[發(fā)明專(zhuān)利]電流金屬沉積的方法

有效

• 申請(qǐng)?zhí)枺?/td>: 201680056415.8
• 申請(qǐng)日: 2016-12-01
• 公開(kāi)（公告）號(hào): CN108138347B
• 公開(kāi)（公告）日: 2020-07-10
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: R·維恩豪;U·克貝基
• 申請(qǐng)（專(zhuān)利權(quán)）人: 德國(guó)艾托特克公司
• 主分類(lèi)號(hào): C25D5/08
• 分類(lèi)號(hào): C25D5/08;C25D17/00;C25D17/06
• 代理公司: 北京律盟知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理有限責(zé)任公司 11287
• 代理人: 林斯凱

本發(fā)明涉及一種使用陽(yáng)極及電解質(zhì)用于襯底的電流金屬沉積的方法，其中將局部受限電解質(zhì)流從多個(gè)電解質(zhì)噴嘴中的每一者引向待處理的襯底表面的一部分，其中在沉積期間，在所述襯底與所述電解質(zhì)流之間進(jìn)行相對(duì)移動(dòng)，其特征在于沿第一路徑進(jìn)行第一移動(dòng)，其中至少沿所述第一路徑的一部分，沿第二路徑進(jìn)行第二移動(dòng)，其中所述第一移動(dòng)及所述第二移動(dòng)各自為所述電解質(zhì)流與所述襯底之間的相對(duì)移動(dòng)。此外，本發(fā)明涉及一種襯底固持器接收設(shè)備及電化學(xué)處理設(shè)備。

技術(shù)領(lǐng)域

本發(fā)明涉及一種用于襯底的電化學(xué)處理的方法，即襯底上的電流金屬沉積。此外，本發(fā)明涉及一種襯底固持器接收設(shè)備及電化學(xué)處理設(shè)備。

背景技術(shù)

在許多電化學(xué)過(guò)程中，尤其在電流金屬沉積中，襯底通過(guò)使用電解質(zhì)流將金屬離子引至所述襯底而處理。通常，電荷由電解質(zhì)中的離子運(yùn)載，且使襯底電連接以向所述過(guò)程供應(yīng)電子。電解質(zhì)流的化學(xué)、液壓及幾何特性確定引至襯底，且確切地說(shuō)引至襯底的某些區(qū)域的離子量。在典型過(guò)程中，處理強(qiáng)度取決于到達(dá)襯底上某一位置的離子的量。

在許多電化學(xué)過(guò)程中，需要均勻處理。為了實(shí)現(xiàn)此處理，需要將相同量的離子引至襯底的各點(diǎn)。通常，使用至少一個(gè)使電解質(zhì)穿過(guò)的噴嘴將電解質(zhì)引導(dǎo)至襯底。這導(dǎo)致噴嘴及因此電解質(zhì)流所引至的襯底點(diǎn)處的較高處理強(qiáng)度。在電流金屬沉積過(guò)程的情況下，這導(dǎo)致所述點(diǎn)處的致使涂層不均勻的較大涂層厚度。此外，電解質(zhì)流不均勻。因此，還根據(jù)此事實(shí)產(chǎn)生不均勻性。

在現(xiàn)有技術(shù)水平中，考慮到由將此流引向襯底的至少一個(gè)噴嘴引起的濃度效應(yīng)，通常選擇陽(yáng)極與襯底之間的最大可能距離，以使跨越所述距離的電解質(zhì)流均勻化。這提供可用產(chǎn)物，然而所述產(chǎn)物為可改進(jìn)的。為此目的，在現(xiàn)有技術(shù)水平中，已知其中襯底相對(duì)于噴嘴移動(dòng)的過(guò)程，進(jìn)行所述過(guò)程以使襯底的處理均勻化。這些移動(dòng)呈整個(gè)襯底圍繞襯底的固定點(diǎn)作圓形移動(dòng)而進(jìn)行。

此已知過(guò)程的不足之處在于，仍非常不均勻的涂層厚度產(chǎn)生圍繞其進(jìn)行圓形移動(dòng)的固定點(diǎn)的區(qū)域。

本發(fā)明的目標(biāo)

鑒于現(xiàn)有技術(shù)，因此本發(fā)明的目標(biāo)為提供一種產(chǎn)生更均勻產(chǎn)物的改進(jìn)的電化學(xué)過(guò)程。

發(fā)明內(nèi)容

本發(fā)明的主題為一種如技術(shù)方案1中所陳述的用于襯底的電化學(xué)處理的方法。

根據(jù)本發(fā)明，沿第一路徑進(jìn)行第一移動(dòng)。此移動(dòng)沿襯底表面進(jìn)行。除第一移動(dòng)外，沿第一路徑進(jìn)行沿第二路徑的第二移動(dòng)。因此，進(jìn)行襯底與電解質(zhì)流的整體相對(duì)移動(dòng)，其通過(guò)由沿襯底表面的第一與第二路徑的總和產(chǎn)生的所得路徑而確定。總之，第二移動(dòng)與第一移動(dòng)相加以形成所得移動(dòng)，所述移動(dòng)在電解質(zhì)流及襯底表面之間為相對(duì)的。第一移動(dòng)及第二移動(dòng)可通過(guò)獨(dú)立移動(dòng)單元進(jìn)行，但優(yōu)選使用可電控的單一移動(dòng)單元以在控制中使第一與第二路徑相加。第一與第二移動(dòng)的總和在幾何學(xué)上進(jìn)行，但其不一定必須在時(shí)間上同時(shí)進(jìn)行，然而這還為可能的。第一與第二移動(dòng)為襯底與電解質(zhì)流之間的相對(duì)移動(dòng)。

電解質(zhì)流與襯底之間這種類(lèi)型的相對(duì)移動(dòng)的優(yōu)點(diǎn)在于，沉積可以較分布的方式進(jìn)行，所述方式隨后產(chǎn)生涂層厚度的優(yōu)選均勻性。若第一移動(dòng)及第二移動(dòng)的路徑的進(jìn)行使所得路徑自身重疊，則這為可能的，但若所得路徑自身不重疊，則這也為可能的，是因?yàn)榫植渴芟揠娊赓|(zhì)流的處理區(qū)域?qū)捰谝r底固持器與電解質(zhì)流之間的相對(duì)移動(dòng)沿其進(jìn)行的理論所得路徑。因此，處理區(qū)域可在無(wú)重疊所得路徑的情況下重疊。

附圖說(shuō)明

為了較全面地理解本發(fā)明，參考結(jié)合附圖考慮的本發(fā)明的以下詳細(xì)描述，其中：

圖1展示第一移動(dòng)的第一路徑與第二移動(dòng)的第二路徑相加的所得路徑的示意性圖示。

圖2展示呈具有兩行及兩列的陣列形式的停止點(diǎn)圖案的示意性圖示。

圖3展示呈具有三行及三列的陣列形式的停止點(diǎn)圖案的示意性圖示。