[發(fā)明專利]配線基板的制造方法以及配線基板在審
| 申請?zhí)枺?/td> | 201680056976.8 | 申請日: | 2016-12-22 |
| 公開(公告)號: | CN108141954A | 公開(公告)日: | 2018-06-08 |
| 發(fā)明(設(shè)計)人: | 青島信介;小清水和敏 | 申請(專利權(quán))人: | 株式會社藤倉 |
| 主分類號: | H05K1/02 | 分類號: | H05K1/02;G06F3/041;G06F3/044;H05K3/12 |
| 代理公司: | 北京集佳知識產(chǎn)權(quán)代理有限公司 11227 | 代理人: | 李洋;青煒 |
| 地址: | 日本*** | 國省代碼: | 日本;JP |
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| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 引出線 配線基板 導(dǎo)體部 屏蔽 形成工序 主體部 分界線 制造 | ||
一種具有至少包括引出線(5)和寬度寬于引出線(5)的屏蔽部(7)的導(dǎo)體部(3)的配線基板(1)的制造方法,具備:形成引出線(5)、和與屏蔽部(7)的輪廓(71)中的至少靠近引出線(5)的部分對應(yīng)的分界線(9)的第一導(dǎo)體部形成工序(ST10);以及形成屏蔽部(7)的主體部(8)的第二導(dǎo)體部形成工序(ST20)。
技術(shù)領(lǐng)域
本發(fā)明涉及配線基板的制造方法以及配線基板。
針對承認(rèn)基于參照文獻(xiàn)的引用的指定國,將于2015年12月24日在日本申請的特愿2015-251049號所記載的內(nèi)容作為參照引入本說明書并作為本說明書的一部分。
背景技術(shù)
公知有形成具有不同寬度的印刷圖案的技術(shù)(例如,參照專利文獻(xiàn)1的圖1)。
專利文獻(xiàn)1:日本特開2014-218009號公報
在上述技術(shù)中,在寬度寬的印刷圖案的周邊,油墨容易滲出,可能導(dǎo)致出現(xiàn)與相鄰的印刷圖案混線這樣的問題。
發(fā)明內(nèi)容
本發(fā)明欲解決的課題在于提供能夠抑制彼此相鄰的粗線與細(xì)線發(fā)生混線的配線基板的制造方法以及配線基板。
[1]本發(fā)明的配線基板的制造方法中,配線基板具有至少包括細(xì)線和寬度寬于上述細(xì)線的粗線的導(dǎo)體部,該配線基板的制造方法具備:第一工序,在該工序中,形成上述細(xì)線和與上述粗線的輪廓中的至少靠近上述細(xì)線的部分對應(yīng)的分界線;第二工序,在該工序中,形成上述粗線的余下部分。
[2]在上述發(fā)明中,可以為,包括以滿足下述(1)式的方式形成上述細(xì)線、上述分界線以及上述余下部分的步驟。
H2<H3...(1)
在上述(1)式中,H2是上述分界線的高度,H3是上述余下部分的高度。
[3]在上述發(fā)明中,可以為,上述第二工序包括在俯視視角中使上述粗線的余下部分的一部分與上述分界線重疊的步驟。
[4]在上述發(fā)明中,可以為,上述分界線與上述輪廓的全部對應(yīng)。
[5]在上述發(fā)明中,可以為,上述第一工序包括以滿足下述(2)式的方式形成上述細(xì)線以及上述分界線的步驟。
W1<W2...(2)
其中,在上述(2)式中,W1是上述細(xì)線的寬度,W2是上述分界線的寬度。
[6]在上述發(fā)明中,可以為,上述分界線由彼此并列延伸的多個線狀圖案構(gòu)成。
[7]在上述發(fā)明中,上述粗線具有被上述輪廓包圍,且以網(wǎng)眼狀形成的網(wǎng)眼部,上述配線基板的制造方法包括在上述第二工序前形成上述網(wǎng)眼部的步驟。
[8]本發(fā)明的配線基板具有至少包括細(xì)線和寬度寬于上述細(xì)線的粗線的導(dǎo)體部,上述粗線具有:主體部,其由與構(gòu)成上述細(xì)線的材料不同的組成的材料構(gòu)成;以及分界線,其由與構(gòu)成上述細(xì)線的材料相同的組成的材料構(gòu)成,上述分界線與上述粗線的輪廓中的至少靠近上述細(xì)線的部分對應(yīng)地形成。
[9]在上述發(fā)明中,可以為,構(gòu)成上述主體部的材料的電阻相比構(gòu)成上述細(xì)線的材料的電阻相對偏高。
[10]在上述發(fā)明中,可以為,滿足下述(3)式。
H2<H3...(3)
在上述(3)式中,H2是上述分界線的高度,H3是上述主體部的高度。
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