[發明專利]使用偏振目標及偏振照明以控制衍射級的振幅及相位

有效

• 申請號: 201680070563.5
• 申請日: 2016-06-01
• 公開（公告）號: CN108369087B
• 公開（公告）日: 2021-04-30
• 發明（設計）人: V·萊溫斯基
• 申請（專利權）人: 科磊股份有限公司
• 主分類號: G01B11/02
• 分類號: G01B11/02;G01B9/02
• 代理公司: 北京律盟知識產權代理有限責任公司 11287
• 代理人: 張世俊

本發明提供計量學散射測量目標、光學系統及對應計量學工具及測量方法。目標及/或光學系統經設計以通過在對所述散射測量目標的照明后旋即建立零級衍射信號之間的180°相移而相對于來自所述散射測量目標的所述零級衍射信號增強第一級衍射信號。例如，所述目標可經設計以通過在對其照明后旋即產生零級衍射信號之間的第一相移而響應于偏振照明，且光學系統可經設計以通過偏振照明來照明所述目標且分析所得衍射信號以在對其照明后旋即產生零級衍射信號之間的第二相移。所述相移累加達180°以抵消所述零級衍射信號，其中每一相移介于0°與180°之間。

相關申請案的交叉參考

本申請案主張2015年12月8日申請的第62/264,514號美國臨時專利申請案的權利，所述申請案的全文以引用的方式并入本文中。

技術領域

本發明涉及計量學領域，且更特定來說涉及在計量學工具的光學系統中的偏振目標及對應偏振控制。

背景技術

針對光學重疊測量的當前方法依靠兩個主要技術：成像及散射測量。在成像中，在光學系統的視域中測量周期性目標的位置且從打印于不同層中的目標的位置推斷重疊(OVL)。散射測量利用通過打印于不同層處的周期性重疊標記(具有周期結構的目標)散射的電磁(EM)波之間的干擾以推斷所述層的相對位移。在兩種情況中，對所述經散射EM波的所述衍射級的振幅及相位的控制可提供重疊對測量的準確度及精確度的關鍵影響。

發明內容

以下是提供對本發明的初始理解的簡化概述。概述不一定識別本發明的關鍵元件或限制本發明的范圍，而僅充當對以下說明的引入。

本發明的一個方面提供一種方法，其包括通過設計散射測量目標及/或通過配置計量學工具的光學系統以在所述散射測量目標的照明后旋即產生零級衍射信號之間的180°相移而相對于來自具有粗略間距的所述散射測量目標的所述零級衍射信號增強第一級衍射信號。

本發明的這些、另外及/或其它方面及/或優點闡釋于下文詳細描述中：可從詳細描述推論；及/或可通過實踐本發明而習得。

附圖說明

為更好地理解本發明的實施例且以展示如何實現所述實施例，現將純粹經由實例方式參考附圖，其中在整個說明書中相似數字指定對應元件或區段。

在附圖中：

圖1A是實施根據本發明的一些實施例的對偏振相位的控制以抵消零級衍射信號的計量學系統的高階示意性圖解。

圖1B、1C、2A及2B是根據本發明的一些實施例的散射測量目標的高階示意性圖解。

圖3是根據本發明的一些實施例的光學系統的高階示意性圖解。

圖4是說明根據本發明的一些實施例的方法的高階流程圖。

具體實施方式

在以下描述中，描述本發明的各種方面。出于解釋的目的，闡述特定配置及細節以提供對本發明的徹底理解。然而，所屬領域的技術人員還將明白可在無本文中所呈現的此類特定細節的情況下實踐本發明。此外，可已省略或簡化所熟知特征以不致使本發明不清楚。特定參考圖式，應強調，展示的細節是通過實例的方式且僅出于本發明的各種實施例的闡釋性論述的目的，且為了提供確信為本發明的原理及概念性方面的最有用且容易理解的描述而呈現。在這方面，并未試圖比本發明的基礎理解所必需的描述更詳細地展示本發明的結構細節，圖式的所述描述使所屬領域的技術人員容易明白如何在實踐中體現本發明的若干形式。

在詳細闡釋本發明的至少一個實施例之前，應理解，本發明的應用不限于以下描述中闡述或圖式中所說明的組件的構造及布置的細節。本發明適用于可以各種方式實踐或執行的其它實施例以及適用于所揭示實施例的組合。同樣地，應理解，本文所采用的措詞及術語是出于描述用途且不應被視為限制性。