[發明專利]基板處理裝置、基板處理方法以及存儲介質

有效

• 申請號: 201680044518.2
• 申請日: 2016-07-28
• 公開（公告）號: CN107851572B
• 公開（公告）日: 2022-02-18
• 發明（設計）人: 伊藤規宏;東島治郎;緒方信博;大塚貴久;道木裕一;橋本佑介;相浦一博;后藤大輔
• 申請（專利權）人: 東京毅力科創株式會社
• 主分類號: H01L21/304
• 分類號: H01L21/304;H01L21/306
• 代理公司: 北京林達劉知識產權代理事務所(普通合伙) 11277
• 代理人: 劉新宇;張會華

1.一種基板處理裝置，其中，該基板處理裝置具備：

基板保持部，其保持基板；

至少1個處理液噴嘴，其向保持到所述基板保持部的基板噴出處理液；

處理容器，其收容所述基板保持部和所述處理液噴嘴；

固定杯體，其配置于所述基板保持部的周圍，該固定杯體接受被供給到基板的至少處理液或處理液的霧，且相對于所述處理容器相對地不動；

霧防護件，其以包圍所述固定杯體的方式設置于所述固定杯體的外側，該霧防護件對越過所述固定杯體的上方而向外方飛散的液體進行阻斷；

防護件升降機構，其使所述霧防護件向第1防護高度和比所述第1防護高度低的第2防護高度升降；以及

控制部，其對所述防護件升降機構進行控制，以便在從所述處理液噴嘴向由所述基板保持部保持著的基板供給處理液時使所述霧防護件位于所述第1防護高度，在使所述基板干燥時使所述霧防護件位于所述第2防護高度，

所述霧防護件具有：筒狀的筒部；以及伸出部，其從所述筒部的上部朝向所述筒部的內側且向所述固定杯體的上方伸出，

在所述霧防護件位于所述第1防護高度時，在所述霧防護件與所述固定杯體之間形成氣流，在所述霧防護件位于所述第2防護高度時，在所述霧防護件的上方形成氣流。

2.根據權利要求1所述的基板處理裝置，其中，

在所述霧防護件的外側設置有：底板，其劃定所述處理容器內的處理空間的底部；以及排氣口，其將所述處理空間內的氣氛氣體向所述處理空間的外側排氣。

3.根據權利要求2所述的基板處理裝置，其中，

所述底板延伸到所述處理容器的側壁，所述底板的上表面以隨著靠近所述側壁而高度變低的方式傾斜。

4.根據權利要求1所述的基板處理裝置，其中，

該基板處理裝置設置有第1處理液噴嘴和第2處理液噴嘴作為所述處理液噴嘴，

所述基板處理裝置還具備：第1噴嘴臂，其保持所述第1處理液噴嘴而使所述第1處理液噴嘴移動；第2噴嘴臂，其保持所述第2處理液噴嘴而使所述第2處理液噴嘴移動；以及控制部，其對所述基板處理裝置的動作進行控制，

所述控制部在進行如下噴嘴更換操作時使所述霧防護件位于所述第1防護高度與所述第2防護高度的中間的第3防護高度：對所述第2噴嘴臂進行驅動而使所述第2處理液噴嘴從由所述基板保持部保持著的基板的外方的位置向所述基板的上方的位置前進，并且對所述第1噴嘴臂進行驅動而使所述第1處理液噴嘴從所述基板的上方的位置向所述基板的外方的位置退避。

5.根據權利要求4所述的基板處理裝置，其中，

該基板處理裝置具備：第1臂升降機構，其使所述第1噴嘴臂在第1臂高度與比所述第1臂高度低的第2臂高度之間升降；以及

第2臂升降機構，其使所述第2噴嘴臂在第3臂高度與比所述第3臂高度低的第4臂高度之間升降，

所述控制部在進行所述噴嘴更換操作時對所述第1臂升降機構進行控制而使所述第1噴嘴臂位于所述第1臂高度，對所述第2臂升降機構進行控制而使所述第2噴嘴臂位于所述第3臂高度。

6.根據權利要求4所述的基板處理裝置，其中，

該基板處理裝置還具備使保持到所述基板保持部的基板旋轉的旋轉機構，

所述控制部在進行所述噴嘴更換操作時對所述旋轉機構進行控制，在進行所述噴嘴更換操作前使基板的轉速比所述第1處理液噴嘴將處理液向基板噴出時的該轉速降低。

7.根據權利要求1所述的基板處理裝置，其中，

該基板處理裝置還具備從所述霧防護件的外側向保持到所述基板保持部的基板供給處理液的固定噴嘴，在所述霧防護件形成有通液開口，該通液開口在所述霧防護件位于所述第1防護高度時容許從所述固定噴嘴噴出來的處理液經過所述霧防護件而到達基板。

8.根據權利要求1所述的基板處理裝置，其中，

該基板處理裝置還具備：

霧防護件收容部，其收容所述霧防護件的所述筒部；以及

排出部，其將流入到所述霧防護件收容部的內部的液或氣體排出。