[發明專利]用于在基板上沉積材料的設備、用于在基板上沉積一個或多個層的系統和用于監視真空沉積系統的方法

在審

• 申請號: 201680071483.1
• 申請日: 2016-12-12
• 公開（公告）號: CN108431294A
• 公開（公告）日: 2018-08-21
• 發明（設計）人: 迪特爾·哈斯;斯蒂芬·班格特;喬斯·曼紐爾·迭格斯-坎波;佩曼·哈米吉爾;克里斯托弗·于爾根·漢森
• 申請（專利權）人: 應用材料公司
• 主分類號: C23C14/54
• 分類號: C23C14/54;G01B11/06
• 代理公司: 北京律誠同業知識產權代理有限公司 11006
• 代理人: 徐金國;趙靜

1.一種用于在基板上沉積材料的設備，包括：

真空腔室；

至少一個沉積源，位于所述真空腔室中；

塑形裝置，位于所述至少一個沉積源處，其中所述塑形裝置經構造以阻擋至少一部分從所述至少一個沉積源發射的所述材料；和

攝影機裝置，位于所述真空腔室中，其中所述攝影機裝置經構造以監視所述塑形裝置上的材料累積。

2.如權利要求1所述的設備，其中所述塑形裝置的至少一部分布置于所述攝影機裝置的視場內，以監視所述塑形裝置上的所述材料累積。

3.如權利要求1所述的設備，其中所述攝影機裝置經構造以基于由所述基板提供的所述塑形裝置的反射來監視所述塑形裝置上的所述材料累積。

4.如權利要求3所述的設備，其中所述攝影機裝置位于所述真空腔室內，使得所述基板的至少一部分布置于所述攝影機裝置的視場內。

5.如權利要求1所述的設備，進一步包括反射裝置，安裝于所述真空腔室中，其中所述反射裝置的至少一部分布置于所述攝影機裝置的視場內，以基于由所述反射裝置提供的所述塑形裝置的反射來監視所述塑形裝置上的所述材料累積。

6.如權利要求1至5中任一項所述的設備，其中所述攝影機裝置安裝于所述至少一個沉積源上。

7.如權利要求1至6中任一項所述的設備，其中所述攝影機裝置相對于從所述至少一個沉積源發射的所述材料的發射方向對準。

8.如權利要求1至7中任一項所述的設備，進一步包括監視裝置，所述監視裝置通過無線連接或通過纜線而連接于所述攝影機裝置，其中所述監視裝置經構造以確定所述塑形裝置上的所述材料累積。

9.如權利要求1至8中任一項所述的設備，進一步包括加熱裝置，所述加熱裝置經構造以加熱所述塑形裝置來移除所述塑形裝置上累積的所述材料。

10.如權利要求9所述的設備，其中所述設備經構造以基于所述材料累積來調整用于加熱所述塑形裝置的一個或多個工藝參數。

11.如權利要求10所述的設備，其中所述一個或多個工藝參數選自由加熱起始時間、最大加熱溫度、升溫速率(temperature ramp rate)、加熱持續時間和它們的任何組合所組成的群組。

12.如權利要求1至11中任一項所述的設備，其中所述至少一個沉積源是蒸發源，并且其中所述塑形裝置經構造以定界(delimit)由所述蒸發源蒸發的所述材料的分布錐。

13.一種用于在基板上沉積一個或多個層的系統，包括：

如權利要求1至12中任一項所述的設備；

裝載鎖定腔室，連接于真空腔室，用于將所述基板裝載至所述真空腔室中；和

卸載鎖定腔室，連接于所述真空腔室，用于從所述真空腔室卸載具有沉積在所述基板上的所述一個或多個層的所述基板。

14.一種用于監視真空沉積系統的方法，包括：

利用蒸發源蒸發用于在基板上沉積的材料；和

利用安裝于真空腔室中的攝影機裝置監視塑形裝置上的材料累積，所述塑形裝置經構造以阻擋至少一部分從所述蒸發源發射的所述材料。

15.如權利要求14所述的方法，進一步包括：

基于被監視的所述材料累積，確定用于加熱裝置的一個或多個工藝參數；和

利用已確定的所述一個或多個工藝參數，通過所述加熱裝置加熱所述塑形裝置。