[發明專利]用于電線圈裝置的線圈支架和用于制造電線圈裝置的方法

有效

• 申請號: 201680067534.3
• 申請日: 2016-11-17
• 公開（公告）號: CN108352237B
• 公開（公告）日: 2020-11-06
• 發明（設計）人: 恩斯特·普蘭德-施特里茨科
• 申請（專利權）人: 埃格斯頓系統電子埃根堡有限公司
• 主分類號: H01F5/02
• 分類號: H01F5/02;H01F27/32;H01F41/12
• 代理公司: 北京律誠同業知識產權代理有限公司 11006
• 代理人: 徐金國;吳啟超

針對用于電線圈裝置(2)的線圈支架(1)，其中，線圈支架(1)具有用于線圈繞組(4)的至少一個周邊區段的繞組容納區域(3)，繞組容納區域(3)由用于與線圈繞組(4)的最靠內的纏繞層(6)接觸的繞組容納區域內表面(5)和至少一個從繞組容納區域內表面(5)凸出的第一端部件(7)來限界，提出的是，在第一端部件(7)的背離繞組容納區域(3)的側上布置有至少局部被包圍的流體容納儲備器(9)，流體容納儲備器(9)以流體穿通開口(10)與繞組容納區域(3)連接，并且流體穿通開口(10)鄰接繞組容納區域內表面(5)布置。

技術領域

本發明涉及一種用于電線圈裝置的線圈支架，所述線圈支架具有用于線圈繞組的至少一個周邊區段的繞組容納區域，所述繞組容納區域由用于與所述線圈繞組的最靠內的纏繞層接觸的繞組容納區域內表面和至少一個從所述繞組容納區域內表面凸出的第一端部件來限界。

背景技術

公知的是，在來自電氣技術領域的線圈中，實際的線圈繞組布置在絕緣材料部件上，絕緣材料部件被稱為線圈支架。這種線圈支架通過如下方式支持纏繞過程，即，該線圈支架例如有助于定位線圈繞組的各個繞組以及更精準地遵循線圈的希望的形狀。此外，在線圈布置于磁芯體或簡單的芯體上的情況下，線圈支架至少局部地使線圈繞組相對于芯體電絕緣，并且在纏繞線圈繞組時使芯體免受機械負載，機械負載可能會導致芯體的磁特性的惡化。

當然，線圈繞組與芯體或線圈支架之間的空腔幾乎不能避免。這些空腔會使熱從線圈繞組傳輸到芯體內惡化，并且在線圈裝置的允許的損耗功率方面是限制因素，因此，還公知的是，給這些間隙填充以能固化的澆注物。這通常是在所謂的滴注過程的范圍內進行，在滴注過程中，以其他方式完成的線圈裝置以如下方式布置，即，使最靠外的纏繞層的一部分可以從上方直接觸及。隨后，液態的澆注物逐滴地施加到該最靠外的纏繞層上。通過毛細管作用和重力實現了澆注物穿過線圈繞組的分布。

為了在這種過程中盡可能多地填裝間隙，一直執行該過程，直到澆注物已經再次在線圈裝置的下端部上滴落，以及選擇相應稀液狀的或低粘度的澆注物。不利的是，滴注的過程是非常耗時的且很臟的。滴注本身已經很耗時了，這是因為只能夠分別施加少量的澆注物，從而在兩個滴液之間必須相應進行等待。因為線圈繞組的間隙應當盡可能完全被澆注物填滿，所以必須選擇如下澆注物，其具有長的固化時間和低的粘度，以便支持盡可能完全滲透過線圈繞組。這導致的是，整個線圈裝置在填充線圈繞組之后必須停放更長的時間段，以便能夠實現澆注物的干燥。此外，必須進行滴注直到澆注物再次從線圈滴落的情況導致的是，發生該過程步驟的區域被滴落的澆注物污染。對于滴注過程以及隨后必要的干燥來說，因此需要單獨的場所。

對此替選地，也可以選擇高粘度的澆注物，由此可以避免滴落的澆注物污染工作環境。然而，這樣的澆注物并不滲透過整個空腔，由此導致線圈的沒有布置有澆注物的區域和在散熱方面的相應的缺點。

澆注物的粘度在此以本身公知的方式依賴于處理溫度。

發明內容

因此，本發明的任務是說明一種開頭所提到的類型的線圈支架，利用該線圈支架可以避免所提到的缺點，并且利用該線圈支架支持在制造技術上簡單地形成能受高的熱負載的線圈裝置。

根據本發明，這通過根據本發明的用于電線圈裝置的線圈支架來實現。

由此可以支持形成能受高的熱負載的線圈裝置。通過流體容納儲備器和流體穿通開口能夠將澆注物或流體直接運送到對于線圈裝置的熱負載性起決定性作用的區域上，即線圈繞組的最靠內的纏繞層與線圈支架或可選的芯體之間。由此可以確保該區域完全被流體滲透過，而為此不需要將很多的流體帶入到線圈裝置中以使該流體流出。由此，相關的處理位置不受污染。由此可以取消單獨的區域或空間。在具體的線圈支架中，還可以在唯一的計量過程中將全部量的必要的流體送出到流體容納儲備器中，而不需要進行再計量，由此能夠顯著減少過程時間。此外，可以使用非常稀液狀的澆注物，而在此不會導致澆注物從線圈流出和相應的污染。