[發明專利]具有傳感器的設備以及執行目標測量的方法

有效

• 申請號: 201680059924.6
• 申請日: 2016-09-30
• 公開（公告）號: CN108139695B
• 公開（公告）日: 2020-06-26
• 發明（設計）人: 葉紅;G·J·尼杰梅杰
• 申請（專利權）人: ASML控股股份有限公司
• 主分類號: G03F9/00
• 分類號: G03F9/00;G03F7/20
• 代理公司: 北京市金杜律師事務所 11256
• 代理人: 王茂華;呂世磊

公開了用于測量目標(例如，對準標記(例如，在襯底上))的方法和設備。在“飛入”方向執行目標與測量系統的測量斑點之間的相對運動(例如，目標朝向測量斑點的運動)，使得可以進行針對目標的第一測量。之后，在相反的“飛入”方向進行目標與測量斑點之間的相對運動，使得可以進行針對目標的第二測量。通過對這兩個測量進行組合(例如，平均)，消除誤差，并且可以實現更高的測量精度。

相關申請的交叉引用

本申請要求于2015年10月12日提交的美國臨時專利申請No.62/240,396的優先權，并且其全部內容通過引用并入本文。

技術領域

本描述涉及具有傳感器的設備以及執行目標測量的方法。

背景技術

光刻設備是將期望的圖案施加到襯底上(通常是施加到襯底的目標部分上)的機器。光刻設備可以用于例如集成電路(IC)的制造。在這種情況下，可以使用備選地被稱為掩模或掩模版的圖案形成裝置來生成待形成在IC的各個層上的電路圖案。該圖案可以被轉印到襯底(例如，硅晶片)上的目標部分(例如，包括部分、一個或多個裸片)上。通常是經由成像到設置在襯底上的輻射敏感材料(抗蝕劑)層上來實現圖案的轉印。通常，單個襯底將包括相繼被圖案化的相鄰目標部分的網格。已知的光刻設備包括：所謂的步進器，在所謂的步進器中，通過將整個圖案一次曝光到目標部分上來照射每個目標部分；以及所謂的掃描器，在所謂的掃描器中，通過在給定方向(“掃描”方向)上穿過輻射束掃描圖案、同時在平行或反平行于該方向的方向上同步掃描襯底來照射每個目標部分。也可以通過將圖案壓印到襯底上，來將圖案從圖案形成裝置轉印到襯底上。

為了控制圖案化過程(即，通過其在襯底上創建圖案的過程，并且該過程涉及圖案化步驟(例如，光學光刻、壓印光刻等)并且可選地涉及其他相關處理(例如，抗蝕劑施加、抗蝕劑顯影、襯底烘烤、蝕刻等))以在襯底上精確地提供器件特征，通常在例如襯底上提供一個或多個量測目標(例如，套刻目標、對準標記等)。例如在光刻設備中提供一個或多個傳感器來測量一個或多個目標，以測量或導出圖案化過程的參數(例如，套刻、對準等)。

發明內容

因此，例如提供對目標的更精確的測量將是有利的，例如當產品特征變得越來越小時用于控制對準和/或套刻誤差。

根據一個方面，提供了一種測量目標的方法，方法包括：在第一方向上執行目標與測量設備的測量斑點之間的第一相對運動；在第一相對運動之后，至少部分地在測量斑點位于目標上時或者為了使測量斑點變得位于目標上，在第二方向上執行測量斑點與目標之間的第二相對運動；在第二相對運動期間或之后，使用目標上的測量斑點，針對目標執行第一測量；在第一測量之后，在與第一方向實質上相反的方向上執行目標與測量斑點之間的第三相對運動；在第三相對運動之后，至少部分地在測量斑點位于目標上時或者為了使測量斑點變得位于目標上，在第二方向上執行測量斑點與目標之間的第四相對運動；以及在第四相對運動期間或之后，使用目標上的測量斑點，針對目標執行第二測量。

根據一個方面，提供了一種測量目標的方法，方法包括：在第一方向上，執行目標與測量設備的測量斑點之間的去往終止點的第一相對運動；在第一相對運動之后，至少部分地在測量斑點位于目標上時或者為了使測量斑點變得位于目標上，在第二方向上執行測量斑點與目標之間的第二相對運動；在第二相對運動期間或之后，使用目標上的測量斑點，針對目標執行第一測量；在第一測量之后，在與第一方向實質上相反的方向上執行目標與測量斑點之間的去往終止點的第三相對運動；在第三相對運動之后，至少部分地在測量斑點位于目標上時或者為了使測量斑點變得位于目標上，在第三方向上執行測量斑點與目標之間的第四相對運動；以及在第四相對運動期間或之后，使用目標上的測量斑點，針對目標執行第二測量。