[發(fā)明專利]對(duì)象物的處理方法、暫時(shí)固定用組合物、半導(dǎo)體裝置及其制造方法

有效

• 申請(qǐng)?zhí)枺?/td>: 201680055127.0
• 申請(qǐng)日: 2016-07-26
• 公開（公告）號(hào): CN108369892B
• 公開（公告）日: 2022-07-05
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: 森隆;水野光
• 申請(qǐng)（專利權(quán)）人: JSR株式會(huì)社
• 主分類號(hào): H01L21/02
• 分類號(hào): H01L21/02;C09J161/18
• 代理公司: 北京同立鈞成知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理有限公司 11205
• 代理人: 彭雪瑞;臧建明

1.一種對(duì)象物的處理方法，其特征在于，包括：

(1)形成層疊體的步驟，所述層疊體具有支撐體、暫時(shí)固定材以及對(duì)象物，此處，所述暫時(shí)固定材包含層(I)，且所述對(duì)象物保持于所述暫時(shí)固定材上，所述層(I)含有具有下述式(A2)所示的結(jié)構(gòu)單元的聚合物(A)；

(2)對(duì)所述對(duì)象物進(jìn)行加工、和/或使所述層疊體移動(dòng)的步驟；

(3)自所述支撐體側(cè)對(duì)所述層(I)照射光的步驟；以及

(4)將所述支撐體與所述對(duì)象物分離的步驟，

式(A2)中，

Ar為縮合多環(huán)芳香族環(huán)；

-OR¹為鍵結(jié)于所述縮合多環(huán)芳香族環(huán)上的基，R¹為氫原子或碳數(shù)1～20的烴基，-OR¹在存在多個(gè)的情況下，可彼此相同也可不同；

R²為鍵結(jié)于所述縮合多環(huán)芳香族環(huán)上的基，為鹵素原子或碳數(shù)1～20的烴基，R²在存在多個(gè)的情況下，可彼此相同也可不同；

R³為氫原子或有機(jī)基，R³可彼此相同也可不同；

a1為2以上的整數(shù)，b為0以上的整數(shù)。

2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的對(duì)象物的處理方法，其中所述暫時(shí)固定材進(jìn)而包含接著劑層(II)。

3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的對(duì)象物的處理方法，其中所述層疊體依照所述支撐體、所述層(I)、所述接著劑層(II)及所述對(duì)象物的順序而具有所述各要素。

4.根據(jù)權(quán)利要求1至3中任一項(xiàng)所述的對(duì)象物的處理方法，其中在所述步驟(1)中，在所述暫時(shí)固定材上形成至少具有配線層的所述對(duì)象物。

5.根據(jù)權(quán)利要求4所述的對(duì)象物的處理方法，其中所述步驟(2)中的加工包含將選自半導(dǎo)體晶片及半導(dǎo)體芯片中的至少一種配置于所述配線層上。

6.根據(jù)權(quán)利要求1至3中任一項(xiàng)所述的對(duì)象物的處理方法，其中所述步驟(3)中的光為紫外線。

7.根據(jù)權(quán)利要求6所述的對(duì)象物的處理方法，其中所述紫外線為波長300nm～400nm的紫外線。

8.根據(jù)權(quán)利要求1至3中任一項(xiàng)所述的對(duì)象物的處理方法，其中所述層(I)的厚度為0.1μm～500μm。

9.根據(jù)權(quán)利要求1至3中任一項(xiàng)所述的對(duì)象物的處理方法，其中所述式(A2)中的所述縮合多環(huán)芳香族環(huán)為萘環(huán)。

10.根據(jù)權(quán)利要求1至3中任一項(xiàng)所述的對(duì)象物的處理方法，其中所述式(A2)中的R¹為氫原子或炔基。

11.一種暫時(shí)固定用組合物，其特征在于，含有具有下述式(A2)所示的結(jié)構(gòu)單元的聚合物(A)，

式(A2)中，

Ar為縮合多環(huán)芳香族環(huán)；

-OR¹為鍵結(jié)于所述縮合多環(huán)芳香族環(huán)上的基，R¹為氫原子或碳數(shù)1～20的烴基，-OR¹在存在多個(gè)的情況下，可彼此相同也可不同；

R²為鍵結(jié)于所述縮合多環(huán)芳香族環(huán)上的基，為鹵素原子或碳數(shù)1～20的烴基，R²在存在多個(gè)的情況下，可彼此相同也可不同；

R³為氫原子或有機(jī)基，R³可彼此相同也可不同；

a1為2以上的整數(shù)，b為0以上的整數(shù)。

12.根據(jù)權(quán)利要求11所述的暫時(shí)固定用組合物，其進(jìn)而含有溶劑。

13.根據(jù)權(quán)利要求11或12所述的暫時(shí)固定用組合物，其中所述暫時(shí)固定用組合物的固體成分100質(zhì)量％中所含的所述聚合物(A)的含有比例為50質(zhì)量％以上。