[發(fā)明專利]用于在基板上沉積材料的設(shè)備、用于在基板上沉積一個(gè)或多個(gè)層的系統(tǒng)和用于監(jiān)視真空沉積系統(tǒng)的方法

在審

• 申請?zhí)枺?/td>: 201680071483.1
• 申請日: 2016-12-12
• 公開（公告）號(hào): CN108431294A
• 公開（公告）日: 2018-08-21
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: 迪特爾·哈斯;斯蒂芬·班格特;喬斯·曼紐爾·迭格斯-坎波;佩曼·哈米吉爾;克里斯托弗·于爾根·漢森
• 申請（專利權(quán)）人: 應(yīng)用材料公司
• 主分類號(hào): C23C14/54
• 分類號(hào): C23C14/54;G01B11/06
• 代理公司: 北京律誠同業(yè)知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理有限公司 11006
• 代理人: 徐金國;趙靜

本公開內(nèi)容提供一種用于在基板(10)上沉積材料的設(shè)備(100)。設(shè)備(100)包括真空腔室(110)；至少一個(gè)沉積源(120)，位于真空腔室(110)中；塑形裝置(130)，位于所述至少一個(gè)沉積源(120)處，其中塑形裝置(130)經(jīng)構(gòu)造以阻擋至少一部分從所述至少一個(gè)沉積源(120)發(fā)射的材料；和攝影機(jī)裝置(140)，位于真空腔室(110)中，其中攝影機(jī)裝置(140)經(jīng)構(gòu)造以監(jiān)視塑形裝置(130)上的材料累積。

技術(shù)領(lǐng)域

本公開內(nèi)容的實(shí)施方式涉及一種用于在基板上沉積材料的設(shè)備，一種用于在基板上沉積一個(gè)或多個(gè)層的系統(tǒng)和一種用于監(jiān)視真空沉積系統(tǒng)的方法。本公開內(nèi)容的實(shí)施方式特別涉及有機(jī)發(fā)光二極管(organic light-emitting diode，OLED)裝置的制造中的有機(jī)材料的沉積。

背景技術(shù)

用于在基板上沉積層的技術(shù)包括舉例為熱蒸發(fā)、物理氣相沉積(physical vapordeposition，PVD)和化學(xué)氣相沉積(chemical vapor deposition，CVD)。經(jīng)涂覆的基板可使用于若干應(yīng)用中和若干技術(shù)領(lǐng)域中。舉例來說，經(jīng)涂覆的基板可使用于有機(jī)發(fā)光二極管(organic light-emitting diodes，OLED)裝置的領(lǐng)域中。OLEDs可使用于制造用于顯示信息的電視屏幕、計(jì)算機(jī)屏幕、移動(dòng)電話、其他手持裝置和類似者。OLED裝置例如是OLED顯示器，可包括一個(gè)或多個(gè)有機(jī)材料層，位于都沉積于基板上的兩個(gè)電極之間。

可使用蒸發(fā)源以在基板上沉積層，例如是在基板上沉積有機(jī)材料的一個(gè)或多個(gè)層。蒸發(fā)的材料也可沉積于真空沉積系統(tǒng)的各種部件上。舉例為在預(yù)定維護(hù)(service)間隔中，應(yīng)從至少一些部件移除沉積的材料，以確保真空沉積系統(tǒng)的可操作性。

有鑒于上述，克服本領(lǐng)域中的至少一些問題的用于在基板上沉積材料的新設(shè)備、用于在基板上沉積一個(gè)或多個(gè)層的新系統(tǒng)和用于監(jiān)視真空沉積系統(tǒng)的新方法是有益的。本公開內(nèi)容特別是旨在提供一種可提供有效率的清潔工藝以減少真空沉積系統(tǒng)的停機(jī)時(shí)間(downtime)的設(shè)備、系統(tǒng)和方法。

發(fā)明內(nèi)容

有鑒于上述，提供一種用于在基板上沉積材料的設(shè)備、一種用于在基板上沉積一個(gè)或多個(gè)層的系統(tǒng)和一種用于監(jiān)視真空沉積系統(tǒng)的方法。本公開內(nèi)容的其他方面、優(yōu)點(diǎn)和特征通過權(quán)利要求書、說明書和附圖而清楚。

根據(jù)本公開內(nèi)容的一個(gè)方面，提供一種用于在基板上沉積材料的設(shè)備。所述設(shè)備包括真空腔室；至少一個(gè)沉積源，位于真空腔室中；塑形裝置(shaper device)，位于所述至少一個(gè)沉積源處，其中塑形裝置經(jīng)裝配以阻擋至少一部分從所述至少一個(gè)沉積源發(fā)射的材料；和攝影機(jī)裝置，位于真空腔室中，其中攝影機(jī)裝置經(jīng)構(gòu)造以監(jiān)視塑形裝置上的材料累積。

根據(jù)本公開內(nèi)容的另一方面，提供一種用于在基板上沉積一個(gè)或多個(gè)層的系統(tǒng)。所述系統(tǒng)包括根據(jù)本文所述實(shí)施方式的用于在基板上沉積材料的設(shè)備；裝載鎖定腔室，連接于真空腔室，用于將基板裝載至真空腔室中；和卸載鎖定腔室，連接于真空腔室，用于從真空腔室卸載具有沉積在基板上的一個(gè)或多個(gè)層的基板。

根據(jù)本公開內(nèi)容的其他方面，提供一種用于監(jiān)視真空沉積系統(tǒng)的方法。所述方法包括利用蒸發(fā)源蒸發(fā)用于沉積于基板上的材料；和利用安裝于真空腔室中的攝影機(jī)裝置監(jiān)視塑形裝置上的材料累積，塑形裝置經(jīng)構(gòu)造以阻擋至少一部分從蒸發(fā)源發(fā)射的材料。

實(shí)施方式還涉及用于執(zhí)行所公開的方法的設(shè)備，并且包括用于執(zhí)行各所述的方法方面的設(shè)備部分。這些方法方面可通過硬件部件、由合適的軟件程序編程的計(jì)算機(jī)、兩者的任何結(jié)合或任何其他方式執(zhí)行。此外，根據(jù)本公開內(nèi)容的實(shí)施方式還涉及用于操作所述的設(shè)備的方法。用于操作所述的設(shè)備的方法包括用于執(zhí)行設(shè)備的每個(gè)功能的方法方面。

附圖說明

為了可詳細(xì)理解本公開內(nèi)容的上述特征，可參照實(shí)施方式而具有簡要概述于上的本公開內(nèi)容的更具體的說明。附圖涉及本公開內(nèi)容的實(shí)施方式并且說明于下方：