[發明專利]具有傳感器的設備以及執行目標測量的方法有效
| 申請號: | 201680059924.6 | 申請日: | 2016-09-30 |
| 公開(公告)號: | CN108139695B | 公開(公告)日: | 2020-06-26 |
| 發明(設計)人: | 葉紅;G·J·尼杰梅杰 | 申請(專利權)人: | ASML控股股份有限公司 |
| 主分類號: | G03F9/00 | 分類號: | G03F9/00;G03F7/20 |
| 代理公司: | 北京市金杜律師事務所 11256 | 代理人: | 王茂華;呂世磊 |
| 地址: | 荷蘭維*** | 國省代碼: | 暫無信息 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 具有 傳感器 設備 以及 執行 目標 測量 方法 | ||
1.一種測量目標的方法,所述方法包括:
在第一方向上執行所述目標與測量設備的測量斑點之間的第一相對運動;
在所述第一相對運動之后,至少部分地在所述測量斑點位于所述目標上時或者為了使所述測量斑點變得位于所述目標上,在第二方向上執行所述測量斑點與所述目標之間的第二相對運動;
在所述第二相對運動期間或之后,使用所述目標上的所述測量斑點,針對所述目標執行第一測量;
在所述第一測量之后,在與所述第一方向實質上相反的方向上執行所述目標與所述測量斑點之間的第三相對運動;
在所述第三相對運動之后,至少部分地在所述測量斑點位于所述目標上時或者為了使所述測量斑點變得位于所述目標上,在所述第二方向上執行所述測量斑點與所述目標之間的第四相對運動;以及
在所述第四相對運動期間或之后,使用所述目標上的所述測量斑點,針對所述目標執行第二測量,所述第二測量與所述第一測量至少測量所述目標的多個相同結構。
2.一種測量目標的方法,所述方法包括:
在第一方向上,執行所述目標與測量設備的測量斑點之間的去往終止點的第一相對運動;
在所述第一相對運動之后,至少部分地在所述測量斑點位于所述目標上時或者為了使所述測量斑點變得位于所述目標上,在第二方向上執行所述測量斑點與所述目標之間的第二相對運動;
在所述第二相對運動期間或之后,使用所述目標上的所述測量斑點,針對所述目標執行第一測量;
在所述第一測量之后,在與所述第一方向實質上相反的方向上執行所述目標與所述測量斑點之間的去往所述終止點的第三相對運動;
在所述第三相對運動之后,至少部分地在所述測量斑點位于所述目標上時或者為了使所述測量斑點變得位于所述目標上,在第三方向上執行所述測量斑點與所述目標之間的第四相對運動;以及
在所述第四相對運動期間或之后,使用所述目標上的所述測量斑點,針對所述目標執行第二測量。
3.一種測量目標的方法,所述方法包括:
以相對于第一方向或第二方向的非零角度執行所述目標與測量設備的測量斑點之間的第一相對運動;
在所述第一相對運動之后,至少部分地在所述測量斑點位于所述目標上時或者為了使所述測量斑點變得位于所述目標上,在所述第一方向上執行所述測量斑點與所述目標之間的第二相對運動;
在所述第二相對運動期間或之后,使用所述目標上的所述測量斑點,針對所述目標執行第一測量;
在所述第一測量之后,以與所述非零角度實質上相反的角度執行所述目標與所述測量斑點之間的第三相對運動;
在所述第三相對運動之后,至少部分地在所述測量斑點位于所述目標上時或者為了使所述測量斑點變得位于所述目標上,在所述第二方向上執行所述測量斑點與所述目標之間的第四相對運動;以及
在所述第四相對運動期間或之后,使用所述目標上的所述測量斑點,針對所述目標執行第二測量,所述第二測量與所述第一測量至少測量所述目標的多個相同結構。
4.根據權利要求1至3中任一項所述的方法,還包括對所述第一測量和所述第二測量進行平均,并且其中所述目標或圖案化過程的參數通過所述平均來確定。
5.根據權利要求1至3中任一項所述的方法,其中執行所述第一測量和/或所述第二測量包括:使用所述測量斑點來掃描所述目標。
6.根據權利要求1至3中任一項所述的方法,其中所述第一相對運動的距離與所述第三相對運動的距離相同。
7.根據權利要求1至3中任一項所述的方法,其中所述第一相對運動的距離不同于所述第三相對運動的距離。
8.根據權利要求2所述的方法,其中所述第二方向和所述第三方向是相同的方向。
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