[發明專利]電流金屬沉積的方法

有效

• 申請號: 201680056415.8
• 申請日: 2016-12-01
• 公開（公告）號: CN108138347B
• 公開（公告）日: 2020-07-10
• 發明（設計）人: R·維恩豪;U·克貝基
• 申請（專利權）人: 德國艾托特克公司
• 主分類號: C25D5/08
• 分類號: C25D5/08;C25D17/00;C25D17/06
• 代理公司: 北京律盟知識產權代理有限責任公司 11287
• 代理人: 林斯凱

1.一種使用陽極(421)及電解質(511)用于襯底(111)的電流金屬沉積的方法，其中將局部受限電解質流從多個電解質噴嘴中的每一者引向待處理的襯底表面的一部分，其中在沉積期間，在所述襯底(111)與所述電解質流之間進行相對移動，其特征在于：

沿第一路徑(1)進行第一移動，

其中至少沿所述第一路徑(1)的一部分，沿第二路徑(2)進行第二移動，及

其中所述第一移動及所述第二移動各自為所述電解質流與所述襯底之間的相對移動；

其中所述第一移動為非連續的，其中所述第二移動在所述第一移動停止時進行；

其中所述第一路徑(1)包括停止點(SP、SP1至SP9)，所述第一移動在所述停止點處停止，且隨后在所述停止點(SP、SP1至SP9)處進行所述第二移動，

以及，其中所述停止點(SP、SP1至SP9)經布置成行與列，使得幾何圖案(10)為具有行與列的陣列。

2.根據權利要求1所述的方法，其中沿所述第一路徑(1)進行多于一次第二移動。

3.根據權利要求2所述的方法，其中第一次執行所述第二移動的所述第二路徑(2)與第二次執行所述第二移動的所述第二路徑(2)重疊。

4.根據權利要求1所述的方法，其中所述停止點(SP、SP1至SP9)經布置成幾何圖案(10)。

5.根據權利要求1所述的方法，其中，其中行的數目大于2，其中列的數目大于2，其中所述圖案(10)為方形柵格。

6.根據權利要求1、4和5中任一權利要求所述的方法，其中所述第一移動在停止點(SP1)處開始，所述停止點并非位于所述圖案(10)的邊界處。

7.根據權利要求1到5中任一權利要求所述的方法，其中所述第二移動的所述第二路徑(2)為閉合曲線，其中所述閉合曲線的最大尺寸在2與80mm之間。

8.根據權利要求1到5中任一權利要求所述的方法，其中在已進行所有第一移動及第二移動后，所述電解質流與所述襯底(111)的相對終止位置與所述第一移動及所述第二移動的相對開始位置相同，或所述相對終止位置為所述相對開始位置的相鄰位置。

9.根據權利要求1到5中任一權利要求所述的方法，其中所述第一移動及所述第二移動通過在預定時間段的起點開始而進行，其中最后的移動在所述預定時間終止時終止，其中重復所述第一移動及所述第二移動的執行，且當時間段到期時，在所有沿所述第一路徑(1)的第一移動及第二移動的執行終止時終止。

10.根據權利要求1到5中任一權利要求所述的方法，其中所述第一路徑的形狀不同于所述第二路徑的形狀。

11.根據權利要求1到5中任一權利要求所述的方法，其中使用襯底固持器接收設備(100)進行所述方法，所述設備用于在所述襯底固持器(11)的預定位置中沿襯底固持器夾持方向SHCD夾持襯底固持器(11)且釋放所述襯底固持器(11)，其包括至少一個用于所述襯底固持器(11)的機械對準及電接觸的襯底固持器連接裝置(21)，其中所述襯底固持器連接裝置(21)包括用于使所述襯底固持器(11)與所述襯底固持器連接裝置(21)沿對準方向對準的獨立襯底固持器對準裝置(211)，及用于電接觸所述襯底固持器(11)的獨立襯底固持器接觸裝置(212)。

12.根據權利要求3所述的方法，其中所有第二路徑(2)均與至少一個其它第二路徑(2)重疊。

13.根據權利要求5所述的方法，其中行的數目為3、4、5或6，其中列的數目為3、4、5或6。

14.根據權利要求5所述的方法，其中列與行的數目為相同的，使得停止點的數目為4、9、16、25或36。