[發明專利]基板處理裝置

有效

• 申請號: 201680063524.2
• 申請日: 2016-10-26
• 公開（公告）號: CN108351607B
• 公開（公告）日: 2020-07-10
• 發明（設計）人: 小宮山弘樹;加藤正紀;鈴木智也;奈良圭
• 申請（專利權）人: 株式會社尼康
• 主分類號: G03F9/00
• 分類號: G03F9/00;G03F7/20;G03F7/24
• 代理公司: 北京三友知識產權代理有限公司 11127
• 代理人: 王春光

曝光裝置EX，一邊將長條的基板P搬送于長邊方向，一邊于基板P上形成既定圖案，其具備：圓筒卷筒DR，支承基板P；作為第1支承構件的本體框架21及第1光學平臺23軸支圓筒卷筒DR；描繪裝置11，隔著基板P與旋轉卷筒DR對向配置，于基板P上形成圖案；作為第2支承構件的第2光學平臺25保持描繪裝置11；旋轉機構24，將第1光學平臺23與第2光學平臺25能旋轉地連結；標尺部GPa,GPb，用以測量圓筒卷筒DR的位置變化；以及編碼器讀頭EN1,EN2，檢測標尺部GPa,GPb的刻度。

技術領域

本發明是關于基板處理裝置、基板處理裝置的調整方法、元件制造系統及元件制造方法。

背景技術

以往，作為基板處理裝置，已知有一種近接方式的圖案曝光裝置，其具備搬送片狀工件(基板)的曝光滾筒、配置于曝光滾筒上部的光罩、以及將來自曝光光源的光以旋轉多面鏡加以掃描并照射于曝光用光罩的照明部(參照例如專利文獻1)。此圖案曝光裝置，是借由以曝光滾筒一邊搬送片狀工件、一邊從照明部對光罩照射光，而于工件曝光光罩的光罩圖案。專利文獻1所記載的圖案曝光裝置，雖是將工件卷繞于曝光滾筒來搬送，但有可能因曝光滾筒的旋轉所致的振動等影響，使光罩與工件的配置關系變化。此情形下，卷繞于曝光滾筒的工件與光罩的配置關系，由于會從適于曝光的既定配置關系位移，因此光罩的光罩圖案難以精度良好地曝光至工件。

現有技術文件

專利文獻1：日本特開2007－72171號公報

發明內容

依據本發明的第1方面，提供一種基板處理裝置，將長條的片狀基板搬送于長邊方向，且于該片狀基板上依序形成既定圖案，其具備：圓筒卷筒，具有從延伸于與前述長邊方向交叉的方向的中心線起一定半徑的圓筒狀外周面，以該外周面的一部分支承前述片狀基板；第1支承構件，將前述圓筒卷筒軸支成能繞前述中心線旋轉；圖案形成裝置，與前述圓筒卷筒的外周面中支承前述片狀基板的部分對向配置，于前述片狀基板上形成前述圖案；第2支承構件，保持前述圖案形成裝置；連結機構，將前述圓筒卷筒與前述圖案形成裝置的相對配置關系連結成能調整；基準構件，與前述圓筒卷筒一起繞前述中心線旋轉，設有用以測量前述圓筒卷筒的旋轉方向或前述中心線方向的位置變化的指標；以及第1檢測裝置，設于前述第2支承構件，檢測前述基準構件的指標以檢測前述圓筒卷筒的旋轉方向或前述中心線方向的位置變化。

依據本發明的第2方面，提供一種基板處理裝置的調整方法，該基板處理裝置具有以從中心線起一定半徑的圓筒狀外周面支承片狀基板且被第1支承構件支承成繞前述中心線旋轉的圓筒卷筒、以及于第2支承構件支承成在被前述圓筒卷筒支承的前述片狀基板形成既定圖案的圖案形成裝置，該調整方法包含：借由配置于前述第2支承構件側的一對讀取頭讀取設在前述圓筒卷筒的前述中心線方向兩側的旋轉測量用編碼器的一對標尺部的各個的動作；從前述一對讀取頭的檢測結果求出前述圓筒卷筒與前述圖案形成裝置的從既定相對配置關系起的偏差的動作；以及以減少前述求出的偏差的方式，調整將前述第1支承構件與前述第2支承構件連結成能相對位移的連結機構的動作。

依據本發明的第3方面，提供一種基板處理裝置的調整方法，該基板處理裝置具有以從中心線起一定半徑的圓筒狀外周面支承片狀基板且被第1支承構件支承成繞前述中心線旋轉的圓筒卷筒、以及于第2支承構件支承成在被前述圓筒卷筒支承的前述片狀基板形成既定圖案的圖案形成裝置，該調整方法包含：借由配置于前述第2支承構件側的一對讀取頭讀取設在前述圓筒卷筒的前述中心線方向兩側的旋轉測量用編碼器的一對標尺部的各個的動作；從前述一對讀取頭的檢測結果，求出前述圓筒卷筒與前述圖案形成裝置的從既定相對配置關系起的偏差的動作；以及反映前述求出的偏差，相對前述圓筒卷筒調整前述圖案形成裝置于前述片狀基板上形成圖案的區域的空間上位置的動作。

依據本發明的第4方面，提供一種元件制造系統，其具備本發明第1方面的基板處理裝置。