[發明專利]利用基于目標的空中圖像的變換的焦點計量和目標有效
| 申請號: | 201680045370.4 | 申請日: | 2016-08-04 |
| 公開(公告)號: | CN107924849B | 公開(公告)日: | 2022-10-11 |
| 發明(設計)人: | N·古特曼;Y·弗萊;V·萊溫斯基;O·卡米斯開 | 申請(專利權)人: | 科磊股份有限公司 |
| 主分類號: | H01L21/66 | 分類號: | H01L21/66;H01L21/027 |
| 代理公司: | 北京律盟知識產權代理有限責任公司 11287 | 代理人: | 張世俊 |
| 地址: | 美國加利*** | 國省代碼: | 暫無信息 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 利用 基于 目標 空中 圖像 變換 焦點 計量 | ||
1.一種焦點計量方法,其包括:
將兩個以上焦點目標定位在每一晶片場中,
進行所述目標的焦點測量,
使用所述目標之間的變換將所述焦點測量變換為針對每一場的單組結果,所述變換基于所述目標的空中圖像且在第一單元k的(fk,dk)與第二單元j的(fj,dj)之間,其中f代表焦點且d代表劑量,及
自所述單組結果導出焦點結果。
2.根據權利要求1所述的方法,其進一步包括使用指定目標的空中圖像參數自所述指定目標設計所述焦點目標。
3.根據權利要求2所述的方法,其進一步包括自初步測量憑經驗確定所述指定目標。
4.根據權利要求2所述的方法,其中所述設計包括選擇描述所述焦點目標的指定參數的參數值。
5.根據權利要求1到4中任一權利要求所述的方法,其至少部分由至少一個計算機處理器實行。
6.根據權利要求1所述的方法,其中所述變換被描繪為從j到k,(fj,dj)=Gk→j(fk,dk),其中所述變換通過等式dj=(Ak/Aj)dk和來表示,且其中A、B、α和表示掩模的性質。
7.根據權利要求1所述的方法,其中所述焦點結果包括強度I(f,d)的最佳焦點。
8.根據權利要求7所述的方法,其中強度的最佳焦點通過等式來表示,其中d0表示標稱劑量,且其中A、B、α和表示掩模的性質。
9.根據權利要求1所述的方法,其進一步包括排除不存在所述變換的點。
10.一種非暫時性計算機可讀存儲媒體,其存儲由根據權利要求2到4中任一權利要求的方法設計的焦點目標的目標設計文件。
11.一種非暫時性計算機可讀存儲媒體,其存儲計算機可讀程序,所述計算機可讀程序經配置以執行由根據權利要求2到4中任一權利要求的方法設計的焦點目標的計量測量。
12.一種計量焦點模塊,其包括處理模塊,所述處理模塊經配置以將定位在晶片場中的多個目標的焦點測量使用所述目標之間的變換變換為針對所述場的單組結果,所述變換基于所述目標的空中圖像且在第一單元k的(fk,dk)與第二單元j的(fj,dj)之間,其中f代表焦點且d代表劑量,其中所述計量焦點模塊經配置以自所述單組結果導出焦點結果。
13.根據權利要求12所述的計量焦點模塊,其中所述處理模塊進一步經配置以根據指定目標使用所述指定目標的空中圖像參數建議焦點目標設計,其中自由所述計量焦點模塊實行的初步測量憑經驗確定所述指定目標。
14.根據權利要求12所述的計量焦點模塊,其中所述變換被描繪為從j到k,(fj,dj)=Gk→j(fk,dk),其中所述變換通過等式dj=(Ak/Aj)dk和來表示,且其中A、B、α和表示掩模的性質。
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H01L 半導體器件;其他類目中不包括的電固體器件
H01L21-00 專門適用于制造或處理半導體或固體器件或其部件的方法或設備
H01L21-02 .半導體器件或其部件的制造或處理
H01L21-64 .非專門適用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各組的單個器件所使用的除半導體器件之外的固體器件或其部件的制造或處理
H01L21-66 .在制造或處理過程中的測試或測量
H01L21-67 .專門適用于在制造或處理過程中處理半導體或電固體器件的裝置;專門適合于在半導體或電固體器件或部件的制造或處理過程中處理晶片的裝置
H01L21-70 .由在一共用基片內或其上形成的多個固態組件或集成電路組成的器件或其部件的制造或處理;集成電路器件或其特殊部件的制造





