附屬品組合而成的復合產品、以及這些產品所使用的消耗品。
背景技術
構件之間滑動時所發出的聲音有因粘滑(日文:スティックスリップ)而產生嘎吱聲和因各構件之間的粗糙度而產生的摩擦聲。對于前者,可通過減小潤滑被膜的靜摩擦系數與動摩擦系數之差來抑制滑動構件開始滑動時的粘滑,從而降低嘎吱聲。但是對于后者,其為頻繁滑動的動摩擦狀態進行中所產生的摩擦聲,即使減小潤滑被膜的靜摩擦系數與動摩擦系數之差,也無法抑制摩擦聲。
另一方面,例如,專利文獻1中公開了為了得到摩擦聲得以抑制的預涂覆金屬板,制備含有基底樹脂、樹脂珠粒和蠟等潤滑劑的涂膜,且使該涂膜表面的算數平均粗糙度Ra為0.3~4.5μm。然而,該文獻中所記載的構件并非是發出頻繁滑動的動摩擦狀態進行中所產生的摩擦聲的滑動構件,且該文獻給出了表面算數平均粗糙度Ra在1.0μm以下時存在盤面耐劃痕性變差的消極教導,其并非是能夠解決抑制滑動構件摩擦聲這一技術問題的技術方案。
現有技術文獻
專利文獻
專利文獻1:日本專利特開2007-167836號公報(日本專利第4104637號公報)
發明內容
本發明所要解決的技術問題
本發明人的目的在于提供一種能夠維持良好的摩擦系數、且降低了頻繁滑動的構件所發出的摩擦聲(噪音)的滑動構件。而且,本發明的目的還在于提供一種使用該滑動構件的部件、機械裝置以及從機械裝置發出的噪音的降低方法。此外,本發明的目的還在于提供用于這種滑動構件的涂覆劑組合物。
解決技術問題所采用的技術方案
為了解決上述技術問題,本發明人進行了深入研究,結果發現通過以下滑動構件能夠解決上述技術問題,從而完成了本發明。所述滑動構件為具備與其它構件接觸的潤滑被膜的滑動構件(但用于圖像形成裝置的滑動構件除外),該潤滑被膜表面基于JIS B0601(2001)的算數平均粗糙度Ra為0.01~1.0μm,該潤滑被膜至少包含:
(A)被膜形成性樹脂粘合劑100質量份、
(B)固體潤滑劑5~200質量份。
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