[發(fā)明專利]基板除電機(jī)構(gòu)及使用其的真空處理裝置有效
| 申請?zhí)枺?/td> | 201680028123.3 | 申請日: | 2016-05-13 |
| 公開(公告)號: | CN107532291B | 公開(公告)日: | 2019-08-20 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | 廣野貴啟 | 申請(專利權(quán))人: | 株式會社愛發(fā)科 |
| 主分類號: | C23C14/58 | 分類號: | C23C14/58;C23C16/56 |
| 代理公司: | 中國專利代理(香港)有限公司 72001 | 代理人: | 李婷;劉林華 |
| 地址: | 日本神*** | 國省代碼: | 日本;JP |
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| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 成膜 放電電極 基板除電 磁鐵 放電 除電 殼體 基板輸送方向 真空處理裝置 處理區(qū)域 方式配置 放電氣體 結(jié)構(gòu)效率 磁控管 帶電量 正交的 直線狀 基板 膜狀 配置 施加 | ||
本發(fā)明提供一種技術(shù),該技術(shù)在真空中對膜狀的基板等進(jìn)行成膜等的處理的裝置中,能夠不給處理區(qū)域帶來影響而以簡單的結(jié)構(gòu)效率良好地進(jìn)行除電。本發(fā)明是一種對在真空中被輸送的成膜用膜(10)借助磁控管放電進(jìn)行除電的基板除電機(jī)構(gòu)。在本發(fā)明中,具有:殼體(51),被導(dǎo)入放電氣體;直線狀的放電電極(53),在殼體(51)內(nèi)以相對于基板輸送方向正交的方式配置,被施加規(guī)定的電壓;磁鐵(54A),被配置在放電電極(53)的附近;將磁鐵(54A)配置成使得對應(yīng)于成膜用膜(10)上的帶電量的分布產(chǎn)生放電。
技術(shù)領(lǐng)域
本發(fā)明涉及在真空中將基板除電的技術(shù),特別涉及將膜狀的處理基板除電的技術(shù)。
背景技術(shù)
以往以來,已知有以下這樣的卷取式真空蒸鍍裝置,該裝置一邊將從送出輥連續(xù)地送出的長尺寸的膜狀的基板卷繞到冷卻用罐形輥上,一邊使來自與該罐形輥對置配置的蒸發(fā)源的蒸發(fā)物質(zhì)蒸鍍到原料膜上,將蒸鍍后的原料膜利用卷取輥卷取(例如參照專利文獻(xiàn)1)。
在這樣的卷取式真空蒸鍍裝置中,因殘留在膜上的電荷的影響,而在卷取輥上的膜的卷取時(shí),產(chǎn)生在膜上發(fā)生褶皺、不能被適當(dāng)?shù)鼐砣〉膯栴}。
所以,為了消除該問題,提出了設(shè)置將成膜后的膜借助等離子處理除電的除電單元、在膜的卷取前將在膜上帶電的電荷用該除電單元除去的方法(參照專利文獻(xiàn)2)。
另一方面,在這樣的以往技術(shù)中,由于在膜上形成薄膜后,經(jīng)由多個(gè)輥輸送到卷取輥而卷取,所以存在下述問題:膜的成膜面與輥接觸而有可能給薄膜帶來損傷。
因此,以往作為膜的行進(jìn)機(jī)構(gòu),提出了以下的結(jié)構(gòu):在截面圓形形狀的導(dǎo)引輥的輥主體上,將外徑比輥主體大的截面圓形形狀的導(dǎo)引部隔開規(guī)定的間隔地設(shè)置兩個(gè),以便載置膜的兩邊緣部;并且,在具有與該導(dǎo)引輥的旋轉(zhuǎn)軸平行的旋轉(zhuǎn)軸的輔助輥的輥主體上,隔開與導(dǎo)引輥的導(dǎo)引部相同程度的間隔,設(shè)置外徑比輥主體大的截面圓形形狀的兩個(gè)導(dǎo)引部;通過將膜的兩端部用導(dǎo)引輥的導(dǎo)引部和輔助輥的導(dǎo)引部夾著而輸送,而不會對形成在膜上的薄膜帶來損傷而穩(wěn)定地輸送(參照專利文獻(xiàn)3)。
但是,在使用這樣的行進(jìn)機(jī)構(gòu)輸送膜的情況下,有在被導(dǎo)引輥和輔助輥夾著的膜的兩端部、由靜電導(dǎo)致的帶電量變得比中央部分大的問題。
因此,在使用這樣的行進(jìn)機(jī)構(gòu)將膜輸送、成膜的情況下,如果使用上述除電單元,則由于借助在膜的寬度方向上均勻地產(chǎn)生的等離子進(jìn)行除電,所以存在下述課題:不能將帶電量大的部分充分地除電,另一方面,如果想要使由放電帶來的等離子變強(qiáng)來將帶電量大的部分充分地除電,則有可能給膜上的成膜區(qū)域帶來影響,并且放電電極的消耗量及耗電變大,進(jìn)而如果增加除電單元則裝置結(jié)構(gòu)復(fù)雜、大型化。
專利文獻(xiàn)1:日本特許第3795518號公報(bào)。
專利文獻(xiàn)2:WO2006/088024號小冊子。
專利文獻(xiàn)3:日本特許第5024972號公報(bào)。
發(fā)明內(nèi)容
本發(fā)明是為了解決上述以往技術(shù)的課題而做出的,其目的在于提供一種技術(shù),該技術(shù)在真空中對膜狀的基板等進(jìn)行成膜等處理的裝置中,能夠不給處理區(qū)域帶來影響而以簡單的結(jié)構(gòu)效率良好地進(jìn)行除電。
為了解決上述課題而做出的本發(fā)明是一種基板除電機(jī)構(gòu),其對于在真空中被輸送的處理基板,借助磁控管放電進(jìn)行除電,該基板除電機(jī)構(gòu)具有:放電用容器,被導(dǎo)入放電氣體;直線狀的放電電極,在前述放電用容器內(nèi)以相對于基板輸送方向交叉的方式配置,被施加規(guī)定的電壓;磁鐵,被配置在前述放電電極的附近;將前述磁鐵配置成使得對應(yīng)于前述處理基板上的帶電量的分布產(chǎn)生放電。
利用本發(fā)明,對下述情況也是有效的:關(guān)于前述放電電極的長度方向以部分地產(chǎn)生放電的方式配置有前述磁鐵。
利用本發(fā)明,對下述情況也是有效的:將前述磁鐵配置成使前述放電電極的與前述處理基板的兩邊緣部對應(yīng)的部分產(chǎn)生放電。
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