[發(fā)明專利]研磨墊以及研磨方法

在審

• 申請?zhí)枺?/td>: 201680038710.0
• 申請日: 2016-05-18
• 公開（公告）號: CN107708926A
• 公開（公告）日: 2018-02-16
• 發(fā)明（設(shè)計）人: 森永均;玉井一誠;田原宗明;淺井舞子;伊藤友一
• 申請（專利權(quán)）人: 福吉米株式會社
• 主分類號: B24B37/24
• 分類號: B24B37/24;B24B37/00
• 代理公司: 北京林達劉知識產(chǎn)權(quán)代理事務(wù)所(普通合伙)11277
• 代理人: 劉新宇,李茂家

技術(shù)領(lǐng)域

本發(fā)明涉及研磨墊以及研磨方法。

背景技術(shù)

使用例如由絨面革構(gòu)成的以往的研磨墊對表面具有凸部的研磨對象物進行研磨時，雖然能夠?qū)ρ心ο笪锏拇蟛糠直砻孢M行研磨，但是對于研磨對象物的表面中凸部的附近部分，由于研磨墊的變形性不充分，因此有時研磨墊不與其接觸，不能充分研磨。

若使用具有纖維立起的立毛部的布帛(例如參照專利文獻1)作為研磨墊，則由于立毛部的變形性高，因此可能立毛部也會接觸研磨對象物的表面中凸部的附近部分。但是，在使用了專利文獻1中公開的布帛作為研磨墊的研磨中，根據(jù)凸部的形狀、大小不同，有時不能對研磨對象物表面中凸部的附近部分進行充分研磨。

對表面具有凹部的研磨對象物進行研磨時也同樣，使用了由絨面革構(gòu)成的以往的研磨墊的研磨中、使用了專利文獻1中公開的布帛作為研磨墊的研磨中，有時不能充分研磨至凹部的內(nèi)表面。

現(xiàn)有技術(shù)文獻

專利文獻

專利文獻1：日本專利公開公報2010年第53502號

發(fā)明內(nèi)容

發(fā)明要解決的問題

因此，本發(fā)明的課題在于，解決如上所述的現(xiàn)有技術(shù)所具有的問題，提供一種在對表面具有凸部和凹部中的至少一者的研磨對象物進行研磨時，能夠充分研磨至研磨對象物的表面中凸部的附近部分、凹部的內(nèi)表面的、研磨墊以及研磨方法。

用于解決問題的方案

為了解決前述問題，本發(fā)明的一個方案的研磨墊的主旨在于，該研磨墊用于含有金屬、合金、或者金屬氧化物材料、且表面具有凸部和凹部中的至少一者的研磨對象物的研磨，所述研磨墊具有立毛部，所述立毛部是多個長度為2mm以上的纖維在基部的表面立起而成的，纖維的質(zhì)量為250g/m²以上。

另外，本發(fā)明的另一方案的研磨方法的主旨在于，使用上述一個方案的研磨墊對研磨對象物進行研磨。

發(fā)明的效果

根據(jù)本發(fā)明，在表面具有凸部和凹部中的至少一者的研磨對象物的研磨中，能夠充分研磨至研磨對象物的表面中凸部的附近部分、凹部的內(nèi)表面。

附圖說明

圖1為說明本發(fā)明的研磨墊的一個實施方式的圖。

圖2為說明表面具有凸部的研磨對象物的圖。

圖3為說明本發(fā)明的研磨方法的一個實施方式的圖，為說明對表面具有凸部的研磨對象物進行研磨的方法的圖。

圖4為說明表面具有凹部的研磨對象物的圖。

圖5為說明本發(fā)明的研磨方法的一個實施方式的圖，為說明對表面具有凹部的研磨對象物進行研磨的方法的圖。

具體實施方式

對本發(fā)明的一個實施方式進行詳細說明。需要說明的是，以下實施方式是本發(fā)明的一個示例，本發(fā)明不限于本實施方式。另外，可以對以下實施方式施加各種變更或者改良，這種施加了變更或改良的方式也包括在本發(fā)明中。

如圖1所示，本實施方式的研磨墊具有立毛部1，該立毛部是多個長度L為2mm以上的纖維12在基部11的表面立起而成的。在基部11的表面立起的長度L為2mm以上的纖維12的質(zhì)量為250g/m²以上。

使用由絨面革、無紡布、聚氨酯等構(gòu)成的以往的研磨墊對圖2所示那樣的表面具有凸部21的研磨對象物2、圖4所示那樣的表面具有凹部22的研磨對象物2進行研磨時，由于研磨墊的變形性不充分，因此存在研磨墊的形狀不能追隨凸部21、凹部22的形狀，研磨墊不與研磨對象物2的表面中凸部21的附近部分(即，凸部21的基端部的周邊部分)、凹部22的內(nèi)表面接觸，存在無法研磨的情況。

但是，若使用上述那樣構(gòu)成的本實施方式的研磨墊對表面具有凸部21和凹部22中的至少一者的研磨對象物2進行研磨，則纖維12發(fā)生變形而立毛部1凹陷，從而追隨凸部21、凹部22的形狀，因此研磨墊也能夠與研磨對象物2的表面中凸部21的附近部分、凹部22的內(nèi)表面接觸，進行充分地研磨。

需要說明的是，絨面革不具有立毛部，其是在基材上設(shè)置具有大量孔隙的發(fā)泡聚氨酯層而成的。該發(fā)泡聚氨酯層的厚度通常為1mm以下，且最大也小于2mm。

以下對本實施方式的研磨墊、研磨對象物、研磨方法等進一步詳細地進行說明。

(1)關(guān)于研磨墊