[發(fā)明專利]振動隔離系統(tǒng)和光刻設備有效
| 申請?zhí)枺?/td> | 201680065861.5 | 申請日: | 2016-10-26 |
| 公開(公告)號: | CN108351602B | 公開(公告)日: | 2020-08-18 |
| 發(fā)明(設計)人: | A·P·J·范蘭卡韋爾特;I·A·克爾普;R·S·A·奧斯特費恩;M·H·H·奧德尼惠斯;R·M·G·賴伊斯;O·J·塞伊格爾;A·M·斯滕霍克 | 申請(專利權)人: | ASML荷蘭有限公司 |
| 主分類號: | G03F7/20 | 分類號: | G03F7/20;F16F15/02;F16J15/52 |
| 代理公司: | 中科專利商標代理有限責任公司 11021 | 代理人: | 王靜 |
| 地址: | 荷蘭維*** | 國省代碼: | 暫無信息 |
| 權利要求書: | 查看更多 | 說明書: | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 振動 隔離 系統(tǒng) 光刻 設備 | ||
1.一種振動隔離系統(tǒng),包括:
基座;
用于聯(lián)接到振動敏感物體的聯(lián)接元件;
布置在所述基座與所述聯(lián)接元件之間的振動隔離器;
用于布置在所述聯(lián)接元件或所述振動隔離器與圍繞所述振動敏感物體的保護殼體之間的波紋管;和
作用在所述波紋管的回旋上的一個或更多個分離開的阻尼元件,
其中所述一個或更多個分離開的阻尼元件構造成對于預定的頻率范圍使包括所述分離開的阻尼元件的波紋管的組合的動態(tài)剛度降低到所述振動隔離器的動態(tài)剛度以下。
2.根據權利要求1所述的振動隔離系統(tǒng),其中對于相關本征模式所述分離開的阻尼元件僅作用在所述波紋管的經受相對高的變形的回旋上,其中所述相關本征模式被定義為所述預定的頻率范圍內的在不具有分離開的阻尼元件的情況下所述波紋管的動態(tài)剛度高于所述振動隔離器的動態(tài)剛度的本征模式。
3.根據權利要求1所述的振動隔離系統(tǒng),其中所述分離開的阻尼元件是布置在所述回旋中的O形環(huán)。
4.根據權利要求3所述的振動隔離系統(tǒng),其中所述O形環(huán)布置在所述波紋管的外部。
5.根據權利要求1所述的振動隔離系統(tǒng),其中所述振動隔離器包括氣墊式避震器。
6.根據權利要求1所述的振動隔離系統(tǒng),其中所述預定的頻率范圍是0.1至2000Hz。
7.根據權利要求1所述的振動隔離系統(tǒng),其中在不具有分離開的阻尼元件的情況下所述波紋管的靜態(tài)剛度是所述振動隔離器的靜態(tài)剛度的約20%。
8.根據權利要求1所述的振動隔離系統(tǒng),其中在所述預定的頻率范圍內,包括分離開的阻尼元件的所述波紋管的組合的動態(tài)剛度是所述振動隔離器的動態(tài)剛度的二分之一。
9.根據權利要求8所述的振動隔離系統(tǒng),其中包括分離開的阻尼元件的所述波紋管的組合的動態(tài)剛度是所述振動隔離器的動態(tài)剛度的五分之一。
10.根據權利要求9所述的振動隔離系統(tǒng),其中包括分離開的阻尼元件的所述波紋管的組合的動態(tài)剛度是所述振動隔離器的動態(tài)剛度的十分之一。
11.一種光刻設備,包括:
基座框架;
支撐振動敏感設施的量測框架;
圍繞所述量測框架的保護殼體,其中所述保護殼體由所述基座框架承載;
根據權利要求1所述的振動隔離系統(tǒng),
其中所述振動隔離系統(tǒng)的基座被安裝到所述基座框架上或者是所述基座框架的一部分,
其中所述振動隔離系統(tǒng)的聯(lián)接元件聯(lián)接到所述量測框架;并且
其中所述波紋管布置在所述聯(lián)接元件或所述振動隔離器與所述保護殼體之間。
12.根據權利要求11所述的光刻設備,其中所述保護殼體配置成在所述量測框架周圍保持真空。
13.根據權利要求11所述的光刻設備,其中在所述基座框架與所述量測框架之間設置有多個根據權利要求1所述的振動隔離系統(tǒng)。
14.根據權利要求11所述的光刻設備,還包括:
配置成調節(jié)輻射束的照射系統(tǒng);
構造成支撐圖案形成裝置的支撐件,所述圖案形成裝置能夠在輻射束的橫截面中賦予所述輻射束圖案以形成圖案化的輻射束;
構造成保持襯底的襯底臺;和
配置成將所述圖案化的輻射束投影到所述襯底的目標部分上的投影系統(tǒng),
其中所述投影系統(tǒng)布置在所述量測框架上。
15.一種光刻設備,包括:
配置成調節(jié)輻射束的照射系統(tǒng);
基座框架;
承載所述照射系統(tǒng)的支撐框架;
圍繞所述支撐框架的保護殼體,其中所述保護殼體由所述基座框架承載;
根據權利要求1所述的振動隔離系統(tǒng),
其中所述振動隔離系統(tǒng)的基座被安裝到所述基座框架上或者是所述基座框架的一部分,
其中所述振動隔離系統(tǒng)的聯(lián)接元件聯(lián)接到所述支撐框架,并且
其中所述波紋管布置在所述聯(lián)接元件或所述振動隔離器與所述保護殼體之間。
該專利技術資料僅供研究查看技術是否侵權等信息,商用須獲得專利權人授權。該專利全部權利屬于ASML荷蘭有限公司,未經ASML荷蘭有限公司許可,擅自商用是侵權行為。如果您想購買此專利、獲得商業(yè)授權和技術合作,請聯(lián)系【客服】
本文鏈接:http://www.szxzyx.cn/pat/books/201680065861.5/1.html,轉載請聲明來源鉆瓜專利網。





