[發明專利]傳感器組合件和確定光刻系統的多個反射鏡各自的位置的方法

有效

• 申請號: 201680028907.6
• 申請日: 2016-05-02
• 公開（公告）號: CN107850849B
• 公開（公告）日: 2021-05-11
• 發明（設計）人: J.霍恩;S.克朗;L.伯杰
• 申請（專利權）人: 卡爾蔡司SMT有限責任公司
• 主分類號: G03F7/20
• 分類號: G03F7/20;G01B11/14
• 代理公司: 北京市柳沈律師事務所 11105
• 代理人: 邱軍

本發明涉及確定光刻系統(100)的多個反射鏡(M1?M6)各自的位置的傳感器組合件，其包括：多個位置傳感器裝置(140)，其中各個位置傳感器裝置(140)包括測量單元(201)、光源(203)、檢測單元(204)和信號處理單元(207)，其中當由光束照明測量單元時，該測量單元(201)提供反射鏡(M1?M6)的位置的光學位置信號；該光源(203)用光束照明該測量單元(201)；該檢測單元(204)具有通過檢測提供的光學位置信號來輸出模擬電位置信號的多個光檢測器(205)；且該信號處理單元(207)具有將所述模擬電位置信號轉換為數字電位置信號的至少一個A/D轉換器(208)，其中在真空外殼(137)中布置的集成部件中至少提供光源(203)和信號處理單元(207)；以及評價裝置(304)，其通過所述數字電位置信號確定反射鏡(M1?M6)的位置。

技術領域

本發明涉及傳感器布置和確定光刻設備的多個反射鏡各自的位置的方法，光刻設備的投射系統，以及光刻設備。傳感器布置包括提供反射鏡的位置信號的至少一個位置傳感器設備，和根據位置信號確定反射鏡位置的評估設備。

通過引用將優先權申請DE 10 2015 209 078.7的全部內容并入本文。

背景技術

微光刻用于制造微結構部件，例如集成電路。通過具有照明系統和投射系統的光刻設備執行微光刻工藝。通過照明系統照明掩模(掩模母版)，在這種情況下，通過投射系統將該掩模的像投射至涂有感光層(光刻膠)且布置在投射系統的像平面中的基板(例如硅晶片)上，用以將掩模結構轉印至基板的感光涂層。

由在集成電路制造中更小的結構的期望驅動，目前在EUV光刻設備的發展中，光刻設備使用的光的波長在0.1nm至30nm的范圍中，尤其是13.5nm。在這種EUV光刻設備的情況中，因為該波長的光被大多數材料的高吸收，不得不使用反射光學單元，也就是說反射鏡，替代前述的折射光學單元，也就是說透鏡元件。為了相同的原因，束形成和束投射應當在真空中進行。

反射鏡可以例如固定至支承框架(力框架)且配置為至少部分可以操作的或可以傾斜的，以便允許各反射鏡在最高六個自由度的運動，并且因而允許反射鏡相對于彼此的高精度定位，尤其在pm的范圍中。這允許例如在操作光刻設備期間例如作為熱影響的結果發生的光學性質的改變得以校正。

為了尤其在六個自由度位移反射鏡的目的，通過控制回路致動的致動器分配給反射鏡。監控各反射鏡的傾斜角度的設備設置為控制回路的一部分。

文件WO 03/052511 A2披露了在微光刻投射曝光設備中的成像裝置。成像裝置具有至少一個光學元件和具有操縱光學元件的位置的線性驅動器的至少一個操縱器。這里，線性驅動器具有在移動軸線方向上相對于彼此可移動的驅動部分或非驅動部分，其中經由具有至少近似垂直于移動軸線的有效方向的功能性元件和經由具有至少平行于移動軸線的有效方向的功能性元件，所述部分至少間歇性地彼此連接。

另外，已知的是通過光學編碼器捕獲附接到反射鏡的參考圖案。這種光學編碼器供應低電壓信號，該低電壓信號相對于彼此以90°相位移動并且也稱為A信號和B信號，但是這些相位移動的電壓信號易受到噪聲影響。再次，光學編碼器供應關于開啟位置或參考位置的模糊的相對位置(精確位置)，而不是唯一的絕對位置(近似位置)。所以，需要其他的位置傳感器用于開啟位置。

發明內容

在此背景下，本發明的目的是改善光刻設備的至少一個反射鏡的位置的確定。