[發明專利]振動隔離系統和光刻設備

有效

• 申請號: 201680065861.5
• 申請日: 2016-10-26
• 公開（公告）號: CN108351602B
• 公開（公告）日: 2020-08-18
• 發明（設計）人: A·P·J·范蘭卡韋爾特;I·A·克爾普;R·S·A·奧斯特費恩;M·H·H·奧德尼惠斯;R·M·G·賴伊斯;O·J·塞伊格爾;A·M·斯滕霍克
• 申請（專利權）人: ASML荷蘭有限公司
• 主分類號: G03F7/20
• 分類號: G03F7/20;F16F15/02;F16J15/52
• 代理公司: 中科專利商標代理有限責任公司 11021
• 代理人: 王靜

本發明涉及一種振動隔離系統(VIS)，該振動隔離系統包括：基座(10)；用于聯接到振動敏感物體的聯接元件(20)；布置在基座與聯接元件之間的振動隔離器(30?34)；用于布置在聯接元件或振動隔離器與包圍振動敏感物體的保護殼體(40)之間的波紋管(50)；和作用在波紋管的回旋上的一個或更多個分離開的阻尼元件。

相關申請的交叉引用

本申請要求于2015年11月10日遞交的歐洲申請15193855.2的優先權，該歐洲專利申請的全部內容以引用的方式并入本文中。

技術領域

本發明涉及一種振動隔離系統和一種包括這種振動隔離系統的光刻設備。

背景技術

光刻設備是將所需的圖案施加至襯底(通常為襯底的目標部分)上的機器。光刻設備可以用于例如集成電路(IC)的制造。在這種情況下，可替代地被稱作掩模或掩模版的圖案形成裝置可以用于產生要在IC的單層上形成的電路圖案。該圖案可以被轉移到襯底(例如硅晶片)上的目標部分(例如包括管芯的一部分、一個或多個管芯)上。通常通過成像到設置在襯底上的輻射敏感材料(抗蝕劑)層上實現圖案的轉移。通常，單個襯底將包含被連續圖案化的相鄰目標部分的網絡。常規的光刻設備包括所謂的步進器和所謂的掃描器；在步進器中，通過將整個圖案一次曝光到目標部分上來輻射每一個目標部分；在掃描器中，通過輻射束沿給定方向(“掃描”方向)掃描所述圖案、同時沿與該方向平行或反向平行的方向同步地掃描所述襯底來輻射每一個目標部分。另外，能夠通過將圖案壓印到襯底上來將圖案從圖案形成裝置轉移到襯底上。

在轉移圖案的過程中，振動可能使所轉移的圖像劣化。因此，重要的是，振動敏感光刻設備或其的振動敏感部件通過振動隔離系統支撐在基座上，該振動隔離系統將敏感部分與基座的振動隔離開。

然而，如果敏感部件要求除了環境(例如真空條件)以外的特定條件，則可以在可能通過振動隔離系統引入振動的敏感部件周圍設置保護殼體。

發明內容

期望提供一種改善的振動隔離系統，該振動隔離系統將敏感部件與基座的振動以及保護殼體的振動隔離開。

根據本發明的一個實施例，提供了一種振動隔離系統，所述振動隔離系統包括：

基座；

用于聯接到振動敏感物體的聯接元件；

布置在所述基座與所述聯接元件之間的振動隔離器；

用于布置在所述聯接元件或所述振動隔離器與圍繞所述振動敏感物體的保護殼體之間的波紋管；和

作用在所述波紋管的回旋上的一個或更多個分離開的阻尼元件，其中所述一個或更多個分離開的阻尼元件構造成對于預定的頻率范圍使包括所述分離開的阻尼元件的波紋管的組合的動態剛度降低到所述振動隔離器的動態剛度以下。

根據本發明的另一個實施例，提供了一種光刻設備，所述光刻設備包括：

基座框架；

支撐振動敏感設施的量測框架；

圍繞所述量測框架的保護殼體，其中所述保護殼體由所述基座框架承載；

所述振動隔離系統，包括：

被安裝到所述基座框架上或者是所述基座框架的一部分的基座；

聯接到所述量測框架的聯接元件；

布置在所述基座與所述聯接元件之間的振動隔離器；

布置在所述聯接元件或所述振動隔離器與所述保護殼體之間的波紋管；和

作用在所述波紋管的回旋上的一個或更多個分離開的阻尼元件，