[發(fā)明專利]用于電線圈裝置的線圈支架和用于制造電線圈裝置的方法

有效

• 申請?zhí)枺?/td>: 201680067534.3
• 申請日: 2016-11-17
• 公開（公告）號: CN108352237B
• 公開（公告）日: 2020-11-06
• 發(fā)明（設(shè)計）人: 恩斯特·普蘭德-施特里茨科
• 申請（專利權(quán)）人: 埃格斯頓系統(tǒng)電子埃根堡有限公司
• 主分類號: H01F5/02
• 分類號: H01F5/02;H01F27/32;H01F41/12
• 代理公司: 北京律誠同業(yè)知識產(chǎn)權(quán)代理有限公司 11006
• 代理人: 徐金國;吳啟超

1.用于電線圈裝置(2)的線圈支架(1)，其中，所述線圈支架(1)具有用于線圈繞組(4)的至少一個周邊區(qū)段的繞組容納區(qū)域(3)，所述繞組容納區(qū)域(3)由用于與所述線圈繞組(4)的最靠內(nèi)的纏繞層(6)接觸的繞組容納區(qū)域內(nèi)表面(5)、從所述繞組容納區(qū)域內(nèi)表面(5)凸出的第一端部件(7)、以及從所述繞組容納區(qū)域內(nèi)表面(5)凸出且背離所述第一端部件(7)的第二端部件(8)來限界，其特征在于，在所述第一端部件(7)的背離所述繞組容納區(qū)域(3)的側(cè)上布置有至少局部被包圍的流體容納儲備器(9)，所述流體容納儲備器(9)以流體穿通開口(10)與所述繞組容納區(qū)域(3)連接，并且所述流體穿通開口(10)鄰接所述繞組容納區(qū)域內(nèi)表面(5)布置，

在所述繞組容納區(qū)域內(nèi)表面(5)中布置有流體通道(11)，并且所述流體穿通開口(10)鄰接所述流體通道(11)布置，從而使得所述流體通道(11)加速流體到所述線圈繞組(4)中以及所述線圈繞組(4)與所述電線圈裝置(2)的芯體(13)之間的間隙(14)中的滲入。

2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的線圈支架(1)，其特征在于，所述流體通道(11)居中布置在所述繞組容納區(qū)域內(nèi)表面(5)中。

3.根據(jù)權(quán)利要求1或2所述的線圈支架(1)，其特征在于，所述線圈支架(1)在背離所述繞組容納區(qū)域(3)的側(cè)上具有芯體容納區(qū)域(12)。

4.電線圈裝置(2)，所述電線圈裝置具有至少一個線圈繞組(4)，所述線圈繞組(4)布置在根據(jù)權(quán)利要求1至3中任一項所述的線圈支架(1)上的至少一個周邊區(qū)段上，其中，所述線圈支架(1)的流體穿通開口(10)平行于線圈軸線(15)布置。

5.根據(jù)權(quán)利要求4所述的電線圈裝置(2)，其特征在于，所述線圈繞組(4)圍繞所述芯體(13)的至少一個區(qū)域纏繞，并且所述線圈支架(1)在所述芯體(13)的至少一個周邊區(qū)段上布置在所述芯體(13)與所述線圈繞組(4)之間。

6.根據(jù)權(quán)利要求4或5所述的電線圈裝置(2)，其特征在于，所述線圈繞組(4)在所述流體穿通開口(10)的區(qū)域中不交叉地構(gòu)造。

7.根據(jù)權(quán)利要求5所述的電線圈裝置(2)，其特征在于，在所述線圈繞組(4)的各個線匝之間和/或鄰接所述線圈繞組(4)的各個線匝的間隙(14)中布置有固化的流體，其中，所述流體布置在所述線圈繞組(4)的緊鄰所述芯體(13)布置的最靠內(nèi)的纏繞層(6)上。

8.根據(jù)權(quán)利要求4、5或7所述的電線圈裝置(2)，其特征在于，所述線圈繞組(4)的至少一個纏繞層(6、16)流體密封地構(gòu)造。

9.用于制造電線圈裝置(2)的方法，其中，將至少一個線圈繞組(4)至少局部圍繞根據(jù)權(quán)利要求1至3中任一項所述的線圈支架(1)纏繞，其中，所述線圈繞組(4)的線圈軸線(15)平行于所述線圈支架(1)的流體穿通開口(10)布置，其中，隨后將所述流體穿通開口(10)豎直定位，其中，隨后將第一量的能固化的流體填充到所述流體容納儲備器(9)中，其中，隨后使所述流體固化。

10.根據(jù)權(quán)利要求9所述的方法，其特征在于，在纏繞所述線圈繞組(4)之前，將所述線圈支架(1)布置在芯體(13)上。

11.根據(jù)權(quán)利要求9或10所述的方法，其特征在于，以如下方式來選擇流體的粘度和過程溫度，即，使流體在達到所述線圈繞組(4)的最靠外的纏繞層(16)時膠化。