[發明專利]荷電粒子線裝置及掃描電子顯微鏡

有效

• 申請號: 201680070516.0
• 申請日: 2016-11-29
• 公開（公告）號: CN108292580B
• 公開（公告）日: 2019-06-11
• 發明（設計）人: 熊本和哉;松田定好
• 申請（專利權）人: 松定精度株式會社
• 主分類號: H01J37/244
• 分類號: H01J37/244;H01J37/10;H01J37/22;H01J37/28
• 代理公司: 北京國昊天誠知識產權代理有限公司 11315
• 代理人: 南霆;王寧

1.一種荷電粒子線裝置，其特征在于，具有：

荷電粒子源，射出荷電粒子線；

加速電源，加速從所述荷電粒子源射出的荷電粒子線，并連接于所述荷電粒子源；

物鏡透鏡，將所述荷電粒子線聚焦于試料；

第二檢測器，其為使伴隨著所述荷電粒子線入射而從所述試料射出的電磁波以及在所述試料反射的電磁波中至少其中之一入射，并檢測入射的電磁波；

其中，相對于所述試料，所述物鏡透鏡為設置于所述荷電粒子線的入射側的相反側；以及

所述第二檢測器，相對于所述試料，設置于所述荷電粒子線入射的側。

2.根據權利要求1所述的荷電粒子線裝置，其特征在于，還包含：

第一檢測器，其為使伴隨著所述荷電粒子線入射而從所述試料射出的反射電子以及二次電子中至少其中之一入射，并檢測入射的反射電子或二次電子。

3.根據權利要求2所述的荷電粒子線裝置，其特征在于，所述第二檢測器為能夠同時進行第一檢測器的反射電子或二次電子的檢測以及所述第二檢測器的電磁波的檢測，并以不妨礙所述第一檢測器檢測反射電子或二次電子的方式配置。

4.根據權利要求2或3所述的荷電粒子線裝置，其特征在于，相較于所述反射電子或所述二次電子入射至所述第一檢測器的位置，所述電磁波入射至所述第二檢測器的一部分的位置為更靠近所述荷電粒子線入射至所述試料的入射位置。

5.根據權利要求2或3所述的荷電粒子線裝置，其特征在于，所述荷電粒子線為通過具有所述荷電粒子源的上部裝置的內部，最終并通過設置于所述上部裝置的孔部而朝所述試料射出，且所述第一檢測器為安裝于所述孔部的最底部。

6.根據權利要求2或3所述的荷電粒子線裝置，其特征在于，所述第一檢測器為二次電子檢測器，其為產生吸引由所述荷電粒子線所造成從所述試料射出的二次電子的電場，并檢測所述二次電子，且所述第一檢測器為配置于具有所述荷電粒子源的射出荷電粒子線的上部裝置側部。

7.根據權利要求2或3所述的荷電粒子線裝置，其特征在于，所述荷電粒子線為通過具有所述荷電粒子源的上部裝置的內部，最終并通過設置于所述上部裝置的孔部而朝所述試料射出，且所述第一檢測器為安裝于較所述孔部更接近所述荷電粒子源之處。

8.根據權利要求1至3中任一項所述的荷電粒子線裝置，其特征在于，還包含：遲滯電源，于所述試料賦予負電位，用于減速所述荷電粒子線。

9.根據權利要求8所述的荷電粒子線裝置，其特征在于，于所述試料與所述物鏡透鏡間，配置使所述試料與所述物鏡絕緣的絕緣板。

10.根據權利要求1至3中任一項所述的荷電粒子線裝置，其特征在于，于所述試料的上部還包含具有孔部的電位板，且于所述電位板，賦予接地電位、正電位、或負電位。

11.根據權利要求10所述的荷電粒子線裝置，其特征在于，所述第二檢測器配置于所述電位板的所述荷電粒子源側。

12.根據權利要求2或3所述的荷電粒子線裝置，其特征在于，于所述試料的上部還包含具有孔部的電位板，并設置多個所述第一檢測器，且多個所述第一檢測器的其中一個配置于所述電位板中試料側的面。

13.根據權利要求1至3中的任一項所述的荷電粒子線裝置，其特征在于，所述第二檢測器為檢測伴隨著所述荷電粒子線入射而從所述試料射出的X射線。

14.根據權利要求1至3中的任一項所述的荷電粒子線裝置，其特征在于，所述第二檢測器為具有配置于靠近所述試料的光學組件，且檢測伴隨著所述荷電粒子線入射而從所述試料射出并入射至所述光學組件的陰極射線發光。