[發明專利]使用偏振目標及偏振照明以控制衍射級的振幅及相位

有效

• 申請號: 201680070563.5
• 申請日: 2016-06-01
• 公開（公告）號: CN108369087B
• 公開（公告）日: 2021-04-30
• 發明（設計）人: V·萊溫斯基
• 申請（專利權）人: 科磊股份有限公司
• 主分類號: G01B11/02
• 分類號: G01B11/02;G01B9/02
• 代理公司: 北京律盟知識產權代理有限責任公司 11287
• 代理人: 張世俊

1.一種散射測量計量方法，其包括：

通過設計散射測量目標及/或通過配置計量學工具的光學系統以在對所述散射測量目標的照明后旋即產生零級衍射信號之間的180°相移而相對于來自具有粗略間距的所述散射測量目標的零級衍射信號增強第一級衍射信號；以及

配置所述計量學工具的光學系統以通過兩個垂直偏振的照明分量來照明所述散射測量目標，且分析與所述兩個垂直偏振照明分量互補的在兩個垂直偏振方向上的所述衍射信號以抵消所述零級衍射信號。

2.根據權利要求1所述的散射測量計量方法，其進一步包括設計所述散射測量目標以使偏振器以所述粗略間距的一半產生所述180°相移，其中所述偏振器經配置以進行垂直偏振。

3.根據權利要求1所述的散射測量計量方法，其進一步包括組合由目標設計的第一相移與由光學系統布置的第二相移，其中所述第一相移與第二相移的總和是180°。

4.根據權利要求1所述的散射測量計量方法，其進一步包括設計具有非偏振結構的散射測量目標以使具有至少一個偏振結構的至少一個額外目標層經配置以產生180°相移。

5.根據權利要求4所述的散射測量計量方法，其中所述至少一個額外目標層是在所述非偏振結構上方。

6.根據權利要求4所述的散射測量計量方法，其中所述至少一個額外目標層是在所述非偏振結構下方。

7.一種散射測量計量學目標裝置，其具有粗略間距且經配置以在對其照明后旋即產生零級衍射信號之間的180°相移，其中具有所述粗略間距的區域的第一部分在一個方向上被分段且具有所述粗略間距的所述區域的第二部分在與所述區域的第一部分的方向相垂直的方向上被分段，其中所述目標具有初始非偏振結構，且具有至少一個偏振結構的至少一個額外目標層經配置以產生所述180°相移。

8.根據權利要求7所述的散射測量計量學目標裝置，其經設計以使偏振器以所述粗略間距的一半產生所述180°相移，其中所述偏振器經配置以進行垂直偏振。

9.根據權利要求8所述的散射測量計量學目標裝置，其中所述偏振器以精細間距被分段。

10.根據權利要求7所述的散射測量計量學目標裝置，其中所述至少一個偏振結構以精細、未解析間距被分段。

11.根據權利要求10所述的散射測量計量學目標裝置，其中所述至少一個偏振結構沿垂直于所述初始非偏振結構的分段方向的方向被分段。

12.根據權利要求7所述的散射測量計量學目標裝置，其中所述額外目標層是在所述非偏振結構上方。

13.根據權利要求7所述的散射測量計量學目標裝置，其中所述額外目標層是在所述非偏振結構下方。

14.一種具有光學系統的計量學工具裝置，所述光學系統經配置以通過兩個垂直偏振照明分量來照明非偏振散射測量目標，且分析在互補所述兩個垂直偏振照明分量的兩個垂直偏振方向上的所得衍射信號以通過配置所述照明及所述分析以產生來自所述散射測量目標的相同零級衍射信號之間的180°相移而抵消所述零級衍射信號。

15.根據權利要求14所述的計量學工具裝置，其中所述光學系統包括用于控制所述照明及所述衍射信號的偏振的以下至少一者：偏振器及分析器、至少一個波片、至少一個偏振光束分離器及至少一個中性密度濾光器。