[發明專利]基板處理裝置

有效

• 申請號: 201680063524.2
• 申請日: 2016-10-26
• 公開（公告）號: CN108351607B
• 公開（公告）日: 2020-07-10
• 發明（設計）人: 小宮山弘樹;加藤正紀;鈴木智也;奈良圭
• 申請（專利權）人: 株式會社尼康
• 主分類號: G03F9/00
• 分類號: G03F9/00;G03F7/20;G03F7/24
• 代理公司: 北京三友知識產權代理有限公司 11127
• 代理人: 王春光

1.一種基板處理裝置，將長條的片狀基板搬送于長邊方向，且于該片狀基板上依序形成既定圖案，其具備：

圓筒卷筒，具有從延伸于與前述長邊方向交叉的方向的中心線起一定半徑的圓筒狀外周面，以該外周面的一部分支承前述片狀基板；

第1支承構件，將前述圓筒卷筒軸支成能繞前述中心線旋轉；

圖案形成裝置，與前述圓筒卷筒的外周面中支承前述片狀基板的部分對向配置，于前述片狀基板上形成前述圖案；

第2支承構件，保持前述圖案形成裝置；

基準構件，與前述圓筒卷筒一起繞前述中心線旋轉，設有用以測量前述圓筒卷筒的旋轉方向或前述中心線方向的位置變化的指標；

第1檢測裝置，安裝于前述第2支承構件，檢測前述基準構件的指標以檢測前述圓筒卷筒的旋轉方向或前述中心線方向的位置變化；

第2檢測裝置，安裝于前述第1支承構件，檢測前述基準構件的指標；以及

連結機構，根據前述第1檢測裝置及前述第2檢測裝置的檢測結果，將前述圓筒卷筒與前述圖案形成裝置的相對配置關系連結成能調整。

2.如權利要求1所述的基板處理裝置，其中，前述第1檢測裝置，于前述第2支承構件配置成在從前述中心線的延伸方向觀看時，前述圖案形成裝置對前述片狀基板的圖案形成位置，與將前述第1檢測裝置對前述基準構件的指標的檢測位置與前述中心線連結的方向大致一致。

3.如權利要求2所述的基板處理裝置，其進一步具備標記檢測裝置，安裝于前述第1支承構件，具有用以檢測形成于前述片狀基板上的標記的檢測探針；

前述第2檢測裝置，于前述第1支承構件配置成在從前述中心線的延伸方向觀看時，前述第2檢測裝置對前述基準構件的指標的檢測位置，與將前述檢測探針對前述標記的檢測位置與前述中心線連結的方向大致一致。

4.如權利要求1至3中任一項所述的基板處理裝置，其中，前述連結機構，設于前述第1支承構件與前述第2支承構件之間，以與前述第1支承構件與前述第2支承構件對向的方向交叉的面內的既定點為中心，將前述第2支承構件連結成能相對前述第1支承構件旋轉。

5.如權利要求1至3中任一項所述的基板處理裝置，其中，前述連結機構，以作為前述圓筒卷筒的旋轉軸的前述中心線與前述圖案形成裝置相對傾斜的方式，將前述圓筒卷筒的前述旋轉軸連結成能傾斜。

6.如權利要求1至3中任一項所述的基板處理裝置，其中，前述第1支承構件具有配置于設置面上的本體框架、設于前述本體框架上的第1平臺、以及設于前述本體框架與前述第1平臺之間的支承機構；

前述第2支承構件具有配置于前述第1平臺上的第2平臺。

7.如權利要求1至3中任一項所述的基板處理裝置，其中，前述連結機構包含使前述第1支承構件與前述第2支承構件相對位移的驅動部；

前述基準構件的指標是于前述圓筒卷筒的前述中心線方向兩側分別設置的旋轉測量用編碼器的一對標尺部；

前述第1檢測裝置及前述第2檢測裝置是與前述一對標尺部的各個對向配置的一對讀取頭。

8.如權利要求7所述的基板處理裝置，其進一步具備：控制裝置，控制前述驅動部；

前述控制裝置，根據前述一對讀取頭的各檢測結果，求出前述圓筒卷筒與前述第2支承構件的從既定相對配置關系起的偏移信息，并根據該偏移信息控制前述驅動部以維持既定相對配置關系。

9.如權利要求1至3中任一項所述的基板處理裝置，其中，

前述圖案形成裝置為下述裝置中的任一個：

圖案描繪裝置，將根據待描繪于前述片狀基板上的圖案的CAD信息進行ON/OFF調變的描繪光束的點光，在前述中心線的方向進行一維掃描而描繪前述圖案；

光罩型曝光裝置，使用透射型或反射型的平坦或圓筒狀的光罩在前述片狀基板上曝光前述圖案；

無光罩方式的曝光裝置，將與待借由多個微鏡描繪于前述片狀基板上的圖案對應的光分布投影曝光于前述片狀基板；

噴墨方式的描繪裝置，借由吐出墨水的液滴的噴射讀頭于前述片狀基板上形成由前述墨水構成的圖案。